【課題】ＴＦＴ製造過程におけるフォトリソグラフィー工程を無くし、エッチング耐性が良好で、印刷プロセスマージンも広く、数十μｍ以下の解像度で印刷することが可能な、光硬化性インキ組成物と、それを用いた電子部品の製造法ならびに電子部品の提供。
【解決手段】樹脂と溶媒とを含んでなり、その樹脂は、比較的長鎖のアルキル基を含む、特定の芳香環含有樹脂である。そのアルキル鎖は、メチレン基が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−に置換されてもよく、炭素に結合したＨがＯＨまたは−ＮＨ_２に置換されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】良好な感度および解像力を有するとともに、プロセス裕度およびプロセス安定性に優れた化学増幅型感放射線性樹脂組成物を用いて、特に０．２μｍ以下の微細レジストパターンを形成する際に、マイクロブリッジ等のパターン欠陥の発生の極めて少ないパターニングを実現する。
【解決手段】化学増幅型感放射線性樹脂組成物として、組成物中のベース樹脂であるアルカリ可溶性樹脂あるいは酸解離性保護基で保護されたアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性樹脂における、多角光散乱法によるゲル透過クロマトグラフィー法により求めた重量平均分子量のポリスチレン換算値が１００万以上の超高分子量成分が０．２ｐｐｍ以下であるものを用い、これを被加工対象２上に塗布してフォトレジスト膜３を形成した後、露光、現像することにより０．２μｍ以下の微細レジストパターン４を形成する。次いでドライエッチングを行い、半導体装置のゲート電極やホール形状、溝形状などのパターニングを行う。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの現像プロセスに使用されるアルカリ性の現像液のアルカリ濃度を高品質の現像処理が出来る様に調節する現像液の濃度調節方法および調製装置を提供する。
【解決手段】現像液の濃度調節方法では、現像液のアルカリ濃度および現像液中の炭酸塩濃度を測定し、現像処理して得られるＣＤ値が一定の値となる様な溶解能を発揮し得るアルカリ濃度と炭酸塩濃度との予め作成された関係に基づき、アルカリ濃度を調節する。また、現像液の調製装置は、調製槽、現像液を現像プロセスへ供給する供給ライン、使用済現像液を受け入れる回収ライン、新たな現像液原液を調製槽に供給する原液供給ライン、現像液のアルカリ濃度および現像液中の炭酸塩濃度を検出する濃度計、および、特定の関係に基づいて現像液原液の供給を制御する制御装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン上に水溶性樹脂組成物を用いて被覆層を形成し、ミキシングによりレジストパターンに隣接する該被覆層を変性させることによって、レジストパターン表面に水洗で除去出来ない変性層を形成し、これによりレジストパターンを太らせ、レジストパターンの分離サイズまたはホール開口サイズを実効的に露光波長の限界解像以下に微細化することのできる微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物において、架橋剤を用いなくてもパターン縮小量が大きく、かつ不溶物による現像欠陥やマイクロブリッジなどの発生が低減された微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明の微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物は、水溶性ビニル樹脂、分子内に少なくとも２個のアミノ基を有する化合物、溶剤および必要に応じ界面活性剤などの添加剤からなる。 （もっと読む）

【課題】塗布が容易で、膜厚の厚い塗膜を形成することができるポリベンゾイミダゾール塗料組成物の提供。
【解決手段】混合溶媒中に粒子状のポリベンゾイミダゾールが分散されており、前記混合溶媒が、水とポリベンゾイミダゾールの溶解性が高い極性溶媒とを含んでなることを特徴とするポリベンゾイミダゾール塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマーレーザーによるパターン形成に適した、低屈折率の上面反射防止膜を形成するための組成物およびパターン形成方法の提供。
【解決手段】ナフタレン化合物、ポリマー、および溶媒を含んでなることを特徴とする、上面反射防止膜形成用組成物。この組成物は１６０〜２６０ｎｍの光によりパターンを形成するためのフォトレジスト膜の上面反射防止膜を形成するのに用いられる。 （もっと読む）

【課題】塗布性および形成されるパターン形状を改良することができる感光性樹脂組成物と、それを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、感光剤、および混合溶媒を含んでなり、前記混合溶媒がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと２０℃における蒸気圧が１５０Ｐａ以下の共溶媒とを含んでなるものであることを特徴とする感光性樹脂組成物と、それを用いてスリットコーティング法により塗布することを含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 安定したパターン形成を可能にする、導電性パターン形成方法の提供。
【解決手段】
ａ） 金属微粒子、この金属微粒子を分散媒体中で分散状態に維持する分散剤、光酸発生剤及び分散媒体を含む感光性パターン形成用組成物を用意する段階、
ｂ） 前記感光性パターン形成用組成物を基材上に塗布、乾燥して、基材上に前記組成物からなる膜を形成する段階、
ｃ） 段階ｂ）で得られた膜に放射線を照射して潜像を得る段階、
ｄ） 段階ｃ）で得られた潜像を含む膜を熱処理する段階、及び
ｅ） 段階ｄ）からの熱処理した膜を現像液で処理してパターンを得る段階、
を含む、導電性パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】露光工程において膜内の反射によるパターン不良を防ぎ、かつエッチング工程における残渣の問題がない上面反射防止膜形成用組成物と、それを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】粒径が１〜１００ｎｍである微粒子と溶媒とを含んでなる上面反射防止膜形成用組成物と、それを用いて上面反射防止膜を形成させることを含んでなるパターン形成方法。これらにより、レジスト膜と上面反射防止膜とを含んでなる複合膜を形成させることができる。 （もっと読む）

【課題】安価に膜厚の厚い上面反射防止膜を形成することができる上部反射防止膜形成用組成物とそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】フッ素ポリマー、増粘剤、および溶媒を含んでなり、前記増粘剤が、前記溶媒に１重量％の濃度で溶解させた場合の動粘度が２５℃において１．５〜２０ｍｍ^２／ｓである反射防止膜形成用組成物とそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）