【課題】 微細パターン形成材料を用いて実効的にレジストパターンを微細化する方法において、架橋膜膜厚を抑え、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法の提供。
【解決手段】 水溶性樹脂、水溶性架橋剤、および、水または水と水溶性有機溶媒との混合液からなる溶媒を含有する微細パターン形成材料とアミン化合物含有現像液を用いて、架橋膜膜厚を抑えた、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法。アミン化合物含有現像液は、ポリアリルアミン、モノメタノールアミン、モノエタノールアミン等の第１級アミン化合物、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジメタノールアミン、ジエタノールアミン等の第２級アミン化合物、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリメタノールアミン、トリエタノールアミン等の第３級アミン化合物、水酸化テトラメチルアミン等の第４級アミン化合物が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 引き置きによるパターンの寸法変動を抑制し、精度よいパターンを再現性よく製造する方法の提供。
【解決手段】 （１）基板上にポリシラザン化合物および光酸発生剤を含んでなる感光性組成物の塗膜を形成させる工程、（２）塗膜を像様露光する工程、（３）塗膜を弱アルカリ性水溶液に浸漬する工程、および（４）現像する現像工程を含んでなるパターン形成方法、およびそれにより得られたパターンを焼成してシリカ質膜を製造する方法。このシリカ質膜は、半導体デバイスに応用することができる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン上に微細パターン形成材料を塗布して架橋被覆層を形成し、実効的にレジストパターンの分離サイズ又はホール開口サイズの縮小を行い、レジストパターンの微細化を図る方法において、微細パターン形成材料に含まれる水溶性架橋剤の量を増減させることなく、また加熱温度を増減させることなく、架橋被覆層の膜厚の制御を行うとともに、微細パターン形成材料の塗布性を改善する。
【解決手段】ポリビニルアルコール誘導体などからなる水溶性樹脂、メラミン誘導体、尿素誘導体などからなる水溶性架橋剤、アミン化合物、非イオン性界面活性剤及び水又は水と水溶性有機溶媒との混合溶液であって、該溶液のｐＨが７を越える微細パターン形成材料を、レジストパターン３上に塗布し、被覆層４を形成し、加熱後現像して架橋被覆層５を形成する。第２級アミン化合物及び／又は第３級アミン化合物の使用により、アミンを添加しない場合に比べ架橋被覆層の膜厚は増大し、第４級アミンの使用により架橋被覆層の膜厚は減少する。 （もっと読む）

厚膜並びに超厚膜対応化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物であって、（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）アルカリ可溶性アクリル系樹脂、（Ｃ）アセタール化合物および（Ｄ）酸発生剤を含有する、磁気ヘッドの磁極やバンプの形成など厚膜レジストパターンの形成に適した化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物。アセタール化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位（式中、Ｒは炭素数１〜２０の飽和アルキル基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。）を繰り返し単位として有する重縮合物が好ましい。

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【課題】 絶縁特性に優れたシリカ質膜の製造法とそれに用いられるコーティング組成物の提供。
【解決手段】 数平均分子量が１００〜５０，０００の、パーヒドロポリシラザンまたは変性パーヒドロポリシラザンと、ケイ素原子に対するアルミニウム原子のモル比で１０ｐｐｂ以上１００ｐｐｍ以下のアルミニウム化合物とを含むコーティング組成物と、それをを基板に塗布し、水蒸気、酸素、またはそれらの混合ガスを含む雰囲気中で焼成することを特徴とするシリカ質膜の製造法。 （もっと読む）

微細パターン形成材料を用いて実効的にレジストパターンを微細化する方法において、水のみを用いての現像によって現像欠陥の発生が低減された硬化被覆層パターンを形成することのできる微細パターン形成材料とそれを用いた微細パターンの形成方法を提供する。この微細パターン形成材料は、水溶性樹脂、水溶性架橋剤、および、水または水と水溶性有機溶媒との混合液からなる溶媒を含有し、前記微細パターン形成材料がアミン化合物を含んでなることを特徴とする。アミン化合物は、ヒドラジン、尿素、アミノ酸、グルコサミン誘導体、またはポリアリルアミン誘導体からなる第１級アミン化合物およびそれらのジメチルアンモニウム塩、トリメチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、ジメチルエチルベンジルアンモニウム塩またはＮ−メチルピリジニウム塩からなる第４級アミン化合物が好ましい。 （もっと読む）

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基を有する感光剤並びに硬化剤を含んでなる感光性樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂がアクリル系樹脂であり、硬化剤がエポキシ基を含む硬化剤であり、さらに前記感光性樹脂組成物がカルボン酸を含んでなる感光性樹脂組成物、およびこの感光性樹脂組成物を用いて形成された平坦化膜あるいは層間絶縁膜を具備してなるフラットディスプレィパネルまたは半導体素子。前記カルボン酸としては、Ｃ_１２〜_１８の飽和脂肪酸、Ｃ_１２〜Ｃ_２４の不飽和脂肪残が好ましい。 （もっと読む）

感光性組成物を簡便に、かつ十分な感度および解像度を保ちながら現像する現像液と、それによるパターン形成方法を提供する。この現像液は、アミン−Ｎ−オキシド基、スルホン酸塩基、硫酸塩基、カルボン酸塩基、およびリン酸塩基からなる群から選ばれる親水性基を有する化合物を含んでなるものであり、特にケイ素を含有するポリマーを含む感光性組成物の現像に用いられるものである。本発明はそれを用いたパターン形成方法にも関するものである。 （もっと読む）

本発明は、有機溶剤としてベンジルアルコールまたはその誘導体を含んでなるレジスト組成物を提供するものである。本発明は、レジストを除去するための、ベンジルアルコールまたはその誘導体を含んでなる有機溶剤も提供する。本発明のレジスト組成物は、ＵＶ光で照射することにより、照射部分と非照射部分との間の溶解度の差を利用する、微小パターンを形成するためのリソグラフィー法に使用し、薄膜を塗布した時の被膜厚の均質性を大幅に改良する。さらに、本発明の有機溶剤は、微小回路形成工程の際に感光性材料と接触するデバイスを、デバイスから感光性材料を除去することにより、洗浄するのに使用することができる。本有機溶剤は、感光性材料が塗布されている基材の好ましくない部分上に残留する感光性材料を除去することもできる。 （もっと読む）