説明

Fターム[2F064AA11]の内容

光学的手段による測長計器 (11,246) | 測定内容 (1,073) | 変形 (22)

Fターム[2F064AA11]に分類される特許

1 - 20 / 22


【課題】評価ユニットとたわみボディとの間に生じるノイズの影響を受けにくい、光ファイバー手段を用いた干渉法原理による、たわみ測定機器を提供すること。
【解決手段】第1の光ファイバー手段と第2の光ファイバー手段は、たわみボディにのみ配置されており、第1の光ファイバー手段および/または第2の光ファイバー手段は入力側で、ビーム源を備えた唯一の光供給ファイバーと接続されており、第1の光ファイバー手段および/または第2の光ファイバー手段は出力側で、評価回路を備えた唯一の光評価ファイバーと接続されている。 (もっと読む)


【課題】ダイナミックレンジの広い演算器が不要な干渉型光ファイバーセンサーシステムを提供する。
【解決手段】物理量を検知するセンシングファイバー11aおよびリファレンスファイバーを有する干渉計と、前記物理量の測定信号3を含む干渉光32aを、電気信号に変換するO/E変換器33と、前記電気信号から、正弦波成分および余弦波成分を抽出するAM復調器51a、51bと、該正弦波成分および該余弦波成分を用いて逆正接演算を行い、前記測定信号を含む信号を出力する逆正接演算器53と、前記逆正接演算器から出力された信号の所定時間毎の差分を算出し、該差分信号を出力する差分器61と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 光干渉信号出力をセンサ信号とするセンサでは、光干渉信号方式として、ホモダイン干渉方式があり、構成は簡単であるが、その入力となる参照光と計測光との位相関係が同位相または逆位相付近にある時にその干渉出力の歪が大きくなり、そこを避けるためには、干渉計の光路長に関係する部品には、参照光と計測光の位相関係を良好に保つために、高い工作精度と、熱膨張対策が必要であった。
【解決手段】干渉計の入力となる参照光の位相を90度変化させて、2つの位相の参照光とすることにより、一方の位相の参照光と計測光との位相関係が同相または逆相付近にあった場合には、他方の参照光と計測光の位相関係は90度近く異なることになり、必ずどちらかが歪の少ない干渉出力となることにより、前後の干渉出力から判別処理し、センサ出力とすることで、光部品の工作精度や熱膨張による位相変動を許容した光ファイバセンサを提供する。 (もっと読む)


【課題】計測物体の変位分布を高速に計測するとともに小型化が可能な変位分布計測方法、装置及びプログラムを提供する。
【解決手段】本発明による変位分布計測装置(1)は、所定の波長の光を照射するレーザ光源(11)と、照射された光を物体光と参照光とに分離するビームスプリッタ(14)と、参照光の位相を所定量だけシフトさせるミラー付きPZTステージ(20)と、位相シフトされた参照光を複数に分岐するペリクルビームスプリッタ(17,18)と、計測物体(23)により散乱された物体光と、分岐された参照光との干渉縞を撮影するCCDセンサ(15,16)とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光ドップラ方式における長さ調整用ファイバが不要で、安価な汎用部品を用いた小型のシステム構成が可能な配管の厚み測定方法および装置を提供すること。
【解決手段】予め定められた周波数帯域内を掃引して出力する電磁石発振器300と、測定対象物の動的歪みを検出する光ファイバセンサ200とを一体化して有するアクティブセンサを用意し、前記アクティブセンサを前記測定対象物である配管10に取付け、前記配管の厚み方向に0〜10MHzの間の所望周波数に指定した超音波または振動を入力し、入力した超音波または振動の反射波またはその合成波を検出し、検出した超音波または振動信号における前記配管による共振を基に前記測定対象物の厚みを測定する、配管の厚み測定方法および装置。 (もっと読む)


【課題】光ファイバや光導波路モジュールなどの光導波手段において温度変化等により発生する光導波手段の伸び歪みを効率よく測定する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】温度変化に伴う光ファイバの歪み変化を測定する場合、第1及び第2の光カプラ21、22の間に、第1及び第2の光コネクタ23、24を利用して参照用光ファイバF1及び試料用光ファイバF2が取り付けられる。常温状態(例えば、摂氏25度)において試料用光ファイバF2(第1〜第Mの試料用光ファイバF21〜F2m)が干渉を発生させる可動鏡43の位置d0m(m=1〜M)を記録する。次に恒温槽30の温度を変化させたときに干渉が発生したときの可動鏡43の位置d1m(m=1〜M)を記録する。そして可動鏡43の位置変化dm(m=1〜M)から、試料用光ファイバの長さ変化ΔLmを算出し、初期の試料用光ファイバ長Lmとの比(ΔLm/Lm)より歪みを求める。 (もっと読む)


