【課題】本発明の目的は、耐衝撃性に優れる、シンチレータパネル、その製造方法および放射線イメージセンサを提供することにある。
【解決手段】基板と、該基板上に設けられた反射層と、該反射層上に設けられた中間層と、該中間層上に設けられたシンチレータ層、とを有するシンチレータパネルにおいて、該中間層がガラス転移点を有する樹脂を含有し、該中間層が、該中間層を該樹脂のガラス転移点の温度以上に加熱する工程を経たことを特徴とするシンチレータパネル。 （もっと読む）

【課題】生産適正に優れ、シンチレータの発光取り出し効率、鮮鋭性が高く、平面受光素子面間での鮮鋭性の劣化が少ないシンチレータプレート、シンチレータパネル及びそれらを用いた放射線フラットパネルディテクターを提供する。
【解決手段】耐熱性樹脂基板１０１ａ上に防蝕性反射層１０１ｃ及びシンチレータ層１０１ｂを設けて成るシンチレータプレート１０１と、封止部１０３で封止される第１保護フィルム１０２ａと第２保護フィルム１０２ｂとでシンチレータパネル１ａを構成する。シンチレータ層１０１ｂの全面には空隙部１０８を設けているので、第１保護フィルム１０２ａとは実質的には接着されていない。シンチレータパネル１ａを放射線フラットパネルディテクターの構成要素とするとき、シンチレータプレート１０１を平面受光素子面と物理化学的に接着させないで用いることができる。 （もっと読む）

【課題】生産適正に優れ、シンチレータの発光取り出し効率、鮮鋭性が高く、平面受光素子面間での鮮鋭性の劣化が少ないシンチレータプレート、シンチレータパネル及びそれらを用いた放射線フラットパネルディテクターを提供する。
【解決手段】耐熱性樹脂基板１０１ａ上に反射層１０１ｃと防蝕性反射層１０１ｄ及びシンチレータ層１０１ｂをこの順に設けて成るシンチレータプレート１０１と、封支部１０３で封止される第１保護フィルム１０２ａおよび第２保護フィルム１０２Ｂとでシンチレータパネル１ａを構成する。シンチレータ層１０１ｂの全面には空隙部１０８を設けるので、第１保護フィルム１０２ａとは実質的に接着されていない。シンチレータパネル１ａを放射線フラットパネルディテクターの構成要素とするとき、シンチレータプレート１０１は、平面受光素子面とは物理化学的に接着させないで用いることができる。 （もっと読む）

【課題】光検出器パネル（支持体）と蛍光体層との界面に局所的な剥離さえも生じることなく、光検出器パネル表面に蛍光体層を高精度に形成することを可能にし、これにより、蛍光体層で変換された光を光電変換素子によって高精度に受光／測定することができ、しかも、発行量が高い蛍光体層を得ることができる平面放射線画像検出器の製造方法を提供することにある。
【解決手段】放射線の入射によって蛍光体層が発光する光を光電変換素子で検出することにより放射線画像を撮影する平面放射線画像検出器を製造するに際し、０．１Ｐａ〜１０Ｐａの真空度で前記支持体に真空蒸着によって蛍光体層を形成した後、０．４５℃／ｍｉｎ〜６．０℃／ｍｉｎの平均冷却速度で前記蛍光体層の冷却を行い、前記蛍光体層の温度が１２０℃以下となった後に、前記蛍光体層の冷却系内から前記支持体を取り出すことにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】基板フィルムの熱収縮による変形やシンチレータの柱状結晶性低下及び剥がれの発生がなく、発光効率及び発光取り出し効率の高いシンチレータパネルであって、かつ該シンチレータパネルと平面受光素子面の均一接触が可能で、シンチレータパネル面−平面受光素子面間での鮮鋭性の劣化が少ないシンチレータパネルを提供する。
【解決手段】高分子フィルム上にシンチレータの原料の蒸着により形成されたシンチレータ層を有するシンチレータパネルであって、該蒸着後に該高分子フィルムのガラス転移温度を基準として−５０℃〜＋２０℃の温度範囲の雰囲気下で１時間以上の熱処理されたことを特徴とするシンチレータパネル。 （もっと読む）

【課題】反射膜としての金属薄膜の安定性をより向上させたシンチレータパネルを提供すること。
【解決手段】本発明に係るシンチレータパネルは、金属反射膜を備えた支持基板にシンチレータを形成したものであって、支持基板は、放射線透過性の導電性基板と、金属反射膜と導電性基板との間に設けられ、金属反射膜および導電性基板に密着してこれらの接触を防止する無機膜からなる中間膜と、金属反射膜上に設けられ、無機膜を少なくとも有する保護膜と、を備える。 （もっと読む）

