【課題】光を透過しない皮膜および基材であって、膜厚分布の広がりが１００［μｍ］以下の目視できない範囲内にある皮膜の膜厚均一性を簡便、且つ、迅速に評価すること。
【解決手段】金属板表面に形成された皮膜の膜厚均一性を評価する膜厚均一性評価方法は、グロー放電発光分光法を利用して金属板の構成元素の深さ方向のプロファイルＰを測定する測定ステップと、測定ステップにおいて測定されたプロファイルＰの形状を近似する関数Ｆを算出する算出ステップと、算出ステップにおいて算出された関数Ｆを用いて皮膜の膜厚均一性を評価する評価ステップと、を含む。これにより、光を透過しない皮膜および基材であって、膜厚分布の広がりが１００［μｍ］以下の目視できない範囲内にある皮膜の膜厚均一性を簡便、且つ、迅速に評価することができる。 （もっと読む）

【課題】光を透過しない皮膜および基材であって、膜厚分布の広がりが１００［μｍ］以下の目視できない範囲内にある皮膜の膜厚均一性を簡便、且つ、迅速に評価すること。
【解決手段】金属板表面に形成された皮膜の膜厚均一性を評価する膜厚均一性評価方法は、グロー放電発光分光法を利用して金属板の構成元素の深さ方向のプロファイルを測定する測定ステップと、測定ステップにおいて測定されたプロファイルを微分することによって微分プロファイルＤＰを算出し、算出された微分プロファイルの主ピークの半値幅ＦＷＨＭを算出する算出ステップと、算出ステップにおいて算出された主ピークの半値幅ＦＷＨＭを用いて皮膜の膜厚均一性を評価する評価ステップと、を含む。これにより、光を透過しない皮膜および基材であって、膜厚分布の広がりが１００［μｍ］以下の目視できない範囲内にある皮膜の膜厚均一性を簡便、且つ、迅速に評価することができる。 （もっと読む）

【課題】 曲面を有する膜厚を正確に計測する。
【解決手段】 膜厚の検査装置は、テラヘルツ波を発生させるテラヘルツ波発生器１５と、前記テラヘルツ波を、膜が形成された試料に照射させる照射光学系１６、１７と、前記試料において反射したテラヘルツ波を検出し、検出信号を出力するテラヘルツ波検出器２２と、前記試料の反射面の形状情報に基づき、当該反射面から前記テラヘルツ波検出器に至るまでの反射波の電場強度を参照信号として算出し、前記参照信号を用いて前記検出信号を補正する制御装置５を備える。 （もっと読む）

本発明は、ストリップスチール表面上のコーティング膜厚の測定に関し、より詳しくは、以下のステップを有するクロムフリーコーティング膜厚の検出方法に関する：元素Ｐ、Ｃａ、Ｔｉ、ＢａまたはＳｒを含有し、クロムフリーコーティング液と反応しない２つの水溶性化学物質を選択するステップ；選択した２つの水溶性化学物質をクロムフリーコーティング液に加えて、均質になるようにそれらを攪拌した後、コーティングフィルムの基準サンプルを作るステップ；オフライン膜厚検出計測器によって発せられた光線を用いて上記２つの水溶性化学物質を励起して特性スペクトラムを得て、フィッティングにより測定膜厚と厚み補正値との間の補正関数式を得るステップ；弱い特性スペクトラムを有する上記水溶性化学物質をクロムフリーコーティング液に加え、上記補正関数式を用いて実際の膜厚を求めるステップ。オンライン検出により、膜厚を効果的にモニターでき、高精度で、かつ、コーティング膜の付着性、耐腐食性、環境パフォーマンスに悪影響を与えることなく、コーティング処理を連続的に最適化できる。
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【課題】精度よく基板に塗布されたはんだと部品とのはんだ付け検査を行なうＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線検査装置は、予め基板に塗布されたはんだの厚みとして、クリームはんだ印刷におけるマスク厚を取得し、記憶しておく。検査対象の基板のマスク厚から、基板面に平行な断層のうち検査対象とする高さ方向の範囲を設定し、その断層数Ｎを特定する（Ｓ８０１）。Ｘ線検査装置は、各断層について検査ウィンドウ中のはんだの面積Ｓおよび真円度Ｔを計測し（Ｓ８０７〜Ｓ８１９）、その最小値がいずれも基準値以上である場合にはその検査ウィンドウのはんだ付けが良好と判定し（Ｓ８２１、Ｓ８２３）、一方でも基準値を下回ったら不良と判定する（Ｓ８２１、Ｓ８２３）。 （もっと読む）

【課題】量産品で安価なＸ線管を用いて、高いＸ線管電圧にて高出力線量の白色Ｘ線を発生させると共に、白色Ｘ線からローパスフィルタ手段により低エネルギー域の軟Ｘ線を高線量で抽出して試料に照射可能なＸ線測定装置を実現する。
【解決手段】Ｘ線源から出射される軟Ｘ線を含むＸ線を試料に照射し、試料の透過線量をＸ線検出器で検出するＸ線測定装置において、
前記Ｘ線源より円錐状に出射されたＸ線ビームを、スライスした扇状ビームＸ線に生成するコリメータと、
前記扇状ビームＸ線を所定の角度で入射し、反射した前記軟Ｘ線を前記試料に照射する反射ミラーと、
を備える。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線透過法を用いて走行状態の塗工シートの塗工膜の単位面積当り重量および／または厚みを精度良く簡単に測定する。
【解決手段】Ｘ線源１１とＸ線検出器１２を用いて塗工シート１０の走行状態において塗工シートの塗工膜を測定する際、塗工シートの透過Ｘ線量を測定したデータと、未塗工シートの透過Ｘ線量を測定したデータとを演算部３０で処理して塗工シート１０の塗工膜の単位面積当り重量および／または厚みをほぼ連続的に算出する。 （もっと読む）

本発明は、半導体ウェハ（１００）上に堆積または形成された膜（１０４）の光学特性を測定するためのシステム（２０１）および方法を提供する。膜の試験領域（２０６）内にあって、互いに重なり合わない複数の位置（２１６）において、上記膜の化学線照射量よりも低い放射線照射量で光学特性を測定する。この結果、上記測定によって上記膜内に化学変化が引き起こされることはない。従来技術による方法に対して上記測定を較正して、その結果を調整係数または較正係数によって調節してもよい。
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