【課題】雑音を抑制した干渉型光ファイバセンサシステムを提供。
【解決手段】物理量を検知するセンシングファイバ14aおよびリファレンスファイバ14bを有する干渉計と、干渉計からの干渉光から物理量に対応する測定信号を検出するPGC復調器59とを含む干渉型光ファイバセンサシステムにおいて、干渉光に含まれる雑音信号を低減するための雑音低減信号46aを干渉計に印加する雑音シフト信号発生器46を含み、PGC復調器59は、雑音低減信号46aにより雑音が低減された測定信号を出力する。 (もっと読む)


【課題】位相シフトデジタルホログラフィを用いた変位計測において、3次元変位計測を一挙に且つ短時間で行う手法を提供する。また、変位計測手法によって得られた変位分布からひずみ分布を算出する手法も提供する。
【解決手段】a) 計測物体に3つの異なる方向から同一波長の物体光を照射し、b) 物体光と同一波長を有する3つの参照光と計測物体からの反射光との干渉像を、各参照光の位相を互いに異なる速度で物体光に対して変化させつつ複数枚、2次元撮像素子で撮影し、c) フーリエ変換を用いて位相変化速度の異なる干渉成分を抽出することにより3つの物体光による干渉像を分離し、d) 各干渉像より、各物体光の照射方向に応じた方向の計測物体の変位分布を計測することにより計測物体の3次元変位を計測する。 (もっと読む)


【課題】 光ファイバリングの一部に印加された物理的外力とその位置を同定し、且つ光ファイバリングの切断と切断位置を検出する。
【解決手段】 光ファイバ侵入監視装置1は、波長が異なる2つの光源9,25と、この2つの光源9,25に対応して光ファイバの干渉光を検出する2種類の受光部13,29とを備えた光ファイバ振動センサ検出装置49と、この光ファイバ振動センサ検出装置49の各光源9,25と各受光部9,25に接続される第1分岐結合器51と、この第1分岐結合器51に一端側を接続した光ファイバリング干渉型の振動センサ23、29を構成する振動センサ用光ケーブル69と、この振動センサ用光ケーブル69の他端側に接続した第2分岐結合器53と、から構成され、前記振動センサ用光ケーブル69に、ケーブル切断検出用光ファイバ7を収容している。 (もっと読む)


【課題】試料照射レンズ周りを大型化することなく到達深度を向上させ、光断層イメージング装置を、内視鏡などの小型機器に適用できるようにする。
【解決手段】中心波長の異なる複数の低コヒーレント光源10A,10Bを備え、かつ、複数の低コヒーレント光源10A,10Bからの光を被測定部Sに照射したときの反射光に基づいて、被測定部Sの断層画像を得る光断層イメージグ装置1において、複数の複数の低コヒーレント光源10A,10Bとして、被測定部Sにおける深度成分の浅い断層画像を作成するための短波長の光源10Aと、被測定部Sにおける深度成分の深い断層画像を作成するための長波長の光源10Bと、を使用する。 (もっと読む)


本発明は、ジッターを有することもあり、それぞれが、Fs≠Fpである繰返し周波数FsとFpを有するポンプビームとプローブビームを受信できる2つのパルスレーザー源(10、15)と、サンプル(200)上を通過するように意図されるポンプビームおよびプローブビームを連結するための要素(20)を具備し、サンプルからの前記応答信号の光検出のためのシステム(50)と、信号チャネルに接続される、光検出信号を取得するためのシステム(70)を具備するする信号チャネル(51)から構成される光学ヘテロダインサンプリング装置(150)に関する。本発明によれば、FsとFpは実質的に一定であり、取得システムは、取得トリガー要素(71)を具備する。更に、同期チャネル(90)が上記のトリガー要素に接続され、前記チャネルは、うなり周波数|Fs−Fp|を測定し、ポンプビームおよびプローブビームのパルスが一致するたびに、パルスを具備する同期信号を生成できる装置(91)を具備する。
(もっと読む)


【課題】球面波参照光を用いた位相シフトデジタルホログラフィの再生方法と、球面波参照光を用いた位相シフトデジタルホログラフィを用いる変位分布計測方法を提供する。
【解決手段】物体の変位前後で球面波参照光の位相を所定量だけ順次シフトさせながら物体の像をCCDカメラで各々5回撮像して各々5つの干渉縞をデジタルホログラフィとして記録し、このようにして得られた各5つの干渉縞に等速位相シフト法を用いて変位前後のCCD面上での複素振幅分布を得て、これらの変位前後のCCD面上での複素振幅分布からフレネル変換によって変位前後の物体面の複素振幅分布を得て、変位前後の物体面の複素振幅分布から位相差分布を得る。 (もっと読む)


