【課題】物体上に形成された複数の基準マークの位置検出精度を維持しながら検出時間の短縮を図る。
【解決手段】実測すべき基準マークの各々を対象マークとしながら評価値を求め、それらの評価値に基づき基準マークの補間位置情報が実測位置情報と一致することの確からしさを評価する。そして、最良評価値≦しきい値を満足する場合、つまり一の基準マークの位置情報を他の基準マークの位置情報から高い確からしさで補間できる場合、実測すべき基準マークから一の基準マークを除外する。このため、２枚目以降の基板については、高い検出精度を保ちながら実測すべき基準マークの個数を低減することができ、スループットを向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】現実の光ファイバの劣化に即して交換寿命を報知し、経済性と安定作動の確保とを両立可能なレーザ装置を提供する。
【解決手段】本発明の態様は、ファイバ光増幅器２２３を有するレーザ光出力部と、波長変換光学素子３４を有する波長変換部とを備えたレーザ装置である。レーザ装置ＬＳは、ファイバ光増幅器２２３の励起光のパワーを検出して第１検出信号Ｐａを出力する励起光検出器６１と、波長変換光学素子に入射させるべき偏光方向の光の強度等を検出して第２検出信号Ｐｂを出力するｓ偏光検出器６２と、ファイバ光増幅器２２３の作動状態を判断するＦＡ判断部６８とを備える。ＦＡ判断部６８は、第１検出信号Ｐａの変化量に対する第２検出信号Ｐｂの変化量（ｄＰｂ）／（ｄＰａ）が寿命基準値以下になったときに、寿命判定信号を出力するように構成される。 （もっと読む）

【課題】複数枚の個別基板となる領域が形成された基板を露光する際に、短い露光タクトで高精度且つ高解像度の露光を行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、光源１１とマスク１２とを透過した露光光が入射され、正立等倍像を基板上に結像させる複数個のマイクロレンズが所定の規則性をもって配置されたマイクロレンズアレイ１３が設けられている。そして、基板２が所定位置に到達したときに、光源１１からパルス的にレーザ光を照射して、基板を順次露光し、基板の露光対象領域の全域が露光された後、マイクロレンズアレイ１３とマスク１２との相対的な位置関係を、マイクロレンズ１３１の行ピッチだけ、列方向に順次切り替えて、次順の露光を行う。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の安定性を向上する。
【解決手段】光学装置は、レーザ光のビーム伝播経路上に配置された光学モジュールと、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記レーザ光のビーム伝播経路を調節するアクチュエータ部と、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記ビーム伝播経路を検出する計測部と、 前記計測部によって検出された前記レーザ光のビーム伝播経路の検出結果に基づいて、前記アクチュエータ部を制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の安定性と制御性とを向上する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置３と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ装置３から出力されるレーザ光３１を内部に導入するための少なくとも１の入射口が設けられたチャンバ２と、前記レーザ装置３から出力される前記レーザ光３１のビーム断面を拡大する拡大光学系５０と、ビーム断面が拡大された前記レーザ光３１を集光する集光光学系２２と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤ光源において使用するＬＥＤ素子数を削減し、小型で低コストで、短時間に十分な光量を獲ることができる露光用光源を提供する。
【解決手段】
露光装置を、露光光を発光する露光用光源手段と、露光用基板を載置して平面内で移動可能なテーブル手段と、テーブル手段と露光用光源手段とを制御する制御手段とを備えて構成し、露光用光源手段は複数の発光素子を２次元に配列した光源部を備え、制御手段は、露光用光源手段でテーブル手段に載置された露光用基板を所定の時間内に所定の露光総光量で露光するときに、光源部を制御してこの光源部から複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させて露光用基板に照射するように構成した。 （もっと読む）

