【課題】絶縁特性に優れたシャロー・トレンチ・アイソレーション構造とそれを形成するための簡便かつ低コストな方法の提供。
【解決手段】表面の溝構造が二酸化ケイ素膜により埋設されており、前記二酸化ケイ素膜が前記基板の表面側に局在し、前記溝の底部に空孔を具備してなるシャロー・トレンチ・アイソレーション構造。このようなアイソレーション構造は、基板表面にポリシラザン組成物を塗布し、前記塗膜の表面に紫外線を照射して、塗膜の表面近傍にあるポリシラザンの一部を硬化させ、さらに前記塗膜を焼成することにより形成させることができる。 （もっと読む）

【課題】任意の量で分子中に珪素原子の導入が可能であり、ポリイミドが有する耐熱性、耐薬品、電気絶縁性、機械的強度などの特性を維持しつつ、透明性に優れ、光学的特性に優れ、シリコン基板との接着性、膨張率や弾性率などの機械的特性に優れた新規珪素含有ポリイミドおよび該珪素含有ポリイミドのフィルムならびに前記新規珪素含有ポリイミドの前駆体である珪素含有ポリアミド酸を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される構造単位を有するポリアミド酸（Ｙは四価の有機基、Ｚは二価の有機基）と特定の構造単位を含む珪素含有ポリマーとのブロック共重合体よりなる珪素含有ポリアミド酸からポリイミドを形成する。
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【課題】電子部品等の製造過程におけるパターン形成を行うのに適した印刷用インキ組成物および印刷法の提供。
【解決手段】印刷版画線部のＨｉｌｄｅｂｒａｎｄ溶解パラメーターＳＰ値がＰｐである印刷版を用いた印刷法に使用される印刷用インキ組成物であって、
前記印刷用インキ組成物が、被膜形成成分と、揮発性溶媒または不揮発性溶媒とを含んでなり、
被膜形成成分のＳＰ値および組成物中の重量濃度をＰｒ（ｉ）およびＷｒ（ｉ）、
揮発性溶媒のＳＰ値および組成物中の重量濃度をＰｖ（ｊ）およびＷｖ（ｊ）、
不揮発性溶媒のＳＰ値および組成物中の重量濃度をＰｎｖ（ｋ）およびＷｎｖ（ｋ）、
としたとき、


を満たす印刷用インキ組成物と、それを用いた印刷法。 （もっと読む）

【課題】凹凸を有する基板上に凹部の内部まで均一なシリカ質膜を形成させるための浸漬用溶液とそれを用いたシリカ質膜の製造法
【解決手段】本発明はシリカ質膜の製造過程において用いられる浸漬用溶液に関する。この浸漬用溶液は、ポリシラザン組成物塗布済み基板を焼成前に浸漬させるためのものであって、過酸化水素、気泡付着防止剤、および溶媒を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】膜中窒素濃度が低いシリカ質膜の形成方法の提供。
【解決手段】凹凸を有する基板表面にポリシラザン組成物を塗布して塗膜を形成させ、
前記塗膜のうち、基板表面に隣接した部分のみを硬化させて、前記凹凸を有する基板の形状に沿った被覆薄膜を形成させ、
前記塗膜のうち、前記被覆薄膜形成工程において未硬化のまま残ったポリシラザン組成物を除去する
ことを含んでなるシリカ質膜の形成方法。この方法により形成されたシリカ質膜は、複数堆積することもできる。 （もっと読む）

【課題】低い屈折率を有し、スィングカーブがなだらかであり、スィング比が小さい上面反射防止膜を形成するための組成物の提供。
【解決手段】親水性基を含んでなるアントラセン骨格含有化合物と溶媒とを含んでなる上面反射防止膜形成用組成物。この組成物はレジスト膜上に反射防止膜を形成させ、１６０〜２６０ｎｍの光を用いてパターンを形成させるフォトリソグラフィーに用いられる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐摩耗性、および機械強度に優れ、かつ溶融時の流動性も高い射出成形用樹脂成形物の提供。
【解決手段】５〜５０重量％のポリベンゾイミダゾール、４０〜８５重量％の芳香族ポリエーテルイミド、および５〜４０重量％の炭素繊維を含んでなる射出成形用耐熱性樹脂成形物。この樹脂成形物中に含まれる、ポリベンゾイミダゾール／芳香族ポリエーテルイミドの含有量の比は０．２〜１．２５とされる。 （もっと読む）

【課題】表面反射防止膜形成用組成物の低塗布量化を図り、これにより廃液量を減らすことにより、環境への悪影響を防止すると共に、レジストパターン形成時のコストの削減を図る。
【解決手段】少なくとも１種のフッ素含有化合物、下記一般式（１）で表される４級アンモニウム化合物（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴のうち少なくとも一つはアルカノール基を表し、その他は水素もしくは炭素数１から１０のアルキル基を表す。Ｘ^-は水酸基、ハロゲン化物イオン、硫酸イオンを表す。）、および、必要に応じ、水溶性ポリマー、酸、界面活性剤、水性溶媒からなる表面反射防止膜形成用組成物。
一般式（１）：
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【課題】従来よりも低温で、または加熱により迅速に緻密なシリカ質膜を形成させることができポリシラザン化合物含有組成物の提供。
【解決手段】ポリシラザン化合物と特定のアミン化合物と溶媒とを含んでなるポリシラザン化合物含有組成物と、それを基板上に塗布し、シリカ質物質に転化させるシリカ質物質の形成方法。特定のアミン化合物は、ふたつのアミン基の間隔が、Ｃ−Ｃ結合５つに相当する距離以上であることが好ましく、アミン基は炭化水素基により置換されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性の高い微細パターンを形成させるための組成物と、その微細パターンを形成させる方法の提供。
【解決手段】シラザン結合を有する繰り返し単位を含んでなる樹脂と、溶剤とを含んでなる微細パターン形成用組成物とそれを用いた微細パターン形成方法。 （もっと読む）