【課題】製造性を損なうことなくイオン性不純物のトラップ効率を向上させた電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、電気光学物質層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板と、第１基板と第２基板とを貼り合わせるシール材と、複数の画素が配列された画素領域と、画素領域とシール材との間の周辺領域に電極を備えて設けられたイオントラップ部と、を有する電気光学装置であって、イオントラップ部は、交流電圧を印加される第１トラップ電極と交流電圧の基準電位を入力される第２トラップ電極とを有しており、前記イオントラップ部は、前記交流電圧の印加において、正極性の電圧印加時と負極性の電圧印加時とで前記電気光学物質層を流れる電流量が、前記画素領域よりも大きく異なるように設定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、ドライエッチング耐性及び表面硬度に優れた硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位（ａ１）及びエポキシ基及又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２）を有し、かつ式（１）で表される構成単位を有しない共重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、（成分Ｃ）式（１）で表される構成単位を有する重合体、並びに、（成分Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。Ｒ¹は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ²は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、水酸基又は２，３−エポキシプロポキシメチル基を表し、ｎは１〜５の整数を表す。
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【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、これを用いて液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内のいずれかを含む着色パターン６と、シロキサンポリマーを含む第１の感放射線性樹脂組成物から得られる保護膜８と、アルカリ可溶性樹脂並びに下式（１）または下式（２）の化合物の少なくともいずれかを含む第２の感放射線性樹脂組成物から得られるスペーサ９とを用いてカラーフィルタ１０を製造する。カラーフィルタ１０を用いて液晶表示素子１を構成する。
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【課題】生産性が高く信頼性の高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、表示領域と周辺領域とを有し、第１、第２基板部、液晶層、シール部を備えた液晶表示装置が提供される。第１基板部は、第１基板、第１、第２配線、下側絶縁層、有機絶縁層、表示電極を含む。第１基板は、第１主面を有す。第１配線は、周辺領域の第１主面上に設けられ、第２配線は、周辺領域の第１主面上に設けられ第１配線の外側である。下側絶縁層は、周辺領域の第１主面上に設けられ第１、第２配線の間の配線間部分を有す。有機絶縁層は、表示領域及び周辺領域の第１主面上に設けられ、外縁が配線間部分上である。表示電極は、表示領域で有機絶縁層上に設けられる。液晶層は、表示電極と第２基板部との間に設けられる。シール部は、周辺領域において液晶層を囲み有機絶縁層の外縁を覆う。 （もっと読む）

【課題】配向膜の塗布均一性が向上し、パッド上の厚い配向膜領域が無くなり、表示領域へのダメージを最小限に抑制したパッド上の配向膜のエッチングが可能となると同時に、駆動基板と透明基板間のセルギャップを均一にする。
【解決手段】駆動基板の表面の層間絶縁膜２６上の平面矩形状の金点パッド２３が従来のレイアウトと比較して４５度回転して形成されている。ダミーパッド２７及び金点パッド２３の上にシリコン酸化膜２８、レジスト膜２９を順次被覆した後、レジスト膜２９をマスクとし、金点パッド２３上のシリコン酸化膜２８を除去すると同時に、層間絶縁膜２６が露出した三角形状領域２４のシリコン酸化膜２８の部分を金点パッド２３をマスクとして自己整合的にエッチングする。これにより、金点パッド２３から層間絶縁膜２６の角にかけて金点パッド２３の表面よりも高くなる箇所をなくす。 （もっと読む）

