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Fターム[5E314BB13]の内容

印刷回路の非金属質の保護被覆 (18,974) | 被覆構造 (3,281) | 配線層間 (79)

Fターム[5E314BB13]に分類される特許

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【課題】配線板の薄型化を図ることが可能な配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線板10の製造方法は、第1の絶縁性液体21をフィルム基板100上に塗布して硬化させて、フィルム基板100上に膜状基板20を形成する第1の工程S20と、導電性ペースト33を膜状基板20上に印刷して硬化させて、膜状基板20上に配線パターン30を形成する第2の工程S30と、第2の絶縁性液体41を配線パターン30の少なくとも一部に印刷して硬化させて、配線パターン30の少なくとも一部を保護する保護層40を形成する第3の工程S40と、膜状基板20をフィルム基板100から剥離する第4の工程S50と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性フィルム、リブパターンの形成方法、中空構造の形成方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】中空構造を有する電子部品において前記中空構造を形成するリブ材または蓋材として用いられる感光性樹脂組成物が、(A)熱架橋性化合物と(B)少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と(C)光重合開始剤とを含有し、かつ前記(A)熱架橋性化合物の含有量が、前記(A)縮合反応性の熱架橋性化合物と前記(B)少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物の合計量を100質量部としたときに、10〜40質量である感光性樹脂組成物感光性樹脂組成物及び該感光性樹脂組成物から得られる感光性フィルムを用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の歩留まりを向上させることのできる配線基板、半導体装置及び配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板1は、パッド21を有する最上層の配線パターン20と、その配線パターン20を覆うソルダレジスト層30とを含む。ソルダレジスト層30には、配線パターン20の一部をパッド21として露出させるための凹部30aが形成されている。また、ソルダレジスト層30は、凹部30aに対応する領域に形成されたソルダレジスト層31と、凹部30aよりも外側領域に形成されたソルダレジスト層32と、凹部30aよりも内側領域に形成されたソルダレジスト層33とを含む。そして、ソルダレジスト層31は、その上面がパッド21の上面よりも高く、且つソルダレジスト層32,33の上面よりも低く形成されている。 (もっと読む)


【課題】ヒューズ部の焼損時に確実に電路を遮断することのできるプリント配線板、電子デバイス、及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板10が、孔11a(開口部)を有する絶縁性の樹脂基板11と、樹脂基板11上に形成された、導体からなる第1端子部12a及び第2端子部12bと、第1端子部12a及び第2端子部12bを相互に電気的に接続するヒューズ部12cと、を有する。ヒューズ部12cの少なくとも一部は、孔11a上に配置され、且つ、絶縁性を有する多孔質の無機被覆材13で覆われている。 (もっと読む)


【課題】配線層の剥がれや断線を防止できるフレキシブル配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フレキシブル基材12の上に金属層20aが形成された積層体10の該金属層20aの上にレジストパターン16を形成する工程と、レジストパターン16をマスクにして金属層20aをエッチングすることにより配線層20を形成する工程と、レジストパターン16を残した状態で、配線層20の間の領域Aに補強用樹脂部40を形成する工程と、レジストパターン16を除去して配線層20の上面を露出させる工程とを含む。好適には、配線層20の接続部26の間の領域Aに補強樹脂部40を選択的に形成して接続部26を補強する。 (もっと読む)


【課題】互いに隣接する半導体接続用の接続パッド間の半田による電気的な短絡がなく、電子部品の電極端子とこれに対応する接続パッドとの電気的な接続を確実に固定するための半田量を確保でき、電気的接続信頼性に優れる高密度配線の配線基板を作製するための簡単なソルダーレジストパターンの形成方法を提供。
【解決手段】回路基板1の表面にソルダーレジスト層3を形成する工程、少なくともソルダーレジスト層の厚みが接続パッド6の厚み以下になるまで薄膜化される領域以外の部分を露光する工程、アルカリ水溶液によって非露光部のソルダーレジスト層の厚みが接続パッドの厚み以下になるまでソルダーレジスト層を薄膜化する工程をこの順に含むことを特徴とするソルダーレジストパターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】 表面配線層を被覆している保護層にボイドなどの欠陥が無く、表面配線層のメタライズ強度および平坦度が高く、絶縁基体の表面に形成された表面配線層の周縁部を覆う保護層側において、黒ごまと呼ばれる斑点が無く、かつ絶縁基体の表面を被覆している保護層の表面へのセラミックシートの成分の付着の無いガラスセラミック配線基板を提供する。
【解決手段】 ガラスセラミック絶縁層11、12、13、14の表面に形成された表面配線層2の周縁部に形成された保護層231と、その周囲の前記ガラスセラミック絶縁層11、12、13、14を部分的に被覆している保護層232とを、SiOのフィラー、酸化クロム、およびガラス成分の組成を異ならせて形成したものである。 (もっと読む)


