【課題】半導体フォトマスク用石英ガラス基板の製造工程において、基板洗浄後の乾燥時に、基板上に付着粒子を残さず基板を効果的に清浄化すると共に、コスト低減を図る。
【解決手段】基板Ｓを処理液Ｌに浸漬し基板洗浄を行う基板洗浄装置１であって、上端が開放され、基板を収容する洗浄槽２と、前記洗浄槽２内において基板Ｓを直立状態に保持する基板保持手段３と、槽内上部に設けた処理液導入口から、処理液Ｌを槽内に導入する処理液導入手段９と、前記洗浄槽２の底部から槽内の処理液Ｌを排出する処理液排出手段５と、前記処理液排出手段５により排出された処理液Ｌを浄化し、前記処理液導入手段９に浄化済処理液Ｌを供給する浄化手段７と、前記処理液導入手段９に対し新たに処理液Ｌを追加供給する処理液追加手段１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】リチャージ管を長大化させることなく固形状原料の充填量を増やすことにより、単結晶の生産性を向上させ、製造コストを低減することを可能とするリチャージ装置およびこれを用いたリチャージ方法を提供する。
【解決手段】結晶融液を貯留するルツボを有する単結晶製造装置に設けられ、ルツボに固形状原料を充填するための固形状原料のリチャージ装置２００であって、リチャージ装置２００に備えられたリチャージ管２０１が、リチャージ管上部２０１ａ、リチャージ管下部２０１ｃ、および、リチャージ管上部２０１ａと前記リチャージ管下部２０１ｃとの間に設けられたテーパ部２０１ｂによって構成され、リチャージ管上部２０１ａの外径が、リチャージ管下部２０１ｃの外径よりも大きいことを特徴とする固形状原料のリチャージ装置２００およびこれを用いたリチャージ方法。 （もっと読む）

【課題】研削砥石の構成を改良することにより、良好な表面粗さと、うねりのない平面を両立させる研削砥石およびこれを備えた研削装置ならびにこれを用いる研削方法を提供する。
【解決手段】
砥粒１２と、第１の結合材と、第２の結合材を有する研削砥石１０であって、砥粒１２が第１の結合材によって被覆され、それらの砥粒１２が第２の結合材中に分散され、第２の結合材の圧縮率が、第１の結合材の圧縮率よりも小さくなるように研削砥石が構成されている。そして、第１の結合材がレジンボンド１４であり、第２の結合材がビトリファイドボンド１６であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 溶融金属の溶解・保持に用いるラジアントチューブにおいて、溶融金属と接している浸漬管の下部と、溶融金属より熱伝達率の低い気体と接する浸漬管の上部との間で生じる熱勾配及びそれによって生じる熱応力を緩和し、浸漬管の破壊を効果的に防止し高寿命化したラジアントチューブを提供する。
【解決手段】 溶解・保持炉の炉体上部からラジアントチューブを挿入して溶融金属中に浸漬し、ラジアントチューブの内部に電気ヒーター又はバーナーから熱風を出して、溶解・保持炉内の溶融金属を間接加熱・保持するラジアントチューブにおいて、ラジアントチューブとして上端開口の円筒状の浸漬管を設け、セラミック織布製断熱筒を浸漬管の内壁面に、少なくともバーナーの下端レベルから溶融金属の液面の想定される変動領域の最下位置よりも下方のレベルまで設ける。 （もっと読む）

【課題】焼成時における寸法変化が抑制され、機械的強度にも優れ、電子部品の焼成用道具材に好適なムライト質耐火物を提供する。
【解決手段】平均粒径１〜１０μｍのアルミナ粒子７４〜８５重量％と、平均粒径１０〜２００μｍの非晶質シリカ粒子または平均粒径５〜５０μｍの結晶質シリカ粒子１５〜２６重量％とを原料とし、シリカ粒子が残留しない焼成体とすることにより、気孔率２０％以上、かつ、焼成時の寸法変化率が±１％以内であるムライト質耐火物を得る。 （もっと読む）

【課題】材料歩留がよく、製造コストが安く、かつ、高品質な大型板材の製造に適するシリカを容易に得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】管状のシリカ体１に軸方向にスリット２を形成し、スリット２が上面となるように前記シリカ体１を炉内へ載置し、前記シリカ体１の自重による粘性変形のみでこの管状のシリカ体１が板状になるまで加熱すること、また前記シリカ体１の下端と上端の温度が下端温度≧上端温度となるように加熱し、制御するシリカ板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】表面平滑性に優れ、パーティクルの発生が抑制され、かつ、優れた吸脱着性能を備えたシリカガラス材からなる静電チャックを提供する。
【解決手段】シリカガラスからなる板状の基材１と、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂およびＺｎＯのうちの少なくとも１種が０．１％以上３０％以下添加されており、体積抵抗率が１０⁸Ω・ｃｍ以上１０¹²Ω・ｃｍ以下のシリカガラス材からなる誘電層２との間に、金属電極３が埋設されている構成からなる静電チャックを作製する。 （もっと読む）

【課題】表面平滑性に優れ、パーティクルの発生が抑制され、かつ、優れた吸脱着性能を備えたシリカガラス材からなる静電チャックを提供する。
【解決手段】シリカガラスからなる板状の基材１と、Ｐ₂Ｏ₅、ＧｅＯ₂、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、ＳｒＯおよびＢａＯのうちの少なくとも１種が０．１％以上３０％以下添加されており、比誘電率が４．０以上５０以下のシリカガラス材からなる誘電層２との間に、金属電極３が埋設されている構成からなる静電チャックを作製する。 （もっと読む）

【課題】耐久性、透光性に優れたガラス製マイクロレンズアレイを安価に大量生産できるガラス製マイクロレンズアレイの製造方法を提供する。
【解決手段】本ガラス製マイクロレンズアレイ製造方法は、破砕層がないように研磨されたガラス基板にレーザ光を照射して局所的に応力を与える工程と、応力が与えられたガラス基板に等方的なドライ・エッチングあるいは等方的なウエット・エッチングを施して、局所的に応力が存在する部分をレンズ状に成形する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】酸化チタン膜に容易かつ確実にマークを付けることができるマーク付け方法を提供する。
【解決手段】本酸化チタン膜のマーク付け方法は、酸化チタン膜を形成する酸化チタンに酸素欠陥を生じさせて、酸化チタン膜にマークを付することを特徴とする。 （もっと読む）