【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分（Ｆ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（Ｉａ）で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を有し、前記光塩基発生剤成分（Ｆ）が下記一般式（ｆ１）で表される化合物からなる光塩基発生剤（Ｆ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】本発明は、層間電気絶縁材料、光導波路、プリント配線板、特にフレキシブルプリント配線板用途でのフォトソルダーレジストまたはカバーレイフィルムとして要求される、ポリイミド、銅基盤への密着性、ファインパターンを実現できる現像性、ハンダ耐熱性、絶縁性、耐薬品性等の諸物性と、可撓性・耐折性を両立した感光性難燃樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】カルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有するウレタン樹脂（Ａ）と、
体積平均粒子径が０．１〜１μｍの範囲であるホスフィン酸塩（Ｂ）をウレタン樹脂（Ａ）１００重量部に対して、５〜５０重量部含んでなることを特徴とする感光性難燃樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い粘度を有すると共に、現像残渣の発生を抑制することのできる感光性組成物を提供することにある。また、良好な形状のパターンを有する焼成体を容易に得ることのできる焼成体の形成方法および良好な形状の構成要素を容易に形成することのできるフラットディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
【解決手段】感光性組成物は、（Ａ）少なくともガラス粉末を含有する無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性重合体、（Ｃ）特定の多官能アクリレート化合物および（Ｄ）光重合開始剤を含有してなることを特徴とする。また、この感光性組成物は、官能基数２〜３のアクリレート化合物を含有することが好ましい。焼成体の形成方法およびフラットディスプレイパネルの製造方法においては、上記の感光性組成物を材料として用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）は式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。［式中、Ｒ^１”〜Ｒ^３”はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、少なくとも１つは水素原子の一部が式（ｂ１−０−０１）で表される基で置換された置換アリール基であり、Ｗは炭素数２〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である。］
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【課題】液経時安定性が良好であり、且つ現像性、耐エッチング性等の回路形成能が良好なポジ型感光性アニオン電着塗料用組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ） 以下の（ａ）〜（ｃ）成分を用いて共重合することにより得られる、主鎖末端にカルボキシル基を有する水溶性又は水分散性ビニル系共重合体 ６０〜９５重量部、
（ａ）置換基としてカルボキシル基を有する共重合性ビニル系単量体 ２〜１５重量部
（ｂ）（ａ）以外の共重合性ビニル系単量体 ８５〜９８重量部
（ｃ）カルボキシル基を有する連鎖移動剤 共重合性ビニル系単量体（ａ）と（ｂ）の合計１００重量部に対し、０．０５〜１０重量部
（Ｂ） １分子につき、平均１から２個の感光性基を有する低分子感光剤 ５〜４０重量部
（Ｃ） 中和剤としての３級アミン （Ａ）成分のカルボキシル基１モルに対し、０．２〜０．９モルを含有することを特徴とするポジ型感光性アニオン電着塗料用組成物。 （もっと読む）

【課題】着色剤を高濃度に含有する場合であっても、高感度で硬化し、未硬化部の良好な現像性を維持しつつ、支持体との優れた密着性と耐現像性に優れた硬化部を形成しうる、パターン形成性に優れた硬化性組成物、該硬化性組成物を用いて着色パターンを形成してなる解像力に優れたカラーフィルタ、それを高い生産性で製造しうる製造方法高及び解像度の着色パターンを有するカラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に２つ以上の重合性基と２つ以上の水酸基とを有する重合性化合物、（Ｂ）光重合開始剤、及び、（Ｃ）着色剤、を含有する硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物からなる酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含む露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】水の後退角が大きいレジスト膜を与えることが可能な重合体、及び、これを配合したフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】１分子内に少なくとも２個のトリフルオロメチル基と、式（１）で表される１価の不飽和環状基と、水酸基とを有する単量体に由来する構造単位を含有する重合体。酸の作用によりアルカリ可溶性に変化するフォトレジスト樹脂、酸発生剤、及び、前記重合体を含有するフォトレジスト組成物。


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【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた柔軟性および弾性回復特性を有するフォトスペーサ用感光性樹脂組成物感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
カルボキシル基を有する親水性樹脂（Ａ）、多官能アクリレートモノマー（Ｂ）、液状ポリブタジエン共重合体（Ｃ）および光ラジカル重合開始剤（Ｄ）を含有する感光性樹脂組成物であって、該液状ポリブタジエン共重合体（Ｃ）がアクリロニトリル成分（ａ）を該液状ポリブタジエン共重合体（Ｃ）の固形分重量に対して１０〜５０重量％以上含有する感光性樹脂組成物（Ｑ）であって、該感光性樹脂組成物（Ｑ）を光硬化させて形成されたガラス基板上の硬化膜の４００ｎｍ光透過率が９０％以上であることを特徴とするアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）式（１）の繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。