【課題】放熱効果の大部分を保持しつつ、高熱伝導絶縁材の使用量を必要最小限に抑えることが可能なプリント配線板の放熱構造の提供。
【解決手段】発熱源と、特定幅のクリアランスを介して設けられる複数の導体べたパターンとから成る配線層を有するプリント配線板の放熱構造であって、クリアランスに、このクリアランスの両側の導体べたパターンにオーバーラップさせるように電気絶縁性のある熱伝導率が1W/m・K以上の高熱伝導絶縁材を設けてクリアランスの両側の導体べたパターンにブリッジ状に接触させるか、若しくは、クリアランスにのみこのクリアランスの両側の導体べたパターンに接触するように高熱伝導絶縁材を設け、この高熱伝導絶縁材を部品搭載面積を除くプリント配線板の発熱源側表層面の全表面積の80%未満の面積で設ける。 (もっと読む)


【課題】クロストークノイズが抑制された回路基板の製造方法に係り、特には、多層構造とされた回路基板の製造方法に関する。
【解決手段】誘電体材料からなる絶縁層上に複数の信号配線を形成する工程と、絶縁層と同一の誘電体材料を信号配線のそれぞれ同士間に充填して配線間絶縁部を形成する工程と、絶縁層となる誘電体材料よりも比誘電率の小さい微粒子を配線間絶縁部に注入する工程とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】POP型の半導体装置において、組み合わせる半導体パッケージの自由度を向上できる技術を提供する。
【解決手段】下段の実装基板である配線基板1Cに金属製の導電性部材3Aを設け、上段の実装基板である配線基板2Cに金属製の導電性部材3Bを設け、これら導電性部材3Aと導電性部材3Bとを対応するもの同士接合することで、配線基板1Cと配線基板2Cとを電気的に接続する。配線基板2Cの主面側には、導電性部材3Bと電気的に接続し、上段の半導体部材32が搭載される電極パッド4Bを形成し、電極パッド4Bは平面で下段の半導体チップ22と重なる位置にも配置する。 (もっと読む)


【課題】絶縁体を介して配線層を積層する際に、各配線層間の絶縁を確保することができる配線板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板20上に形成された第1配線層22と、少なくとも第1配線層22を被覆する絶縁体31と、第1配線層22上に絶縁体31を介して形成され、第1配線層22を跨ぐように配置されたジャンパー配線32とを備えた配線板10において、絶縁体31は、複数の絶縁層34,35が積層されてなることを特徴とする (もっと読む)


【課題】製造コストの低減したプリント基板およびその製造方法、回路基板を得ること。
【解決手段】第1の配線2の第1のパッド5と第2の配線3の第2のパッド6とに挟まれた第3の配線4に、予め絶縁体からなるシルク印刷部8が設けられているので、第1のパッド5と第2のパッド6とを半田等で接続することによって、第1の配線2と第2の配線3とのクロスパターン配線を容易にできる。また、シルク印刷部8は、片面基板に印刷される記号、番号等のシルク印刷を利用して形成できる。したがって、使用する部材を増やさず、製造コストを低減できるプリント基板10およびその製造方法を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 定在波や反射が発生しないプリント配線板の製造方法を提案する。
【解決手段】 コア基板30に外層スルーホール36を形成し、外層スルーホール36内に樹脂充填剤を充填して外層絶縁層42を形成する。その後、外層スルーホール36内に内層スルーホール62を形成し、内層スルーホール62内に樹脂充填剤を充填して内層絶縁層64を形成している。外層スルーホール36と内層スルーホール62とを同軸構造とすることにより、インピーダンスを整合でき、定在波や反射の発生を防ぐことが可能となる。 (もっと読む)


【課題】薄型化された半導体チップが配線基板の間に実装されて樹脂封止された構造の半導体装置において、密着性が改善されて十分な信頼性が得られる半導体装置を提供する。
【解決手段】第1配線基板10と、第1配線基板10の上にフリップチップ実装されて、上面が鏡面処理された半導体チップ30と、半導体チップ30の上面に形成された密着層40と、第1配線基板10の上にバンプ電極62を介して接続されて積層され、半導体チップ30を収容する収容部を構成する第2配線基板50と、第1配線基板10と第2配線基板50との間に充填されたモールド樹脂76とを含む。密着層40は離型材を含まない樹脂又はカップリング材から形成される。 (もっと読む)


