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Fターム[2F067MM01]の内容

波動性又は粒子性放射線を用いた測長装置 (9,092) | 分光 (25) | 結晶、格子 (5)

Fターム[2F067MM01]に分類される特許

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物体の画像を生成して表示するための装置および方法は、線源および、線源との間に走査範囲を定義するために間隔を置かれて、物体を通って伝えられて入射する放射を検出できる、少なくとも2つ(好ましくは3つ以上)の一連の線形検出器;線形検出器に沿って互いにある角度で連続した経路において、走査範囲を通って物体を相対的に移動させる手段;少なくとも、第1の線形検出器の出力から第1の画像、第2の線形検出器の出力から第2の画像、および第3の画像を各連続した経路のために生成する画像生成装置;第1、第2、第3の画像を連続して表示し、したがって、画像間に単眼の移動視差を表示するのに適した画像ディスプレイ;が使用される。各画像は、走査方向に対して垂直な方向においてビーム拡散に起因する歪みを減らすような方法で、表示の前に処理される。画像間の単眼の移動視差は、観察者の目に見える三次元キューを生成するのに用いられる。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で、高精度かつ短時間の薄膜の膜厚測定と異常値検出を可能とする薄膜の膜厚測定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】X線回折装置を用いて、評価試料の最上層の膜厚を測定する方法であって、X線回折装置以外の膜厚測定方法を用いて、標準試料の膜厚基準値を測定する基準値測定ステップと、前記標準試料のX線回折強度分布から検出された特徴量と、前記膜厚基準値とを対応付けた校正情報10をあらかじめ生成する校正情報生成ステップと、評価試料のX線回折強度分布を取得する分布取得ステップS100と、前記分布取得ステップS100で取得されたX線回折強度分布から特徴量を検出する特徴量検出ステップS101と、前記特徴量検出ステップS101で検出された特徴量と、前記校正情報10とから前記評価試料の最上層の膜厚を算出する膜厚算出ステップS106とを備えたことを特徴とする膜厚測定方法である。 (もっと読む)


【課題】数〜数十原子層の膜厚からなる絶縁体層の膜厚に関して汎用性を損なうことなく測定精度を向上させた膜厚測定方法、及びその膜厚測定方法を用いて絶縁障壁層の膜厚を制御する磁気デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】測定対象層11と、測定対象層11と異なる電子密度を有するスペーサ層12とが基板Sの上に交互に積層された測定試料10に対してX線を照射して小角度のスキャンを行うことにより測定試料10のX線回折スペクトルを測定する。そして、X線の波長をλ、X線回折スペクトルに基づくn次の回折角をθ、X線回折スペクトルに基づくm次の回折角をθ、スペーサ層12の膜厚をスペーサ膜厚Tとするとき、測定対象層11の対象膜厚Tを式(1)に基づいて測定する。 (もっと読む)


【課題】一台の装置で、小角散乱、X線回折、反射率測定等を容易に行える装置を提供する。
【解決手段】試料分析装置は、第1のX線収束ビームを試料表面に向け、第2のX線平行ビームを試料表面に向けるように構成された照射源を含む。動作アセンブリは、照射源を、X線が試料表面にかすめ角で向けられる第1の光源位置と、X線が表面に試料のブラッグ角近傍で向けられる第2の光源位置との間で移動させる。検出素子アセンブリは、照射源が、第1および第2の光源構成のいずれか、および第1および第2の光源位置のいずれかにあるときに、試料から散乱したX線を角度の関数として感知する。信号処理部は、検出素子アセンブリからの出力信号を受けてこれを処理し、試料の特性を判定する。 (もっと読む)


【課題】X線光学素子の位置決め精度を緩和でき、可干渉性の低いX線源でもX線干渉を実現でき、一般用途への実用化が図られるX線シアリング干渉計を提供する。
【解決手段】X線シアリング干渉計は、X線を分割するX線分割光学系10と、X線分割光学系10によって分割されたX線を干渉させるX線干渉光学系20などで構成され、X線分割光学系10とX線干渉光学系20との間には物体Wが配置され、X線分割光学系10は、間隔D1で配置された一対の人工格子11,12と、人工格子12からの回折X線のうち所望の回折X線だけをブラッグ回折によって選択する結晶格子13を含み、X線干渉光学系20は、間隔D2で配置された一対の人工格子21,22と、人工格子22からの回折X線のうち所望の回折X線だけをブラッグ回折によって選択する結晶格子23を含む。 (もっと読む)


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