東ソ−・エフテック株式会社により出願された特許
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フルオロエチレン化合物の製造方法
【課題】 液晶、フォトレジスト用酸発生剤、医薬、農薬等の原料として有用なフルオロエチレン化合物の高収率な製造方法を提供する。
【構成】 カルボニル化合物を、ハロゲン化フルオロメタン、ホスフィン化合物及び金属を、非プロトン性溶媒中、カルボニル化合物に対して0.1〜10mol%のブレーンステッド酸の存在下、反応させることを特徴とするフルオロエチレン化合物の製造方法。
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