【課題】製造工程を簡単化することにより製造コストを安価にした第1プリント配線板と電子部品および第2プリント配線板との接続構造および接続方法を提供すること。
【解決手段】配線基板1の配線電極4には、フレキシブルプリント配線板3の金属電極5が電極接続用接着剤2によって接続される。そして、配線電極4および金属電極5には、配線電極4および金属電極5の表面に酸化防止のための有機膜である酸化防止膜4a,5aがそれぞれ形成されている。これら酸化防止膜4a,5aの膜厚Tは、0.05μm以上0.5μm以下に形成されている。 (もっと読む)


【課題】1対の接続用の端子付きの電子部品を内蔵した部品内蔵プリント配線基板の不良を防止することができる部品内蔵プリント配線基板および部品内蔵プリント配線基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】コア層1にチップ部品7が実装された部品内蔵プリント配線基板において、コア層1において端子7aが半田接合される1対の電極3aの中間に位置してこの電極3aの幅寸法に対応した範囲にレジスト4を形成し、このレジスト4および電極3aと端子7aとを接合する半田部6a*を封止樹脂部6b*で覆う構造とする。これにより、チップ部品7の実装後のコア層1を対象として行われる粗化処理における半田部6a*やレジスト4へのダメージや、再加熱時に半田部6a*が再溶融した溶融半田の流動に起因する電極3a間の短絡などの部品内蔵配線基板17の不良を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】導体パターンの腐食防止効果を高めることができるプリント基板を提供する。
【解決手段】プリント基板1において、絶縁基板2と、絶縁基板2の表面に形成された導体パターン3と、絶縁基板2と導体パターン3とを覆う位置に形成され、回路部品7が接続される導体パターン3の接続部8を露出させた絶縁性を有するレジスト層4と、レジスト層4の表面の全面に亘って形成され、接続部8を露出させた第1印刷層5と、第1印刷層5の表面にこの第1印刷層5と異なる色で形成され、導体パターン3のエッジ部の上方を覆うエッジ被覆部6aと文字や記号等の標章を表示する標章表示部6bとを有する。 (もっと読む)


【課題】接続バンプを介して積層された配線基板の間に、不具合が発生することなく樹脂を信頼性よく充填できる樹脂封止装置を提供する。
【解決手段】下型12と、その上に配置されて、下面側に凹部14aが設けられ、凹部14aの底面周縁部に開口部側に突出して部分的に底上げする突起部5が設けられた上型14と、上型14の下面側に設けられ、吸引吸着によって凹部14aの凹面に沿って密着する保護フィルム20とを含み、接続バンプ36を介して複数の配線基板32,34が積層された積層配線基板30を、下型12と上型14の凹部との間に配置して挟んだ状態で、樹脂供給部Bから積層配線基板30の間を含むキャビティCに溶融した樹脂を流入させて樹脂封止する。 (もっと読む)


【課題】安定生産が可能で、且つ、発生する廃棄物量が少ないコアレスビルドアップ法による多層プリント配線板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】この目的達成のため、支持基板作成工程(ベース銅箔2Bの有機防錆剤皮膜3を備える面と絶縁層構成材4とを張り合わせて支持基板5を製造。)、ビルドアップ配線層形成工程(支持基板の前記ベース銅箔の表面にビルドアップ配線層を設け、ビルドアップ配線層付支持基板を製造。)、ビルドアップ配線層付支持基板分離工程(ビルドアップ配線層付支持基板の支持基材のベース銅箔と絶縁層とで分離して、多層銅張積層板を製造。)、多層プリント配線板形成工程(多層銅張積層板に配線形成し、多層プリント配線板を得る。)を含む製造方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】微細な導体回路を形成するのに好適な多層プリント配線板の製造方法等を提供する。
【解決手段】本発明に係る多層プリント配線板100は、第1絶縁材と、前記第1絶縁材上に形成されている第1導体回路と、前記第1絶縁材上及び前記第1導体回路上に形成されていて、前記第1導体回路に達する開口部を有する第2絶縁材と、前記第2絶縁材上に形成されている第2導体回路と、前記開口部に形成されていて前記第1導体回路と前記第2導体回路とを接続するビア導体とを有する多層プリント配線板であって、前記第1導体回路の側面を含む表面の少なくとも一部には絶縁性薄膜が形成されており、前記ビア導体は前記開口部により露出される前記第1導体回路表面に直接接続されている。 (もっと読む)


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