【効果】本発明により、環状アセタール構造を有する新規高分子添加剤を用いたレジスト材料が提供される。この高分子材料は撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能である。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Ｘは一般式（Ｘ−１）〜（Ｘ−３）で表されるいずれかの構造を表す。（Ｘ−１）の中でＲ^2a、Ｒ^2b、Ｒ^3a、Ｒ^3bは一価の有機基、Ｒ⁴はアルキル基、（Ｘ−２）の中でＲ^5a、Ｒ^5b、Ｒ^6a、Ｒ^6b、Ｒ^7a、Ｒ^7bは一価の有機基、（Ｘ−３）の中でＲ^8a、Ｒ^8b、Ｒ^9a、Ｒ^9bは一価の有機基で、繰り返し単位（１）の−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−結合にＲ^2a〜Ｒ^3b、Ｒ^5a〜Ｒ^7b、Ｒ^8a〜Ｒ^9bのいずれかが連結する。）
【効果】この高分子材料は波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、樹脂の構造の選択により撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能であり、かつ入手及び取り扱いが容易な原料からの製造が可能である。 （もっと読む）

【課題】
現像処理において現像浴槽内に蓄積する現像カスを著しく低減可能にし、長期間安定的に処理をすることができる現像液を提供する。また、感光性組成物を用いた平板印刷版の現像性及び耐刷性を良好なものとする現像液を提供する。
【解決手段】
式（I）で表わされるアニオン界面活性剤とキレート剤とを含むネガ型感光性平板印刷版用の現像液であって、現像液はアニオン界面活性剤を１．０質量％〜１０質量％の範囲で含み、かつキレート剤を０．０５質量％〜１．０質量％の範囲で含み、ｐＨが１１〜１２．５である現像液。
【化１】
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【課題】解像性に優れ、低コストで、塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体の構造上適用可能な選択肢の範囲が広い感光性樹脂組成物及びその様な感光性樹脂組成物に利用可能な塩基発生剤を提供する。
【解決手段】塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体、及び、特定の構造を有し、電磁波の照射と加熱により、塩基を発生する塩基発生剤を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物、並びに特定の構造を有し、電磁波の照射と加熱により、塩基を発生することを特徴とする、塩基発生剤。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、金属配線上でパターニング開口部に残渣の発生を抑制でき、信頼性に優れた感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 本発明の感光性樹脂組成物は、金属配線上に製膜され、パターニングされる感光性樹脂組成物であって、アルカリ可溶性樹脂と、感光剤と、前記パターニングされた際の残渣を抑制する残渣抑制剤と、密着助剤と、を含むことを特徴とする。また、本発明の硬化膜は、上記に記載の感光性樹脂組成物の硬化物で構成されていることを特徴とする。また、本発明の保護膜および絶縁膜は、上記に記載の硬化膜で構成されていることを特徴とする。また、本発明の半導体装置および表示体装置は、上記に記載の硬化膜を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光光に極紫外線を用いるパターン形成において、現像コントラストが高い微細パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に、酸不安定基を含まず且つラクトンを含む第１のポリマーと、酸不安定基を含む第２のポリマーと、光酸発生剤とを含むレジスト材料からなるレジスト膜１０２を形成する。その後、レジスト膜１０２に、極紫外線からなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。続いて、パターン露光が行われたレジスト膜に対して現像を行って、レジスト膜からレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成において、優れたリソグラフィー特性を示し、ディフェクトを低減できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にオキシラン環を有する構成単位（ａ０）、前記構成単位（ａ０）に該当しない酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、およびラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】クロム化合物を含まず、紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像が可能であって、高感度であり、しかも熱安定性及び現像管理幅が良好で、塗膜が優れた性能を示すソルダーレジストインクとして好適な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）三価の有機リン化合物とナフテン酸ジルコニウム及びオクチル酸ジルコニウムの少なくとも１種との存在下で、多官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸とを反応させ、更に多塩基酸無水物を反応させることにより生成したカルボキシル基に不飽和二重結合を有するモノエポキシ化合物及び水溶性モノエポキシ化合物を反応させて得られる感光性樹脂、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）光重合開始剤並びに（Ｄ）反応性希釈剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性及び感度が良好であり、かつ、その色純度に優れたカラーフィルター形成に使用される感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
カルボキシル基を有する親水性樹脂（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、着色粒子（Ｃ）及び光ラジカル重合開始剤（Ｄ）を含有する感光性樹脂組成物であって、前記カルボキシル基の少なくとも一部が、超強塩基性化合物（Ｅ）で中和されていることを特徴とするアルカリ現像可能なカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光フォトレジスト膜において、アルカリ可溶性樹脂と併用するＳｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物の働きを、さらに高めたフォトレジスト膜の保護層用トップコート組成物、並びに該レジスト膜の保護層用トップコート組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】成分（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、成分（Ｂ）Ｓｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物、及び成分（Ｃ）下記式（１）で表される溶剤を含有することを特徴とするレジスト膜の保護層用トップコート組成物、並びにパターン形成方法。


（前記式（１）において、Ｒ₁は炭素数２〜３のアルキレン基、Ｒ₂は炭素数３〜４のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】基材成分として低分子材料を用いた新規なポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】露光によって分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が向上する酸発生剤からなる基材成分と、アルカリ可溶性化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）