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Fターム[2G003AC04]の内容

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Fターム[2G003AC04]に分類される特許

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【課題】半導体装置の寿命を精度よく推定するとともに、可及的に短期間で寿命を推定することが可能な技術を提供することを目的とする。
【解決手段】寿命推定方法は、(a)半導体装置に含まれる半導体チップ及び金属配線12を互いに接合する接合部の温度ストレス量たる接合温度ストレス量ΔTwbと、半導体装置の寿命に対応するサイクル数Nfとをパラメータとする基準寿命カーブを準備する工程と、(b)基準寿命カーブを用いて半導体装置の寿命を推定する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】回路基板上に実装されている複数の電子部品に対して、同時にまたは個別に温度サイクルを与えることができる、加熱冷却試験方法および加熱冷却試験装置を提供する。
【解決手段】レーザビームを発振させるレーザ発振器1と、レーザビームを整形するビーム整形光学系2と、回路基板5を冷却する冷却装置9と、電子部品6a〜6eの温度を測定する温度測定器12a、12bと、電子部品の上面に載せられるレーザ吸収体7a、7b、7c、7eと、電子部品の上面に載せられたレーザ吸収体の上面にレーザビーム3a、3b、3c、3eを照射して電子部品を昇温させる昇温ステップ、および電子部品を冷却する冷却ステップを繰り返し行なわせる制御装置13とを備えた。 (もっと読む)


【課題】電源と線材コストを抑え、かつ試験サイクルの時間を短縮することができる断続通電試験装置、断続通電試験方法、および発熱電子デバイスを提供する。
【解決手段】断続通電試験装置1は、半導体パッケージ2に接触することによって、この半導体パッケージ2の放熱を行う放熱板5,6と、これら放熱板5,6の間に設けられ、半導体パッケージ2の発熱状態に基づいて伸縮変形するバイメタル7とを備えている。 (もっと読む)


【課題】複数のMOSFETに対して同時にパワーサイクル試験を行うこと。
【解決手段】本発明では、チャネル部発熱処理において、他のMOSFETのゲートに供給される電圧と同一のゲート電圧をMOSFET1のゲートに供給することにより、複数のMOSFET1に対して同時にパワーサイクル試験を行うため、従来に比べて試験時間を短縮することができる。また、チャネル部発熱処理において、第1設定時間“3min”ちょうどでチャネル温度が規定温度“150℃”に達するようにゲート電圧VGを下げるが、第1設定時間“3min”になる前にチャネル温度が規定温度“150℃”に達する場合、ゲート電圧VGを更に下げると共に、ドレイン電流IDを減少させる。このため、MOSFET1の特性が他のMOSFETの特性に対してばらつきがあっても、複数のMOSFET1に対して同時にパワーサイクル試験を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】電源の出力低下を引起こさずに試験対象の半導体装置への大電流かつ高速の断続通電を可能にする。
【解決手段】パワーサイクル試験装置1は、抵抗部DEと電源部10とを備える。抵抗部DEは、試験対象の半導体装置TEの通電時の抵抗値とほぼ等しい抵抗値を有し、試験対象の半導体装置TEと並列に設けられる。電源部10は、試験対象の半導体装置TEと抵抗部DEとに交互に通電する。 (もっと読む)


【課題】試験対象物に対する試験環境を維持しつつ装置の消費エネルギーを低減させる。
【解決手段】環境試験装置1は、試験室5と、空調機器7と、試験室5内に着脱可能に設けられる容量変更部材10と、試験室5内の空気を所定の温湿度に調節するように、空調機器7の出力を制御する制御装置100とを含んでいる。そして、制御装置100は、試験室5内に容量変更部材10が設けられた第1の状態において、空調機器7の出力が試験室5内に容量変更部材10が設けられていない第2の状態におけるよりも小さくなるように、空調機器7を制御する。 (もっと読む)


【課題】丸めによる誤差要因を無くし高精度な寿命予測を行うことができるパワーサイクル寿命予測方法、寿命予測装置及び該寿命予測装置を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】IGBTモジュールの銅ベース温度を検知する温度センサ10と、該温度センサ出力を一定のサンプリング周期でA/D変換するA/D変換器20と、A/D変換器出力から温度差を検出し、検出した温度差と予め保持されている変曲点温度差とを比較し、その比較結果から検出した温度差が予めパワーサイクル試験を経て解析されたパワーサイクル寿命カーブを近似する複数の直線のいずれの側にあるかに応じて近似させる直線の傾き及び該直線において予め設定された基準温度差について寿命データレジスタ40に保持された演算パラメータを受領して寿命計算し寿命情報を出力する寿命演算回路30と、寿命演算回路30で寿命計算を行うための演算パラメータを保持する寿命データレジスタ40と、から構成されている。 (もっと読む)


