【課題】 ドレイン電流を増加させたｎ型電界効果トランジスタ、およびそのトランジスタの簡単かつ低コストな製造方法の提供。
【解決手段】 窒化ケイ素質膜を具備してなるｎ型電界効果トランジスタであって、その窒化ケイ素質膜が、ポリシラザン化合物を含む塗布液を塗布し、焼成することによって形成されたものであるｎ型電界効果トランジスタ、およびその製造方法 （もっと読む）

【課題】現像後のパターン表面の欠陥を改良するための現像後レジスト基板処理液およびそれを用いたレジスト基板の処理方法の提供。
【解決手段】窒素含有水溶性ポリマーまたは酸素含有水溶性ポリマー、例えばポリアミン、ポリオールまたはポリエーテルと、溶媒とを含んでなることを特徴とするレジスト基板処理液、ならびに現像処理後のレジストパターンを、そのレジスト基板処理液により処理し、純水により洗浄をさらに行うことを特徴とするレジスト基板の処理方法。 （もっと読む）

【課題】製造コストや製造効率を大きく損なうことなく、パターンを微細化する方法と、微細なレジストパターン、ならびにそれを達成するためのレジスト基板処理液の提供。
【解決手段】現像処理後のレジストパターンを、アミノ基含有水溶性ポリマー、特に３級ポリアミンを含んでなるレジスト基板処理液により処理することにより、前記現像処理により形成されたレジストパターンの実効サイズを縮小する工程を含んでなることを特徴とする、微細なレジストパターンの形成方法と、それにより製造されたレジストパターン。 （もっと読む）

【課題】 簡単な組成で、しかも従来から慣用の光源のいずれも使用することができる、金属微粒子分散液からなるパターン形成用組成物、及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 金属微粒子及びそれを分散状態に保つ分散剤を含む金属微粒子分散液からなる光感受性ネガ型パターン形成用組成物であって、前記分散剤が、それ自身が感光して金属微粒子から遊離し、分散状態の解除を引き起こすことができる光感受性分散剤であることを特徴とする、上記光感受性ネガ型パターン形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】塗布時、筋斑などの形成のないＬＣＤ−ＴＦＴ基板製造用吐出ノズル式塗布法フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）感光剤、および（Ｃ）一般式（１）：ＣＨ_２＝ＣＲ^１ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ_８Ｆ_１７（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基）で表されるフッ素化アルキル基含有単量体（ｍ１）と、一般式（２）：ＣＨ_２＝ＣＲ^２ＣＯＯ（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｎＨ（式中、Ｒ^２は水素原子又はメチル基、ｎは分布の平均値として４〜７）で表されるポリオキシプロピレン鎖含有単量体（ｍ２）からなる単量体混合物（ｍ）を重合して得られる共重合体（Ｐ）であって、前記単量体混合物（ｍ）中の前記単量体（ｍ１）および（ｍ２）の混合比（ｍ１）／（ｍ２）が２５／７５〜４０／６０（重量比）であり、且つ前記共重合体（Ｐ）の重量平均分子量が３，０００〜１０，０００であるフッ素系界面活性剤を含有する吐出ノズル式塗布法用フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】固形分含有量をさげることなく、スリットコーティングにおける高速塗布を可能とするフォトレジスト用溶媒と、スリットコーティングにより高速塗布が可能なフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】スリットコーティング法により基板上に塗布されるフォトレジスト組成物に用いられるフォトレジスト用溶媒であって、その溶媒の重量を基準として１０重量％以上が、２０℃における粘度が１．１ｃｐ以下の低粘度溶媒であることを特徴とする、フォトレジスト用溶媒、ならびに前記溶媒とアルカリ可溶性樹脂、および感光性物質を含んでなるフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンのエッチング耐性および剥離性を維持したうえで、塗布性を高めた印刷用硬化性樹脂組成物と、それを用いた十分に微細で、かつ良好な形状を有するパターンを転写する方法の提供。
【解決手段】樹脂と、オキセタン化合物と、有機溶媒とを含んでなることを特徴とする、印刷用硬化性樹脂組成物と、それを用いて凸版反転印刷法によりレジストパターンを転写する方法。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄液中の防食剤の効果を長期間維持させることによって、銅配線を腐食させずに多数の基板を洗浄することができる基板洗浄液を提供する。
【解決手段】フッ化物塩、防食剤、界面活性剤、および、水系溶媒を含有する基板洗浄液であって、前記防食剤をトリアゾール化合物とし、界面活性剤を、ポリエーテルポリオール、アルキルベタイン、リン酸エステル化合物、および、ポリスチリルフェニルエーテルからなる群から選ばれる一種以上とする。 （もっと読む）

【課題】低エネルギーで金属を含む機能膜をレーザーアブレーション法により製造する方法と、それに用いる組成物の提供。
【解決手段】基板上１０１に、金属元素を含んでなる微粒子１０３と有機分散媒１０４とを含んでなるレーザーアブレーション加工用組成物を塗布して前記組成物の層１０２を形成させ、レーザー光を像様に照射して、照射された部分の前記組成物を除去し、基板上に残留する前記組成物の層を焼成することを含んでなることを特徴とする、レーザーアブレーションによる機能膜の製造法と、それに用いるレーザーアブレーション加工用組成物。 （もっと読む）

【課題】製造コストや製造効率を大きく損なうことなく、現像済みレジストパターンを微細化する方法と、微細化されたレジストパターンの提供。
【解決手段】現像処理後のレジストパターンを、非イオン性界面活性剤、好ましくはポリエーテル系界面活性剤を含んでなる処理液に６０秒以上接触させることにより、前記現像処理により形成されたレジストパターンの実効サイズを縮小する工程を含んでなることを特徴とするパターン形成方法と、それにより製造されたレジストパターン。 （もっと読む）