【課題】枠体を設けることなく、周面の気孔からの対象ガスの漏出、周面のカケを防止できるとともに、軽量化、コストダウンを図ることができ、さらに、設置面積当りのガス通過面積を拡大できるセラミックフォームを提供する。
【解決手段】本セラミックフォームは内部が三次元網目構造であるセラミックフォームの多孔質部と、この多孔質部の周面に内部と同質材料で形成され、多孔質部の気孔を封止する非多孔質部と、この非多孔質部近傍の多孔質部にセラミックフォーム固定用の固定子貫通孔が設けられる。 （もっと読む）

【課題】接合体の機械的強度を向上させることができると共に、接合されるＳｉＣ多孔体内部へのＳｉ浸透長さを制御し、ＳｉＣ多孔体表面における余剰Ｓｉの析出を抑制したＳｉＣ多孔体の製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＣ多孔体１と、ＳｉＣ基材にＳｉが含浸されたＳｉＣ−Ｓｉ複合体２のいずれかあるいは両方に、ＳｉＣ粉体及びバインダー成分からなる粘着性ペースト３を塗布し、これらを密着させる工程と、前記ペースト３の揮発成分を蒸発させることで、前記ＳｉＣ多孔質体とＳｉＣ−Ｓｉ複合体の間に多孔質ＳｉＣからなる接着層３を形成させる工程と、前記工程の後、熱処理により、ＳｉＣ−Ｓｉ複合体中のＳｉを前記接着層３に浸透させることで、前記接着層３を緻密化する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】安定した原子レベルの平坦面（テラス）を有する半導体ウェーハおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体の表面に絶縁膜が形成された半導体ウェーハであって、半導体と絶縁膜の界面が、平坦面（テラス）が結晶面に平行な面で構成される段差（ステップ）構造を有し、界面の任意の３μｍ×３μｍの領域を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の測定領域とした場合に、この測定領域において、段差に概ね垂直方向の、概ね０．３μｍ間隔の１０本の測線に沿って測定された平坦面の幅（テラス幅）の測定値の９０％以上が５０ｎｍ以上であり、測定領域において、段差に概ね垂直方向の１０本の測線に沿って測定された前記段差の高さ（ステップ高さ）の測定値の９０％以上が１原子層分の高さであることを特徴とする半導体ウェーハおよびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】平坦面（テラス）が結晶面である段差（ステップ）構造を有する半導体ウェーハの表面構造を、広範囲に短時間で評価できる半導体ウェーハの評価方法および評価装置を提供する。
【解決手段】平坦面（テラス）が結晶面である段差（ステップ）構造を有する半導体ウェーハの評価方法であって、近接場光を、半導体ウェーハ上を走査しながら照射する手順と、半導体ウェーハから生じるラマン散乱光を受光する手順と、受光したラマン散乱光を分光器により分光しラマンスペクトルを導出する手順と、導出したラマンスペクトルから平坦面の幅（テラス幅）を算出する手順を有することを特徴とする半導体ウェーハの評価方法およびこれを実現する評価装置。 （もっと読む）

【課題】高周波誘導を抑制するアース電極を内蔵することによって高周波誘導発熱を抑制すると共に、励起した反応ガスによって浸食されない面状ヒータ及びこれを備えた半導体熱処理装置を提供する。
【解決手段】面状ヒータ１は、シリカガラス板状体２内部に平面状に配置、封止されたカーボンワイヤー発熱体ＣＷと、前記カーボンワイヤー発熱体ＣＷの上方のシリカガラス板状体２内部に、平面状に配置、封止されたアース電極３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】超紫外光リソグラフィにおけるマスクまたはミラー材等の光学用部材として好適に使用することができる、実質的に無気泡の透明なチタニア−シリカガラスを効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】ＶＡＤ法で作製したチタニア１〜１０重量％を含むチタニア−シリカ多孔体を、加熱処理してチタニア−シリカ仮焼体とし、前記チタニア−シリカ仮焼体を、カーボン製型を用いて、真空雰囲気下、１６００〜１８００℃、０．１〜１ＭＰａで透明化処理を行うことにより、チタニア−シリカガラスを製造する。 （もっと読む）

【課題】絶縁層上にデバイス形成用の半導体単結晶層を有する半導体基板において、絶縁層と半導体単結晶層の界面のラフネスを抑制することにより、デバイス特性を向上させる半導体基板および半導体基板の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ上に絶縁層が形成され、絶縁層上にデバイス形成用の半導体単結晶層が形成された半導体基板であって、半導体単結晶層と絶縁層の界面が、平坦面（テラス）が半導体単結晶層の結晶面に平行な面で構成される段差（ステップ）構造を有することを特徴とする半導体基板および半導体基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩの微細化に適した、原子レベルの平坦面を有するシリコンウェーハおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 平坦面（テラス）が結晶面である段差（ステップ）構造を有するシリコンウェーハであって、シリコンウェーハ表面の任意の３μｍ×３μｍの領域を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の測定領域とした場合に、この測定領域において、段差に概ね垂直方向の、概ね０．３μｍ間隔の１０本の測線に沿って測定された平坦面の幅（テラス幅）の測定値の９０％以上が５０ｎｍ以上であり、測定領域において、段差に概ね垂直方向の１０本の測線に沿って測定された前記段差の高さ（ステップ高さ）の測定値の９０％以上が１原子層分の高さであることを特徴とするシリコンウェーハ。 （もっと読む）

【課題】低熱膨張の透明ガラスであって、特に、超紫外光リソグラフィにおけるフォトマスクまたはミラー材として使用される際、その使用温度である０〜１００℃の広範囲の温度において熱膨張係数が低く、かつ、その面内均質性および安定性に優れたチタニア−シリカガラスを提供する。
【解決手段】チタニア８〜１０重量％およびシリカ９０〜９２重量％からなり、３価のチタンイオン濃度が１０〜６０重量ｐｐｍである構成を有するチタニア−シリカガラスを用いる。 （もっと読む）

【課題】血液または血漿を浄化する治療において、シリカゲルを用いて、血液または血漿等の液体中に含まれるアンモニアを効率的に除去することができる方法を提供する。
【解決手段】比表面積３００ｍ²／ｇ以上１０００ｍ²／ｇ以下であるシリカゲルに、血液または血漿を接触させる、あるいはまた、前記シリカゲルが収容された容器内に、アンモニアを含有する血液または血漿を流通させ、前記容器から排出される血液または血漿中のアンモニアを減少させる。 （もっと読む）