【課題】良好な機械的安定性において質の良いＸ線撮影を生じさせる、特にラジオグラフィ用のコスト的に手頃に製作可能なＸ線変換素子を提供する。
【解決手段】Ｘ線変換素子は、Ｘ線透過性および湿気不透過性の基板（１）と、基板（１）に結合されているＸ線透過性の担持体（２）と、基板（１）上に設けられているシンチレータ（３）と、シンチレータ（３）を覆う光透過性および湿気不透過性の保護膜（４）とを有する。 （もっと読む）

【課題】カセッテの強度を劣化させずに、マンモグラフィ装置等の放射線画像撮影装置で撮影される放射線画像の欠けを軽減することができる画像記録担体を提供する。
【解決手段】板形状を有する支持体と、支持体の表面に重ねられた、画像を担持した放射線の照射を受けて放射線画像が蓄積記録される記録層とを有する画像記録板と、画像記録板が内部に収容されるカセッテとを備え、上記画像記録板は、少なくとも１つの側面が、画像記録板の厚み方向に複数段に形成され、それら複数段のうち記録層が含まれる表部分が、その表部分を除く部分よりも突出したものであり、上記カセッテは、画像記録板が内部に収容された状態において、画像記録板の側面に向き合う対向面の、表部分と対応する対応部分が、対向面の、対応部分を除く部分よりも凹んだものである。 （もっと読む）

【課題】放射線像変換パネルの製造において、輝尽性蛍光体層を形成した後の冷却を適正に行うことにより、後工程において別装置により熱処理を不要とした、ＰＳＬ感度等の輝尽発光特性が良好な輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルの製造方法、並びにこの方法により製造される優れた性能を有する放射線像変換パネルを提供すること。
【解決手段】気相堆積法による輝尽性蛍光体層の形成を終了した後、形成された輝尽性蛍光体層の温度が７０〜１５０℃の範囲において前記輝尽性蛍光体層の冷却速度を変更する過程を含み、冷却速度を変更する前は平均冷却速度０．５〜５℃／ｍｉｎで前記輝尽性蛍光体層の冷却を行い、冷却速度を変更した後は平均冷却速度０．０１〜１℃／ｍｉｎで前記輝尽性蛍光体層の冷却を行うことを特徴とする変換パネルの製造方法、並びにこの方法により製造された変換パネル。 （もっと読む）

【課題】点欠陥などの発生を抑制し、欠陥が少ない高品位な画像が得られる放射線像変換パネルを製造することができる気相堆積膜の製造方法および気相堆積膜の製造装置並びに放射線像変換パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】真空時蒸着装置の真空チャンバ内に基板がセットされた状態で、前記真空チャンバ内を真空に排気した後に、蒸着前の前記基板の表面状態を確認する工程と、前記基板表面に蛍光体層を形成する工程とを有することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。ここで、前記基板の表面状態を確認する工程は表面状態検査手段により行われることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
放射線像燐光体又はシンチレータパネルにおいて支持体層と貯蔵燐光体又はシンチレータ層の間の許容可能な接着性及び低い腐食性を達成する。
【解決手段】
陽極酸化層を有するアルミニウム層であってクロムが前記アルミニウム層及び／又は前記陽極酸化層に存在するもの、及び保護被覆でカバーされた、上部に針状燐光体又はシンチレータ結晶を含む蒸着燐光体又はシンチレータ層を連続層の層配置として含む放射線像燐光体又はシンチレータパネルにおいて、前記陽極酸化層が少なくとも０．００１の陽極酸化層厚さｔに対する平均表面粗さＲａの比率を有し、Ｒａが０．０１μｍから０．３０μｍ未満の範囲にあり、前記陽極酸化層が１μｍから１０μｍまでの範囲の厚さを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反射膜としての金属薄膜の安定性を向上させたシンチレータパネルとこのシンチレータパネルを用いた放射線イメージセンサを提供する。
【解決手段】放射線透過性の基板１０の一方の表面上に、所定波長の光を反射する金属薄膜１２が配置され、基板１０および金属薄膜１２は、これらを包み込むように設けられた保護膜１４ｂによって封止されている。この保護膜１４ｂ上には放射線を金属薄膜１２で反射し得る波長を含む光に変換するシンチレータ１６が堆積されており、保護膜１４およびシンチレータ１６は、これらを包み込むように設けられた耐湿保護膜１８によって封止されている。 （もっと読む）