【課題】 プリント基板と半導体集積回路の接続不良を検出すること。
【解決手段】 バウンダリスキャン対応の半導体集積回路が実装されたプリント基板を熱衝撃室2を通過させて熱衝撃を与え、半導体集積回路の入力端子及び出力端子に接続されるプリント基板内配線パターンに対してプローブ37を押し当てる。制御装置4は、入力端子に対応するプローブ37に対してテストデータを与えて、スキャンセルから前記シフト動作により読み出し、前記シフト動作によりデータを出力端子のスキャンセル与えて、当該出力端子から出力させてこれに対応するプローブ37から読み出し、半導体集積回路100に与えたデータと、半導体集積回路101から読み出したデータを比較して、半導体集積回路1001とプリント基板100の接続を判定する。 (もっと読む)


【課題】実使用環境下により近い状態で発光装置の信頼性を検査し、より確実に不具合品を早く検出し易くする試験装置および試験方法を提供する。
【解決手段】試験装置1は、恒温恒湿槽10内に設置された発光装置70外の雰囲気の温度及び湿度を制御する第1の制御手段(制御部40)と、この雰囲気に晒された発光装置70を断続的な通電により発熱させるために、発光装置70に通電させる電流の電流値及び時間を制御する第2の制御手段(制御部20)と、を備えている。そして、試験装置1を用いて、恒温恒湿槽10内に設置された発光装置70の雰囲気の温度及び湿度を制御しながら、発光装置70を断続的な通電により発熱させるために、発光装置70に通電させる電流の電流値及び時間を制御しながら、発光装置70の加速寿命試験を行う。 (もっと読む)


【課題】 好適に半導体チップの温度変化試験を行うことができる温度変化試験装置を提供する。
【解決手段】 半導体チップの温度変化試験装置10であって、半導体チップに対して少なくとも3点で接触可能であり、それらの接触箇所にパイプ内外を連通する連通孔12dが形成されているバキュームパイプ12と、バキュームパイプ12内の気体を吸引する吸引手段18と、半導体チップがバキュームパイプ12と接触したときに、半導体チップと近接する位置に配設されている高温パイプ14と、高温パイプ14内に液体を流通させる第1流通手段20と、半導体チップがバキュームパイプ12と接触したときに、半導体チップと近接する位置に配設されている低温パイプ16と、低温パイプ16内に高温パイプ14内の液体より温度が低い液体を流通させる第2流通手段22を有している。 (もっと読む)


【課題】 高温環境と低温環境を速やかに切換えることに加え、装置全体の小型化、更には電力消費の低減を図る。
【解決手段】 熱交換器3の上面にペルチェ素子を用いた少なくとも一つ以上のサーモモジュール4…を配し、かつこのサーモモジュール4…の上面に伝熱プレート5を配するとともに、この伝熱プレート5に対して開閉するカバー部6を設け、このカバー部6を閉じた際に伝熱プレート5を底面部2dとする試験槽2を構成する試験槽機構Maと、熱交換器3を冷却する冷却気体Acを得る冷却器7を用いた冷却機構Mbと、サーモモジュール4…及び冷却器7の作動を制御するコントローラ8とを備える。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハの性能試験等に使用される試験用恒温装置を改良し、極低温や高温に温度調節しても試料配置部の撓みが少ない試験用恒温装置を提供する。
【解決手段】試料配置部2と、架台3とからなる。架台3は、接続部15と中間部16及び台座部17によって構成されている。接続部15の熱膨張率は試料配置部2と同一である。中間部16は、断熱性に優れる。台座部17は三角形の板である。各部材は、ネジ(軸状締結要素)によって結合されており、台座部17の中心と、中間部16の中心と、接続部15の中心及び試料配置部2の中心を一本のネジ20が貫いている。試料配置部2の対向面9と接続部15の間は、3本のネジ21が貫いている。接続部15と中間部16との間は、3本のネジ22が貫いている。中間部16と台座部17との間は、3本のネジ23が貫いている。ネジ21,22,23は、いずれも各部材の中心を中心とするピッチ円上にある。 (もっと読む)


【課題】従来より高温域で用いられるデバイスの耐久性を検証することが可能なデバイス評価装置およびデバイス評価方法を提供する。
【解決手段】評価装置30は、発熱部ベースプレート45と冷却部材(ベースプレート5、ペルチェ素子9、放熱器11、冷媒流路13、熱交換器15、ポンプ14、冷媒17)とヒータと移動部材40と制御装置29とを備える。発熱部ベースプレート45は、半導体デバイスを含み電力が供給される被測定体1を保持する。冷却部材は、発熱部ベースプレート45と着脱可能に接触し、保持部材を介して被測定体1の熱を除去するためのものである。ヒータは、被測定体1を加熱する。移動部材40は、発熱部ベースプレート45を冷却部材のベースプレート5に対して着脱させるように移動する。制御装置29は、冷却部材、ヒータ、および移動部材40を制御する。 (もっと読む)


