【課題】本発明の目的は、少なくとも（１）重合性ポリマー、（２）有機ホウ素塩、トリハロアルキル置換化合物の中から選ばれる少なくとも１つの化合物、及び（３）３８０ｎｍから１３００ｎｍの波長域に於いて増感する増感色素を含有する層を設けた平版印刷版に於いて、画像部の現像液浸透抑制と非画像部の高現像性を備えた、耐刷性に優れた感光性組成物を提供することである。
【解決手段】感光層中に、化１〜３で示される化合物の少なくとも１種類以上を含有させることによって達成された。 （もっと読む）

【課題】高感度を有し、現像性に優れると共に、少ない露光量でも高硬度で画素欠陥の発生が抑えられた先鋭で表面平滑な硬化部（カラーフィルタ）の形成を可能にする。
【解決手段】２官能以上の多官能重合性化合物、光重合開始剤及び着色剤と共に、３官能以上の多価不飽和二重結合を有する共重合単位を含むアクリル系共重合体を含む感光性組成物である。 （もっと読む）

【課題】高感度であるとともに、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、及び光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物が、アクリドン化合物とオキシム誘導体とを含む感光性組成物である。支持体と、該支持体上に前記感光性組成物からなる感光層を少なくとも有するパターン形成材料である。前記感光性組成物からなる感光層を有する感光性積層体である。前記感光性積層体を備えており、光照射手段と光変調手段とを少なくとも有するパターン形成装置である。前記感光性積層体における前記感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】充分な機械強度を有しつつ、耐熱性に優れ、更に加工性、接着性に優れた感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性ドライフィルムレジストを提供しようとする。またこのドライフィルムレジストをフレキシブルプリント基板に積層し、良好な物性を示す感光性カバーレイフィルムを提供しようとする。
【解決手段】可溶性ポリイミド、炭素−炭素二重結合を有する化合物、および光反応開始剤および／または増感剤、を必須成分とし、さらに、Ｒ^２２ＳｉＯ_３／２及び／又は Ｒ^２３ＳｉＯ_２／２（Ｒ^２２、Ｒ^２３は、フェニル基、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基から選択される。）で表される構造単位を有するフェニルシロキサン、を含む、感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】熱によって硬化可能で保存安定性に極めて優れ、硬化後は優れた耐薬品性、硬度、誘電特性及び電気絶縁性などを発現する熱硬化性樹脂組成物の提供。該硬化促進剤を使用した感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】１分子中に少なくとも１個以上カルボキシル基及びアミド基を共有し、該カルボキシル基が熱によって脱離可能な保護基で保護されていることを特徴とする硬化促進剤とエポキシ化合物を含む熱硬化性樹脂組成物。また、１分子中に１個以上のカルボキシル基及びエステル基のいずれかを有する重合体と、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、本発明の硬化促進剤とを少なくとも含む感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストインクとしての優れた諸特性を維持しつつ、基板密着性、鉛筆硬度、乾燥塗膜の指触タック性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）１分子中に水酸基を有する感光性樹脂（Ａ１）における水酸基の全部若しくは一部に、下記構造式〔Ｉ〕に示す酸無水物を反応させて得られる感光性樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）稀釈剤を含有する。感光性樹脂（Ａ）は、構造式〔Ｉ〕に示す酸無水物に起因する残基を側鎖に有し、この感光性樹脂組成物にて形成される被膜の基板密着性が向上し、この被膜の鉛筆硬度が向上し、その乾燥塗膜の指触タック性が向上し、またアルカリ可溶性が向上する。
（もっと読む）

【課題】現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、硬化膜柔軟性に優れ、テンティング性、良好なエッチング液耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、共重合成分としてベンジル（メタ）アクリレートを含有し、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：１０〜９０質量％、（ｂ）光重合性不飽和化合物：３〜７０質量％、及び（ｃ）光重合開始剤としてオフィンダイマー化合物：０．１〜２０質量％、及び、感度向上剤としてピラゾリン化合物：０．１〜２０質量％を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 プリント配線板の製造に用いられるソルダーレジストや、各種電子部品の絶縁樹脂層として有用であり、高感度で塗膜特性や指触乾燥性を低下させることなく、レーザー・ダイレクト・イメージング工法にも対応し得る光硬化性・熱硬化性樹脂組成物、及びその硬化物並びにそれを用いてパターン形成されたプリント配線板を提供する。
【解決手段】 （Ａ）（Ａ１）カルボン酸含有樹脂に、（Ａ２）１分子内に１個のイソシアネート基と２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させた不飽和基含有カルボン酸樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、（Ｄ）フィラー、及び（Ｅ）分子中に２個以上の環状エーテル基及び／又は環状チオエーテル基を有する熱硬化性成分を含む。 （もっと読む）

【課題】耐折性、感光特性、耐電食性、耐ＰＣＴ性に優れる感光性樹脂組成物、及びこれを用いたレジストパターンの製造方法並びにフレキシブル配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示されるエポキシ樹脂（ａ）に反応性エラストマ成分（ｂ）、不飽和モノカルボン酸成分（ｃ）を反応させて得られるエステル化物にさらに飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｄ）を付加した付加反応生成物である酸変性ビニルエポキシ樹脂（Ａ）、光開始剤（Ｂ）、エポキシ樹脂（Ｃ）、ゴム微粒子（Ｄ）を成分とする感光性樹脂組成物。


