【課題】
水性塩基現像液に優れた溶解反応を示すポリマーを含むネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】
以下の２つの化学式のうちの１つを有する少なくとも１種のフルオロスルホンアミド・モノマー単位を有するポリマーを含むネガ型レジスト組成物である
【化１】


ここで化学式中、Ｍは、重合可能な骨格部分であり、Ｚは、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−またはアルキルからなる群から選択される連結部分であり、Ｐは、０または１であり、Ｒ_１は、炭素数が１〜２０個の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、Ｒ_２は、水素、フッ素、炭素数が１〜６個の直鎖または分岐鎖アルキル基、または一部もしくは全てがフッ素化された炭素数が１〜６個の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、ｎは、１〜６の整数である。 （もっと読む）

【課題】アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂による乾燥過程におけるエポキシ化合物の現像性の低下を最小化し、解像性に優れると共にソルダ耐熱性及びめっき耐性が向上された液状フォトソルダレジスト組成物等を提供すること。
【解決手段】液状フォトソルダレジスト組成物は、アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂と、紫外線反応型アクリル単量体と、エポキシ樹脂と、光重合開始剤と、有機溶媒とを含む。このエポキシ樹脂は、シアヌル酸化合物をアクリル酸系単量体と反応させてアクリル基を有する反応生成物を製造するステップ（ａ）と、このステップ（ａ）での反応生成物にエピクロロヒドリンを添加してエポキシ基を導入するステップ（ｂ）とを備えるステップを経て調整されるような、１つのエポキシ基及び２つ以上のアクリル基を分子内に含むイソシアヌレート構造である。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて使用され、フォトレジスト用のアルカリ性現像液で現像できる反射防止膜を形成するための反射防止膜形成組成物、及びその反射防止膜形成組成物を用いたフォトレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 テトラカルボン酸二無水物化合物と少なくとも一つのカルボキシル基を有するジアミン化合物から製造されるポリアミド酸、少なくとも二つのエポキシ基を有する化合物、及び溶剤を含む反射防止膜形成組成物。 （もっと読む）

硫酸化ポリマーを含む画像形成可能要素、およびこれらの画像形成可能要素から平版印刷版として有用な画像を調整する方法を開示する。この要素は熱的に画像形成され、水または湿し水溶液において現像され、結果としてアルカリ性現像液は必要としない。これらは印刷機上で画像形成され、湿し水溶液を用いて現像することができ、結果として別個の露光装置に取付ける必要がない。 （もっと読む）

感光性組成物を簡便に、かつ十分な感度および解像度を保ちながら現像する現像液と、それによるパターン形成方法を提供する。この現像液は、アミン−Ｎ−オキシド基、スルホン酸塩基、硫酸塩基、カルボン酸塩基、およびリン酸塩基からなる群から選ばれる親水性基を有する化合物を含んでなるものであり、特にケイ素を含有するポリマーを含む感光性組成物の現像に用いられるものである。本発明はそれを用いたパターン形成方法にも関するものである。 （もっと読む）

（ａ）１つまたはそれ以上のポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー（Ｉ）
【化１】


（ここで、ｘは約１０〜約１０００の整数であり、ｙは０〜約９００の整数であり、そして（ｘ＋ｙ）は約１０００未満であり；Ａｒ¹は４価の芳香族基、４価の複素環式基またはそれらの混在するものであり；Ａｒ²は珪素を含有してもよい、２価の芳香族基、２価の複素環式基、２価の脂環式基または２価の脂肪族基であり；Ａｒ³は２価の芳香族基、２価の脂肪族基、２価の複素環式基またはそれらの混在するものであり；Ａｒ⁴はＡｒ¹（ＯＨ）₂またはＡｒ²であり；Ｇはカルボニル、カルボニルオキシまたはスルホニル基から選択される１価の有機基であり；（ｂ）照射に際して、酸を遊離する１つまたはそれ以上の光活性化合物２０（ＰＡＧ）；（ｃ）それらの各々が少なくとも２つの〜Ｎ−（ＣＨ₂ＯＲ）_n単位（ここで、ｎは１または２であり、Ｒは線状または分枝状Ｃ₁〜Ｃ₈のアルキル基である）を含有する１つまたはそれ以上の潜在的架橋剤；（ｄ）少なくとも１つの溶媒及び（ｅ）少なくとも１つの溶解速度調整剤、ただし、潜在的架橋剤が高度に反応性ならば溶解速度調整剤はカルボン酸基を含まない）を含む耐熱性ネガ型感光性組成物。