【課題】
アルミニウム配線の上側に有機保護膜を配置した場合でも、当該配線の耐腐食性に優れた画像表示装置を提供すること。
【解決手段】
基板（ＳＵＢ）上に画素部と外部接続端子部が設けられ、該画素部と該外部接続端子部とをアルミニウム配線（ＬＮ）で接続する画像表示装置において、該外部接続端子部のコンタクト孔（ＣＨ）及び画素部の一部を除いて、該アルミニウム配線を直接被覆する有機保護膜（ＯＰＡＳ）と、該外部接続端子部を含み該画素部までの該アルミニウム配線を覆うように、該有機保護膜の上側に設けられたＩＴＯ膜（ＩＴＯ）とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 反射電極の間を通過する入射光の光量低減が要望されている。
【解決手段】 半導体基板に、複数のスイッチング素子が形成されている。半導体基板の上に、スイッチング素子に対応して配置され、対応するスイッチング素子に接続された反射電極が形成されている。反射電極の上面及び端面を覆い、反射電極の間の領域において、反射電極の底面と同じか、該底面よりも低い位置に上面が配置されているカバー絶縁膜が形成されている。反射電極の間のカバー絶縁膜の上に、遮光膜が形成されている。遮光膜の上面が、反射電極の上面よりも高い位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ膜等の電極との密着性に優れ、耐熱性に優れた表示素子用硬化膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］メルカプト基を有するポリシロキサン、及び［Ｂ］キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物であり、さらに、［Ａ］メルカプト基を有するポリシロキサン中のＳｉ原子に対するメルカプト基の含有率が、５モル％を超え６０モル％以下であるポジ型感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、製造工程数の増加を招くことなく、画素領域への水分の浸入を防止する。
【解決手段】電気光学装置は、第１基板（１０）上に設けられた複数の画素電極（９）と、複数の画素電極が設けられた画素領域（１０ａ）を囲むように設けられ、第１基板及び第２基板（２０）を貼り合わせるシール材と、第１基板上に、画素電極に容量絶縁膜（７２）を介して対向するように設けられた容量電極（７１）と、画素電極及び容量電極間に吸湿性の絶縁材料から形成された第１絶縁膜（１７）と、第１絶縁膜と同層に第１絶縁膜と同一の吸湿性の絶縁材料から形成されるとともに、画素領域とシール材との間に画素領域を囲むように、且つ、第１絶縁膜とは離間して設けられた第２絶縁膜（６１０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】表面抵抗の高い硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。さらに、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ４）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）特定構造のオキシムスルホネート化合物、（成分Ｃ）特定構造のフッ素系化合物、並びに、（成分Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜及びその形成方法、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置。
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【課題】表示不良および端面剥がれを低減することができる液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶を介して対向配置される一対の基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２のうち少なくとも一方の基板ＳＵＢ１に該基板の端面の近傍まで絶縁膜ＰＡＳ２が形成され、一対の基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２の間に液晶の封入かつ各基板同士を接着させるシール部ＳＬが形成され、シール部ＳＬに形成された液晶封入口１１から液晶が封入される液晶表示装置１００において、絶縁膜ＰＡＳは、シール部ＳＬのうち液晶封入口１１を形成する部分と重なる位置の絶縁膜ＰＡＳ２の端面から基板ＳＵＢ１の端面近傍まで延在した延在部１２を有し、延在部１２は、該延在部１２の厚み方向に直交する断面がシール部ＳＬの幅方向の中心を通る線に対して対称、かつシール部ＳＬの幅方向の幅が一対の基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２を貼り合わせて形成したシール部ＳＬの幅よりも小さく形成されている。 （もっと読む）

【課題】感度及び塗布性に優れ、液晶への汚染が少ない硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物、その硬化膜及び形成方法、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置の提供。
【解決手段】式（ａ１）〜（ａ４）の構成単位を有する共重合体、式（Ｂ）のオキシムスルホネート化合物、式（Ｃ１）又は（Ｃ２）の化合物及び溶剤を含有する感光性樹脂組成物、その硬化膜及び形成方法、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置。
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【課題】例えば切替え可能な公衆／個人ディスプレイとして用いられ得る液晶装置を提供する。
【解決手段】ホメオトロピック配向表面１１を有する、アクティブマトリックス基板６と対向基板７とを備えている。配向表面１１の間にネマティック液晶材料の層が配置され、垂直配向ネマティック装置を形成する。基板６，７は、複数の画素領域をそれぞれ規定する、画素電極構成と対向電極構成とを有する。これらの領域のうちの少なくとも一部のそれぞれは、２つの半部に分割される画素電極と、液晶ダイレクタ１２面外チルト角を制御するための第１電界を印加するように構成される対向電極８とを有する。例えば複数の平行な指の形態を有する、さらなる電極は、ダイレクタ面内方位角を制御するための第２電界を印加するために、他の電極８のうちの少なくとも１つと協働する。 （もっと読む）

