永久パターン形成方法

【課題】装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどの永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光層１２に対し、光照射手段からの光を受光してパターン情報に基づいて変調する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させ、前記光変調手段により変調された光を、結像手段と、焦点調節手段とを介して前記感光層１２の被露光面上に結像させて露光を行うことを少なくとも含み、前記露光が、前記光変調手段により変調された光を、前記結像手段の中央部を含む略矩形状の領域８１Ｔのみにおいて結像し、前記略矩形状８１Ｔの短辺方向を、前記感光層１２のうねり方向に向けて行われることを特徴とする永久パターン形成方法である。

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【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダーと、重合性化合物と、光重合開始系化合物と、熱架橋剤と、を少なくとも含む感光性組成物で基材の表面に形成された感光層に対し、
光照射手段からの光を受光してパターン情報に基づいて変調する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させ、前記光変調手段により変調された光を、結像手段と、焦点調節手段とを介して前記感光層の被露光面上に結像させて露光し、現像することを少なくとも含み、
前記露光が、前記結像手段の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて、前記光変調手段により変調された光が結像され、
前記感光層の被露光面上に結像される略矩形状の露光領域が、その短辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角が、その長辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角よりも小さくなるように向けられて行われることを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項２】
結像手段が、長辺の長さが短辺の長さの２倍以上の略矩形状の領域において、光変調手段により変調された光を結像する請求項１に記載の永久パターン形成方法。
【請求項３】
焦点調節手段が、光変調手段により変調された光の光軸方向の厚さが変化するように形成されたくさび型プリズムペアを有し、
前記くさび型プリズムペアを構成する各くさび型プリズムを移動することによって、前記光変調手段により変調された光を感光層の被露光面上に結像する際の焦点を調節する請求項１から２のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項４】
焦点調節手段が、結像光学系を構成する光学部材と、ピエゾ素子とを有し、
前記光学部材を前記ピエゾ素子により移動させることによって、前記光変調手段により変調された光を感光層の被露光面上に結像する際の焦点を調節する請求項１から２のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項５】
結像手段が、光変調手段により変調された光の光軸に対し、前記光軸を中心に回転可能なレンズ、及び前記光軸に対して垂直方向に移動可能レンズのいずれかにより構成されてなる請求項１から４のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項６】
光変調手段が、空間光変調素子である請求項１から５のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項７】
感光層の形成が、感光性組成物を基材の表面に塗布し、乾燥することにより行われる請求項１から６のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項８】
感光層の形成が、支持体と該支持体上に感光性組成物が積層されてなる感光層とを有する感光性フィルムを、加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において基材の表面に積層することにより行われる請求項１から６のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項９】
バインダーがエポキシアクリレート化合物の少なくとも１種、並びに、側鎖に（メタ）アクリロイル基及び酸性基を有するビニル共重合体の少なくとも１種の少なくともいずれかを含む請求項１から８のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１０】
熱架橋剤が、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物にブロック剤を反応させて得られる化合物、及びメラミン誘導体から選択される少なくとも１種である請求項１から９のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１１】
感光性組成物が、増感剤を含む請求項１から１０のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１２】
増感剤が、縮環系化合物、並びに、少なくとも２つの芳香族炭化水素環及び芳香族複素環のいずれかで置換されたアミン系化合物から選択される少なくとも１種である請求項１１に記載の永久パターン形成方法。
【請求項１３】
支持体が、合成樹脂を含み、かつ透明である請求項８から１２のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１４】
支持体が、長尺状である請求項８から１３のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１５】
感光性フィルムが、長尺状であり、ロール状に巻かれてなる請求項８から１４のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１６】
感光性フィルムが、感光層上に保護フィルムを有してなる請求項８から１５のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１７】
感光層の厚みが、３〜１００μｍである請求項１から１６のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１８】
基材が、配線形成済みのプリント配線基板である請求項１から１７のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１９】
光照射手段が、半導体レーザ素子から発せられたレーザ光を出射する請求項１から１８のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項２０】
光照射手段が、半導体レーザ素子から発せられたレーザ光を一端から入射し、入射したレーザ光を他端から出射する光ファイバを複数本束ねたバンドル状のファイバ光源である請求項１９に記載の永久パターン形成方法。
【請求項２１】
光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である請求項１９から２０のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項２２】
光照射手段が、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザビームを平行光化して集光し、前記マルチモード光ファイバの入射端面に収束させる光源集光光学系とを有する請求項１９から２１のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項２３】
レーザ光の波長が３９５〜４１５ｎｍである請求項２２に記載の永久パターン形成方法。
【請求項２４】
現像が行われた後、感光層に対して硬化処理を行う請求項１から２３のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項２５】
硬化処理が、全面露光処理及び１２０〜２００℃で行われる全面加熱処理の少なくともいずれかである請求項２４に記載の永久パターン形成方法。
【請求項２６】
保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する請求項１から２５のいずれかに記載の永久パターン形成方法。

【図１】