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本発明は、電子（又は陽電子）捕獲解離を実行可能な質量分析器、タンデム質量分析法を実行する方法、電子捕獲解離を実行する方法、及び陽電子捕獲解離を実行する方法に関する。一実施形態においては、電子捕獲解離又は陽電子捕獲解離を実行可能な質量分析器が提供され、質量分析器は、第１の質量分析器と、第１の質量分析器の下流側の磁気トラップと、磁気トラップの下流側の第２の質量分析器と、磁気トラップに電子又は陽電子が供給されるように配置された電子源又は陽電子源とを具備する。
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本発明は、深紫外線領域の放射線に感度を示す新規のフォトレジスト組成物、特に１００〜３００ｎｍの範囲に感度を示すポジ型フォトレジスト、並びにそれを使用する方法に関する。このフォトレジスト組成物は、ａ）水性アルカリ性溶液中に不溶性でかつ少なくとも一つの酸感応性基を含むポリマーであって、更に、少なくとも一種の脂環式炭化水素単位、少なくとも一種の環状酸無水物、構造式１を有する少なくとも一種のアクリレート単位、及び構造式２を有する少なくとも一種のアクリレート単位を含む上記ポリマー；


［式中、
Ｒ’及びＲは、独立してＨまたは(C₁-C₄)アルキルであり、
Ｒ₁は、環状ラクトン側鎖基であり、そして
Ｒ₂は、非ラクトン系脂肪族炭化水素側鎖部である］
ｂ）露光時に酸を生成することができる化合物またはこのような化合物の混合物を含む。本発明は更に、バレロラクトンを含む溶剤を感光性材料の溶剤として使用することにも関する。好ましくは、溶剤はガンマバレロラクトンである。この溶剤は、一種または二種以上の他のフォトレジスト溶剤との混合物でもよい。
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少なくとも１つのキャップされていないポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも１つのキャップされたポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも１つの感光性剤および少なくとも１つの溶媒のポジ型感光性樹脂組成物、基板上に画像をパターン化するためにこのような組成物を使用すること、ならびに得られる信頼性のあるパターン化された基板およびそれからの電子部品。 （もっと読む）

多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有する触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度、寸法制御性等の諸性能に優れたアルカリ水溶液を用いて現像するポジ型パタン形成材料およびそれを遮光膜として機能させる露光用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線照射により酸を生じる化合物およびカルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を有するバインダ樹脂、１分子中に少なくとも２個以上のビニルエーテル基を有する化合物、および窒素含有樹脂結合剤を酸触媒付加反応させて得られる組成物を少なくとも含むパタン形成材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】 現像ラチチュードが大きく、且つ処理安定性に優れたポジ型感光性平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、（Ａ）光熱変換物質、及び（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感光性組成物層を有する感光性平版印刷版をレーザー露光し、次いでアルカリ現像液で現像するポジ型感光性平版印刷版の製版方法において、感光性組成物層が（Ｃ）ＨＬＢ１０未満の界面活性剤を含有し、且つアルカリ現像液が（Ｄ）ＨＬＢ１０以上の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型感光性平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】 顔料の分散性、分散安定性が高く、さらに耐光性も高く、塗膜外観の優れた膜を形成することができる感光性着色樹脂組成物、着色画像形成用感光液及び感光性エレメントとこれらを用いた光学特性の優れた着色画像の製造法及びカラーフィルターの製造法を提供する。
【解決手段】 顔料、樹脂、光重合性不飽和結合を分子内に１個以上含有するモノマー、及び光開始剤を含有する感光性着色樹脂組成物に、一般式（Ｉ）
【化１】


（Ｘは水素原子又はハロゲン原子であり、Ｒ¹は水素原子又はアルキル基であり、Ｒ²はアルキレン基であり、Ｒ³は水素原子又はメチル基である）及び一般式（ＩＩ）
【化２】


（Ｒ⁴は水素原子又はメチル基、Ｒ⁵はアルキレン基であり、Ｙは水素原子又はアルコキシ基であり、Ｚは水素原子又は水酸基である）で表される紫外線吸収性化合物を含有させる。 （もっと読む）

【課題】 基板とレジスト層との間に設けることで、エキシマレーザー光などの短波長光を光源としても、パターン下部に発生する裾引きやくびれなどの現象を起こすことなく、断面形状が矩形のレジストパターンを与えるリソグラフィー用下地材を提供する。
【解決手段】 （Ａ）ヒドロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基あるいはその両方で置換されたアミノ基を少なくとも２個有する含窒素化合物、（Ｂ）脂肪族カルボン酸又はスルホン酸、アルキルベンゼンカルボン酸又はスルホン酸及び無機硫黄酸の中から選ばれた少なくとも１種の酸、及び（Ｃ）吸光性化合物を組み合わせて、リソグラフィー用下地材とする。 （もっと読む）