【課題】 感光性導電フィルムを用いた導電パターンの形成方法において、簡便な方法でパターンを不可視化できるオーバーコート用光硬化性樹脂組成物、およびこれを用いたオーバーコート用光硬化性エレメント、導電パターンの形成方法、導電膜基板を提供する。
【解決手段】 支持体、導電性繊維を含有する導電層、感光性樹脂層の順に積層された感光性導電フィルムを用いて導電パターンを形成後、オーバーコート層を形成するためのオーバーコート用光硬化性樹脂組成物であって、該光硬化性樹脂組成物と、感光性導電フィルムの感光性樹脂層との屈折率差が０．０３以下であるオーバーコート用光硬化性樹脂組成物。支持体、導電性繊維を含有する導電層、感光性樹脂層、必要に応じて保護フィルムの順に積層された感光性導電フィルムを用い、保護フィルムをはく離して、感光性樹脂層面から基板上に積層し、該感光性樹脂層に活性光線を画像状に照射して露光部を光硬化せしめ、露光部以外の部分を除去する導電パターンの形成し、その後、オーバーコート層を形成することからなる導電パターンの形成方法において、感光性導電フィルムの感光層との屈折率差が０．０３以下であるオーバーコート用光硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間での加熱・焼成が可能であると共に、高い放射線感度を有し、得られた硬化膜は耐熱性、透明性，耐溶剤性を有することで、フレキシブルディスプレイのスペーサー、保護膜、層間絶縁膜等の形成に好適に用いられ、さらに保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】（Ａ）エポキシ基を有する化合物、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、並びに（Ｄ）ケチミン及びアルジミンよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。 （もっと読む）

【課題】保存安定性及び感度に優れ、且つ、透明性、耐溶剤性及びパターン形状に優れた硬化膜を形成しうる感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】酸分解性基で保護されたカルボキシ基及び酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基から選択された少なくとも一つを有する構造単位（１）と、エポキシ基及びオキセタニル基から選択された少なくとも一つを有する構造単位（２）と、を含有する共重合体、オキシムスルホネート基を有する特定構造の光酸発生剤、増感剤、及び溶剤を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】アレイ基板上に着色層を有するＣＯＡ型液晶表示装置において、着色層上に形成するＩＴＯ画素電極のエッチングに際して、発生し易いＩＴＯのエッチング残渣を抑制する。
【解決手段】着色層２４を有する表示領域２５の周縁領域に着色層２４の延長上に遮光層２７を形成し、着色層２４及び遮光層２７を覆う保護膜２８を形成する。このとき、遮光層２７の周縁端部を覆う保護膜２８の断面形状は、遮光層の端部から延在し、さらに周縁部に向かうテーパ形状とする。これにより、保護膜２８上に形成する画素電極３０は保護膜２８の急峻性に起因するレジストのエッチング残渣及びＩＴＯのエッチング残渣の発生を抑制することとなる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置等の電気光学装置の製造方法において、高精度で平坦化を行うこと
によって好適なラビング処理を行えるようにし、高品質な画像を表示可能な電気光学装置
を製造する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、基板（１０）上に、構造物（９ａ）を形成する
構造物形成工程と、構成物上に絶縁膜（１５）を形成する絶縁膜形成工程と、構造物に重
なる領域の少なくとも一部において絶縁膜の表面に凹部（１８）を形成する凹部形成工程
と、凹部形成工程の後に、絶縁膜の表面に平坦化処理を行う平坦化工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置等の電気光学装置の製造方法において、光反射性を有する導電性材
料から形成された導電層を高品位にパターニングする。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、光反射性を有する導電性材料から導電層（９）
を形成する工程と、導電層上に保護膜（１９）を形成する工程と、保護膜上にレジスト（
６０）を形成し、当該レジストをパターニングする工程と、パターニングされたレジスト
をマスクとして、保護膜及び導電層に対してエッチングを施す工程とを備える。ここで、
保護膜は、レジストをパターニングする際に用いられる溶液に対する耐性を有する材料か
ら形成される。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成される無機配向膜を構成する柱状構造物のバラツキを抑制する。
【解決手段】液晶装置（１００）の製造方法は、基板（１０）上に配列された画素電極（
９ａ）上に、絶縁材からなる絶縁膜（１５０）を形成する絶縁膜形成工程と、形成された
絶縁膜に対し、該形成された絶縁膜の表面を成膜終了時よりも粗くする粗面加工を施す粗
面加工工程と、粗面加工が施された絶縁膜の上に、無機材料を含んでなる無機配向膜（１
６）を形成する配向膜形成工程とを備える。 （もっと読む）