【課題】計測範囲を拡大した位相シフトデジタルホログラフィ変位分布計測装置を提供する。
【解決手段】平行なレーザ光を発生するレーザ光源手段と、前記レーザ光源手段が発生したレーザ光を2方向に分割するビーム分割手段と、前記ビーム分割手段によって分割されたレーザ光の一方から参照光を形成する参照光形成手段と、撮像手段とを具え、前記ビーム分割手段によって分割されたレーザ光の他方は、物体に反射され、物体光として前記撮像手段に入射し、前記参照光も前記撮像手段に入射し、前記撮像手段は前記物体光と前記参照光からデジタルホログラムを形成するように構成された変位分布計測装置において、前記撮像手段と物体との間に、前記物体光が通過する凹レンズを配置した。 (もっと読む)


【課題】物体の面内・面外変位を同時に計測することができる、位相シフトデジタルホログラフィを用いた変位計測方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】2光束を異なった方向から同じ入射角度で順番に変位前後の物体に投影し、参照光の位相を所定量だけ順次シフトさせながらCCDカメラで撮影し、それぞれの入射光で変位によって生じた位相分布を求め、その位相分布の差を求めることで面内変位を表す位相分布を得て、和を求めることで面外変位を表す位相分布を得る。 (もっと読む)


【課題】 高感度、かつ高精度なマイケルソン光干渉計及びこのマイケルソン光干渉系を用いた熱膨張計を提供する。
【解決手段】 マイケルソン干渉計を、レーザー発振器21と、このレーザー発振器21から発せられ、試料面S1及び基準面451でそれぞれ反射したレーザー光L11、L12を相互に干渉させ、その干渉光L4を照射面28に照射して複数の明暗パターンからなる干渉縞Iを生じさせる干渉縞発生手段とを有するマイケルソン光干渉計において、レーザー発振器41と干渉縞発生手段との間に光路差発生手段24を設け、この光路差発生手段24に入射された各レーザー光L11、L12を基準面251及び試料面S1との間で4往復させるように光路差発生手段24を構成し、この光路差発生手段24からレーザー光L11、L12を干渉させるように構成する。 (もっと読む)


【課題】測定対象となる部分が順次移動するような被検体を光干渉計測し得る動体測定用干渉計装置および動体測定用光干渉計測方法を得る。
【解決手段】撮像面33の受光許容期間内に含まれるように瞬間的撮像期間を設定する同期信号生成部43と、半導体レーザ光源11から出射された測定用光束が、この瞬間的撮像期間にのみ被検体7に照射されるためのAOM13およびAOMドライバ14とを備える。撮像カメラ32は、瞬間的撮像期間に撮像面33で受光した干渉光により、該瞬間的撮像期間における被検体7の位相情報を担持した干渉縞画像情報を得る。 (もっと読む)


【課題】互いに異なる方向からの2光束照射に係る各々の位相シフト操作を高精度に同時に行なうことが可能な2光束照射方向切替型のスペックル干渉計装置を得る。
【解決手段】光学部材載設部10に、光路長可変手段60が配設されている。この光路長可変手段60は、1つの駆動手段62により反射光学素子61を微動させることにより、反射光学素子61を経由する各一方の照明用光束14b,15aと、反射光学素子61を経由しない各他方の照明用光束14a,15bとの光路長差を変化させる2つの位相シフト操作を、一元化して同時に行なうように構成されている。 (もっと読む)


フラットパネルの表面、ウエハーおよび基板のパターン付き表面といった表面の全領域光計測値を取得することができる光干渉計を用いるための技術およびシステム。表面計測用のさまざまなシェアリング干渉計の用途が記載されている。
(もっと読む)


【課題】厚さの薄い平板状の被検体、特にウェーハを対象として高精度に平坦度、厚さなどの形状を測定し得る光学式形状測定装置を提供する。
【解決手段】エッジ部を介して略鉛直に保持されたウェーハ1の主面1a側及び裏面1b側に対向配置された2つの基準平面基板15,25を備える光学測定手段10,20と、前記基準平面基板15,25とウェーハ1との間に、ウェーハ1と平行間隙を形成し且つウェーハに近接して配置された透明な剛体平板19,29を備えてなる。 (もっと読む)


マイクロリソグラフィ方法は、フォトリソグラフィック露光サイクル中に複数の計測軸のそれぞれを基準としたマイクロリソグラフィ・ステージの位置に関する情報を干渉計計測する工程と、該フォトリソグラフィック露光サイクルによって生成される環境的影響によって生じる干渉計計測ビームを反射するために使用される該ステージの一方の側の局所勾配を表している補正係数と、光学的傾斜と、を決定するために該位置情報を解析する工程と、該補正係数を該ステージの後続の干渉計計測に適用する工程と、を含む。
(もっと読む)


1 - 20 / 22