【課題】半導体チップのサイズの設計変更に対応できる特性評価用チップを提供する。
【解決手段】ウエハ上に、各々が評価用のTEGを有する単位チップをアレイ状に形成する。単位チップの縦をA倍、横をB倍(A、Bは整数)したものが評価用チップの縦及び横のサイズである。半導体チップのサイズが設計変更された場合、その設計変更後のサイズに合うようにA、Bの値を変更することにより、半導体チップと同じ大きさの評価用チップを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】スターリング冷凍機を使用した試験装置を改良し、高温状態から低温状態に変化させる際に異音や振動が生じることのない試験装置の開発を課題とする。
【解決手段】試験槽2の内部に載置台6、冷却チューブ(補助冷却装置)7及び加熱板8が設置されている。載置台6は、背面側にシリンダー装入筒部11が設けられている。載置台6が高温状態であって、載置台の温度を低下すべくスターリング冷凍機3の運転を開始する際に、冷却チューブ(補助冷却装置)7を起動し、スターリング冷凍機3の冷却能力を補助する。載置台6の温度が室温に近い状況まで下がったことを条件として補助冷却装置7を停止する。 (もっと読む)


【課題】無線通信の信頼性が要求される電子部品の温度サイクルに対する正確な寿命を知ることができる温度サイクル試験装置及び温度サイクル試験方法を提供することを目的とする。
【解決手段】無線通信用電子部品の温度差に対する耐性を確認する温度サイクル試験装置であって、少なくとも加熱炉2と、冷却炉3と、電子部品移送機構5と、移送制御コントローラ6と、温度センサ7と、通信特性センサ8と、ドライヤー10と、ドライヤー11と、電磁波遮蔽板12とを具備していることを特徴とする温度サイクル試験装置である。 (もっと読む)


【課題】効率的に温度試験対象物の温度試験ができる高低温度試験装置を提供する。
【解決手段】ペルチェモジュール1の一端側の面と電気ヒータ4とにより温度試験対象物9を挟み、対象物温度検出手段12が検出する温度試験対象物の検出温度が目標温度よりも高い時には、ペルチェモジュール1の一端側の面が吸熱面となるようにペルチェモジュール1を冷却側駆動し、前記検出温度が前記目標温度よりも低いときにはペルチェ端面温度検出手段28により検出されるペルチェ端面温度が目標温度よりも低い予め定めたペルチェ加熱停止基準温度に達するまでは、ペルチェモジュール1の一端側の面が放熱面となるようにペルチェモジュールを加熱側駆動すると共に電気ヒータ4駆動し、前記ペルチェ端面温度が前記ペルチェ加熱停止基準温度に達した以降はペルチェモジュール1の駆動を停止して電気ヒータ4のみで前記温度試験対象物の加熱を行う。 (もっと読む)


【課題】電子部品を温度サイクル試験にかける場合に、大気中の水分によるポリイミド樹脂の吸湿、脱水の影響をできる限り排除した試験環境で試験を行う。
【解決手段】部屋9内に、電子部品1、冷却炉2、加熱炉3、電子部品保持部4、運動機構5等を配置し、部屋9の周囲には、運動制御コントローラ6、温度センサ7、電気特性センサ8、湿度計12等が設け、電子部品の温度差に対する耐性を確認する温度サイクル試験を行う。この際、部屋9内における電子部品の湿度環境を湿度10%RH(温度25°C)以下に制御する。また、部屋9内から空気を抜いて窒素ガスを充填することにより、吸湿、脱水現象を防止する。 (もっと読む)


【課題】低温恒温槽を具備したIC試験装置において、低温恒温槽の周面に結露が発生することを阻止する。
【解決手段】低温恒温槽の結露が発生する部分に密封カバーを被せるか又は低温恒温槽と高温恒温槽とを具備したIC試験装置では高温恒温槽の熱を高温恒温槽の内壁に沿って配管したチューブとエアコンプレッサ、又は高温恒温槽の上部に配した送風機によって上記低温恒温槽の外壁面に配給し、低温恒温槽の周面において結露の発生を阻止させる。 (もっと読む)


【課題】潜在的な不良品を事前に抽出し、製品の信頼性を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ウェハ上に多層成膜し、回路パターンを形成する前工程(ステップS11)と、前工程で処理されたウェハをダイシングし、各半導体チップに分け、リードフレーム上にマウントし、ワイヤーボンディング後、樹脂封入する後工程(ステップS19)と、を含む半導体装置の製造方法であって、前工程中または後工程後に、ウェハまたは半導体装置に熱的および機械的な所定の応力を印可する応力印可工程(ステップS13)と、応力印可工程後に、ウェハまたは半導体装置の電気テストを実施する電気テスト工程(ステップS15)と、を含む。 (もっと読む)


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