（Ｒは、水素原子あるいは下記式（ＩＩ）であり、ｎは１以上の整数である）
（もっと読む）

【課題】 ４０５±１０ｎｍの波長の露光光源に対する感度、解像度に優れ、テンティング性の良好な、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供する。
【解決手段】 （ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含み、酸当量が１００〜６００で、重量平均分子量が５０００〜５０００００である熱可塑性共重合体：２０〜９０％、（ｂ）末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５％、（ｃ）光重合開始剤：０．０１〜３０％、（ｄ）特定のピラゾリン化合物：０．００１〜１０％を含有し、（ｂ）付加重合性モノマーとしてアルキレンオキシド変性ビスフェノールＡから誘導される（メタ）アクリレートを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 成分中にハロゲンを含まずに優れた難燃性を有し、ブリードアウトを生じず、良好な耐熱性、耐薬品性、難燃性、耐湿性を有する感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）


で表されるリン化合物、（Ｂ）有機溶媒に可溶なポリアミド酸及び／又は有機溶媒に可溶なポリイミド、（Ｃ）Ｃ、Ｈ、Ｏ、Ｎ原子のみからなる、１分子中に１個以上の炭素−炭素二重結合を有する化合物及び（Ｄ）光反応開始剤を必須成分とする感光性樹脂組成物であって、前記（Ｃ）成分は２種類の異なる化合物を用いるとともに、１種以上の（メタ）アクリレート化合物を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、表面のタック性が少なく、フィルム化した際の保護フィルムや支持体からの剥離性に優れ、現像性、保存安定性に優れ、現像後に優れた表面硬度、解像度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性組成物及びこの感光性組成物を用いた感光性フィルム、並びに半導体分野における高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法、及びパッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターンを提供。
【解決手段】（Ａ）分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．０〜４．０であるエポキシアクリレート化合物と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱架橋剤と、を少なくとも含むことを特徴とする感光性組成物及び感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターンである。 （もっと読む）

【課題】装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどの永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光層１２に対し、光照射手段からの光を受光してパターン情報に基づいて変調する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させ、前記光変調手段により変調された光を、結像手段と、焦点調節手段とを介して前記感光層１２の被露光面上に結像させて露光を行うことを少なくとも含み、前記露光が、前記光変調手段により変調された光を、前記結像手段の中央部を含む略矩形状の領域８１Ｔのみにおいて結像し、前記略矩形状８１Ｔの短辺方向を、前記感光層１２のうねり方向に向けて行われることを特徴とする永久パターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、かつ基体に対して凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用いることにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料における該感光層に対し、光照射手段からの光を受光してパターン情報に基づいて変調する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させ、前記光変調手段により変調された光を、結像手段と、焦点調節手段とを介して前記感光層の被露光面上に結像させて露光を行うことを少なくとも含み、前記露光が、前記光変調手段により変調された光を、前記結像手段の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて結像し、前記略矩形状の短辺方向を、前記感光層のうねり方向に向けて行われることを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、かつ基体に対して凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用いることにより、微細なパターンを高精度に形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料における該感光層に対し、光照射手段から出射した光ビームを、光分布補正手段を有する集光光学系を介して照射し、前記光変調手段により変調された光ビームを照射して露光を行うことを少なくとも含み、該露光が、前記光照射手段から前記光変調手段に照射される光ビームの照射領域内での光量に分布を持たせ、前記光変調手段により変調された光ビームの光量分布が、前記感光層の被露光面上において均一となるように補正されて行われることを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うパターン形成方法において、凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用い、かつ露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料における該感光層に対し、前記描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、描画画素の配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して露光を行うことを含むことを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 高感度で、現像性に優れ、高解像度なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含む感光層を有し、該感光層の感度が２０ｍＪ／ｃｍ^２以下であり、該感光層を、線幅１０〜４０μｍでライン／スペース（Ｌ／Ｓ）＝１／１及びＬ／Ｓ＝１／１００で露光し現像して得られたパターンの、前記Ｌ／Ｓ＝１／１の露光により形成されるラインパターンと、Ｌ／Ｓ＝１／１００の露光により形成されるラインパターンとの線幅の差が５μｍ以下であることを特徴とするパターン形成材料。前記バインダーのＩ／Ｏ値が、０．５〜０．８である態様、重合性化合物のＩ／Ｏ値が、０．５〜１．５である態様などが好ましい。また、前記パターン形成材料を使用するパターン形成装置及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、画像部の画像抜け（画像の欠損）防止性に優れ、保存性に優れる感光性平版印刷版材料、この感光性平版印刷版材料を与える感光性組成物、及びこの感光性平版印刷版材料を用いた平版印刷版材料の画像形成方法を提供することにある。
【解決手段】 活性光線の照射により酸を発生し得る酸発生剤、該酸により重合可能な基を有する化合物、アルカリ可溶性高分子結合剤及びシロキサングリコール共重合体を含有することを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度かつ高解像度で、低露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性、剥離液耐性等に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、（ａ２）下記式（１）で示される２つ以上の水酸基含有不飽和化合物と、（ａ３）他の不飽和化合物との共重合体に、メタクリロイルオキシアルキルイソシアネートを反応させて得られる重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。
式（１）


（式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基、ｐは０〜３、ｑは１〜１２の整数である。） （もっと読む）

【課題】高密度光記録媒体、３次元ディスプレイ、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高回折効率、良保存性、低収縮率、乾式処理、多重記録特性（高記録密度）を両立することができるホログラム記録材料及びホログラム記録方法を提供する。とりわけ乾式処理かつ保存性に優れたホログラム記録材料と記録方法を提供する。
【解決手段】ホログラム露光によりホログラム記録材料に潜像を形成する第一の工程と、潜像が形成されたホログラム記録材料に熱処理を施し干渉縞を屈折率変調により形成する第二の工程と、熱処理後のホログラム記録材料をさらに全面光照射して形成した屈折率変調による干渉縞を定着する第三の工程と、を含み、記録を消去することなく再生可能とできるホログラム記録方法。 （もっと読む）