【課題】長期に亘って、輝尽性蛍光体層の吸湿を抑制し、さらには、輝尽性蛍光体層の吸湿により生じる基板の腐食を抑制して、得られる放射線画像の特性劣化がない放射線像変換パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の放射線像変換パネルは、金属または合金により構成された基板と、基板上に形成された蛍光体層と、基板と蛍光体層との間に、少なくとも蛍光体層が形成される領域に形成された腐食防止層と、蛍光体層および腐食防止層を覆い、蛍光体層が形成された領域外、かつ腐食防止層が形成されていない領域で外縁が基板に密着して、蛍光体層を封止する防湿保護層とを有する。 （もっと読む）

【課題】蛍光体パネルから読み取った放射線画像の濃度ムラや、鮮鋭度の低下の無い、高画質な放射線画像の読み取りを安定して行うことが可能な蛍光体パネルの製造方法を提供することにある。
【解決手段】基板の表面に気相堆積法によって蛍光体層を形成して、蛍光体パネルを製造するに際し、前記蛍光体層の形成装置に保持した際における前記基板の平面度を、±５０μｍ以下とすることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】
蒸着された針状セシウムハロゲン化物燐光体層の接着性を改良する。
【解決手段】
支持体、下層及び針状刺激性燐光体結晶を含む刺激性燐光体層を連続して含む放射線像貯蔵パネルにおいて、前記下層が、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、フッ化ルビジウム、塩化ルビジウム、臭化ルビジウム、フッ化セシウム、塩化セシウム及び臭化セシウムからなる群から選択された無機アルカリハロゲン化物塩をハロゲン化物化合物として少なくとも含む、結合剤のない非蒸着層であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】帯電による異物の付着を防止し、画質の低下を防止させることができる放射線用シンチレータプレートを提供すること。
【解決手段】基板１上に付活剤を含有した蛍光体層２を具備した放射線用シンチレータプレート１０であって、少なくとも基板１又は蛍光体層２のいずれか一方に静電誘導防止物質を含ませる。 （もっと読む）

【課題】結晶性が良好で、且つ、膜厚分布が均一である蛍光体層を形成することのできる真空蒸着方法を提供することにある。
【解決手段】真空蒸着室内に設けた蒸発部から蒸発させた成膜材料を前記蒸発部の上方を直線状に往復移動する被処理基板の表面に蒸着させる真空蒸着方法において、
前記成膜材料の蒸着は、０．１〜５Ｐａの圧力下で、下記の式（１）の条件を満たす位置に、前記蒸着部および前記往復移動の際の被処理基板の折返し位置を設けて行われることにより、前記課題を解決する。
０＜Ｌ_１／Ｌ_２＜１．２５ （１）
（式中Ｌ_１は、前記蒸発部の蒸発口が属する水平面から前記被処理基板までの垂直距離を示し、Ｌ_２は、前記折り返し位置に位置する被処理基板の前記蒸発部側の端部と前記蒸発部の蒸発口の前記被処理基板側の端部との水平距離を示す。） （もっと読む）

【課題】輝尽発光特性が良好で且つ画像の面内ムラを生じない放射線像変換パネルを効率良く製造する。
【解決手段】気相堆積法によって基板上に輝尽性蛍光体層を形成する放射線像変換パネルの製造方法において、基板上に輝尽性蛍光体層を形成した後、輝尽性蛍光体層を加熱する際に、基板面の輝尽性蛍光体層が形成された領域全体に亘って加熱プレートを接触させて加熱する。 （もっと読む）

【課題】輝尽発光特性が良好で且つ画像の面内ムラを生じない放射線像変換パネルを、大掛かりな装置を使用することなく効率良く製造する。
【解決手段】気相堆積法によって基板上に輝尽性蛍光体層を形成する放射線像変換パネルの製造方法において、輝尽性蛍光体層を基板１１上に形成する際に、基板１１の輝尽性蛍光体層形成面とは反対側の面に、記輝尽性蛍光体層を形成する領域全体に亘って、熱伝導率が１W/m・K以上であってかつ硬度が５以上９０以下の熱伝導性シート１５を介して加熱プレート１４を接触させ、基板１１を加熱する。 （もっと読む）

【課題】 優れた防湿性を有する放射線像変換パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】
支持体上に少なくとも蛍光体層が積層された放射線像変換パネルであって、少なくとも前記蛍光体層の非積層面側に金属を含有する金属含有層を少なくとも１層含むコーティング層が形成されていることを特徴とする放射線像変換パネルである。また、支持体上に少なくとも蛍光体層が積層された放射線像変換パネルの製造方法であって、前記蛍光体層の非積層面側に金属を含有する金属含有層を、ＣＶＤ法により形成するＣＶＤ工程を少なくとも含むことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法である。 （もっと読む）