【課題】パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても平坦性、光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れた高解像度のパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、下記の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）からなり、各成分の構成割合が（Ａ）１００質量部に対して（Ｂ）５〜５０質量部及び（Ｃ）１〜４０質量部に設定されている。成分（Ａ）：フマル酸ジエステル単量体から誘導される構成単位（ａ１）、芳香族ビニル単量体から誘導される構成単位（ａ２）、α，β−不飽和カルボン酸単量体から誘導される構成単位（ａ３）及び（メタ）アクリル酸エステル単量体から誘導される構成単位（ａ４）からなる共重合体。成分（Ｂ）：キノンジアジド基を有する感光剤。成分（Ｃ）：２個以上のエポキシ基を有する硬化剤。 （もっと読む）

【課題】スリット塗布を行った後減圧乾燥または真空乾燥による方法を用いることなく自然乾燥した場合にも、短時間の乾燥で、塗布ムラがなく、塗布膜厚が均一で、露光、現像後のレジストパターンの形状が良好な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物として、アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド基を含んだ感光剤およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ａ）と沸点が１４５℃以下かつ酢酸ｎ−ブチル蒸発速度が５０以上の溶剤（Ｂ）との混合溶剤を含む感光性樹脂組成物を用い、これを基板上にスリットコーティングし、減圧乾燥または真空乾燥による方法を用いることなく乾燥し、その後露光、現像することによりレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】表面欠陥の発生を抑制したパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光後、レジスト表面に酸性の膜を形成させてから、加熱処理を行い、現像をするパターン形成方法。ＡｒＦエキシマーレーザーなどの短波長光や液浸リソグラフィーなどの非常に微細なパターンを形成する場合に用いられる。 （もっと読む）

【課題】
この発明は半導体産業で使用されるフォトレジスト材料のスイング曲線の振幅を低減する光吸収性の最上反射防止層に関する。
【解決手段】
このコーティングは水をベースにしているが、必ずしもそうではない。水をベースにするコーティングの利点は使い易さにある。何故なら、このコーティングをソフトベークしたフォトレジストと混合することなく塗布でき、現像工程で除去できるので、処理の複雑さが最小に増加するだけであるからである。既存の非吸収性の反射防止コーティングに付随する一つの問題は、スイング曲線の最適な減少が非常に低い屈折率でのみ達成される点にある。着色されたコーティングの利点は、ａ）色素を慎重に選べば、異常分散の効果を利用して、最上コートの屈折率を更に低下させることができること、およびｂ）最上コートの屈折率が高いところでスイング曲線を最適に低減させることができることにある。これ等の二つの効果を組み合わせて、この発明はスイング曲線が理論的な最小値に近づき、これが既存の反射防止の最上コートより著しい改善となることを示している。 （もっと読む）

【課題】高速スリット塗布を行った場合にも、塗布ムラがなく、塗布膜厚が均一で、被膜の剥離もない、固形分含有量が高いスリット塗布用感光性樹脂組成物およびこれを用いたフラットパネルディスプレイを提供する。
【解決手段】ｍ−またはｐ−位に置換基を有するフェノール性化合物を用いて合成され、かつ重量平均分子量（Ｍｗ）が３，０００〜１６，０００で、ｏ−ｏ’結合率が２０％以上、３０％以下のアルカリ可溶性ノボラック樹脂、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルなどの感光剤、必要に応じフェノール性化合物、活性剤を含む感光性樹脂組成物を、スリットコーターを用いて基板上にスリット塗布する。２００ｍｍ／ｓｅｃ以上の塗布速度で塗布しても、膜厚が均一で、塗布ムラのない塗膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジスト基板表面に残存するレジスト残渣を効率的に除去でき、かつパターンの微細化も可能なレジスト基板処理液およびそれを用いたレジスト基板の処理方法の提供。
【解決手段】現像済みフォトレジストパターンを有するレジスト基板を処理するためのレジスト基板処理液であって、現像後のフォトレジストパターンを溶解しない溶媒と、前記溶媒に溶解しえるポリマーとを含んでなるレジスト基板処理液。現像処理後のレジスト基板を、このレジスト基板処理液に接触させ、水などのリンス液による洗浄することによって、基板表面のレジスト残渣を効率的に除去することができる。溶媒には水が好ましく用いられ、ポリマーには水溶性ポリマーが好ましく用いられる。 （もっと読む）

【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）間移動触媒を含有する有機溶媒層と水性溶媒層との二層状態を作り、前記有機溶媒層に一般式（１）：ＲＳｉＸ₃（式中、Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₅の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₅のアルケニル基、又はアリール基を表し、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表す。）で表されるトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００以下のシルセスキオキサンを製造し、（Ｂ）得られたシルセスキオキサンをアシル化剤を用い、例えばフリーデル−クラフツ反応によりアシル化することによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたシルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、硬化することにより、耐熱性絶縁パターン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）Ｒ¹ＳｉＸ₃（式中、Ｒ¹は、Ｃ₁〜Ｃ₅の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₅のアルケニル基、又はアリール基を表し、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表す。）で表されるトリハロシランをアシル化して、アシル化されたトリハロシランを製造し、（Ｂ）層間移動触媒を含有する有機溶媒層と、水あるいは水とアルコール及び／又はグリコールとの混合水性媒体との二層状態を作り、前記有機溶媒層に前記アシル化されたトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたアシル化シルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、加熱、硬化することにより、耐熱性パターン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】形成済みフォトレジスト層に直接塗布することができるコーティング組成物の提供。
【解決手段】フォトレジスト樹脂を含んでなる被膜上に直接被覆層を形成させるための、特定の有機意溶剤を含むコーティング組成物。フォトレジスト樹脂のハンセン溶解度パラメーターの分散項をσ_ｄ、極性項をσ_ｐ、水素結合項をσ_ｈとし、前記組成物に含まれる有機溶剤のハンセン溶解度パラメーターの分散項をσ^Ｓ_ｄ、極性項をσ^Ｓ_ｐ、水素結合項をσ^Ｓ_ｈとしたとき、
Ｒ＝［（σ_ｄ−σ^Ｓ_ｄ）^２＋（σ_ｐ−σ^Ｓ_ｐ）^２＋（σ_ｈ−σ^Ｓ_ｈ）^２］^１／２
により定義されるパラメーターＲが７．５以上である有機溶剤を、無機および有機溶剤の総重量を基準として９０重量％より多く用いる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び接着性を向上させたフォトレジスト組成物、これを用いた金属パターンの形成方法、及び表示基板の製造方法が開示される。
【解決手段】フォトレジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂約５重量％から約５０重量％、キノンジアジド系化合物約０．５重量％から約３０重量％、硬化剤約０．１重量％から約１５重量％及び有機溶剤を含む。これによって、鮮明なフォトレジストパターンを形成して、下部膜のパターニングの信頼性を向上させることにより、製造工程の信頼性を向上させることができる。 （もっと読む）