【課題】複数の波長変換処理を組み合わせて行う際、また波長変換処理と光変調処理とを組み合わせて行う際に、これらの組み合わせ処理を安定的に、かつ高い効率で行うことができる優れた光学性能を有する光学デバイス、当該光学デバイスを用いて所望波長のレーザ光を安定して発生するレーザ装置、および当該光学デバイスを用いて所望波長の光を被露光面に照射して露光する露光装置を提供する。
【解決手段】強誘電体基板３１では、波長変換部３１５と出射面３１１ｂとの間に空間光変調部３５が設けられ、波長変換部３１５から出力されるレーザ光を変調するとともに特定波長の０次光のみが基板に導光されてＬＳＩデータに対応するパターンが描画される。また、単一の強誘電体基板３１内で波長変換部３１４、３１５とともに空間光変調部３５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】一定方向に一定速度で搬送される被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に平行に並んだ複数のレーザビームに強度変調を与えて射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出した複数のレーザビームを被露光体４上に一定間隔に並べて集光するｆθレンズ７と、ｆθレンズ７を射出した複数のレーザビームを被露光体４の搬送方向と交差する方向に回折させて、互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査する音響光学素子８と、を備え、音響光学素子８は、レーザビームの回折方向の軸が光軸を中心に被露光体４の搬送方向と直交する方向に対して一定角度だけ回転した状態に配設され、音響光学素子４の光射出側には、複数のレーザビームの０次回折光を遮断する遮光マスク２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】投影領域の形状に応じて容易に露光を行うこと。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光装置であって、パターンを形成するパターン形成部と、パターンを対象面に投影する投影光学系と、対象面のうちパターンが投影される投影領域の露光光の光軸方向の形状に応じて投影光学系の開口数を調整する開口数調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜を複数の大ブロックＢ１に分割し、前記大ブロックを複数の小ブロックＢ２に分割するステップと、前記大ブロック内の小ブロック毎に、段階的に異なる照射照度を設定するステップと、複数の発光素子Ｌに対し相対的に移動する前記基板の感光膜に対し、前記小ブロック毎に設定された照射照度に基づき、前記発光素子を発光制御するステップと、前記感光膜を現像処理するステップと、前記小ブロック毎に、前記感光膜の残膜厚を測定し、前記小ブロックに設定された照度と残膜厚との相関データを得るステップと、前記相関データに基づき前記大ブロック毎に設定された感光膜の目標残膜厚から、各大ブロックに照射する必要照度を求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきによる光ビームの回折光の強度分布のばらつきを補正して、描画品質を向上させる。
【解決手段】チャックと、光ビームを供給する照明光学系２０ｃ、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器２５、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路２７、及び空間的光変調器２５により変調された光ビームを照射する照射光学系２０ｂを有する複数の光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する。各光ビーム照射装置の空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきに応じて、各光ビーム照射装置の空間的光変調器へ供給する光ビームの入射角度を調節する。 （もっと読む）

【課題】感光媒体上に形成される光像にスペックルが目立たないようにし、かつ被照明領域内の明るさのムラの発生を効果的に抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１０は、光学素子５０と、照射装置６０と、空間光変調器３０とを備える。走査デバイス６５を用いて、コヒーレント光をホログラム記録媒体５５上で走査させ、ホログラム記録媒体５５から照射されたコヒーレント光を被照明領域ＬＺと重なり合う空間光変調器３０に入射する。また、空間光変調器３０に近接して感光媒体１５を配置するため、きわめて簡易な構成で、感光媒体１５上にスペックルを目立たせずにコヒーレント光を導光できる。 （もっと読む）

【課題】 照射光学系で光量が適正に変更される高精度の露光描画を行うことができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】 光量調節部５５０は、入射したレーザ光が光透過量変更手段５５１による透過率傾向が反映されるが、光透過分布調整手段５５２によって逆の透過率傾向が反映される。その結果、相殺され位置によるバラツキが低減された透過率がラインビーム全体で得られる。パターン描画装置１００によれば、光量調節部５５０によって、位置によるバラツキが低減されたラインビームが変調素子５３７に導入されることとなり、結果、画素間の光量バラツキが低減された露光を実現できる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、消費電力が少なく長寿命で、かつ必要な波長域の光を必要な光量で効率よく出射して露光することができる露光装置および光源装置が得られる。。
【解決手段】 光源ユニット４１は、第１のＬＥＤアレイ４１１、第１のレンズアレイ４１２、第２のＬＥＤアレイ４１３、第２のレンズアレイ４１４、ダイクロイックミラー４１５、第３のレンズアレイ４１６、第１の結像光学系４１７を備える。第１のＬＥＤアレイ４１１は、中心波長３８５ｎｍの光を出射する。第２のＬＥＤアレイ４１３は、中心波長３６５ｎｍの光を出射する。ダイクロイックミラー４１５は、第１のＬＥＤアレイ４１１の発光部４１１ｃの像に第２のＬＥＤアレイ４１３の発光部４１３ｃの像を重ねて合成する。
（もっと読む）

【課題】露光後の熱反応型レジストの再酸化を抑制でき、現像差の減少を抑制して微細パターンを正確に形成できる微細パターン形成方法及び露光装置を提供すること。
【解決手段】本発明の微細パターン形成方法は、基材上に設けられ、加熱により還元反応する熱反応型レジスト材料を含んでなるレジスト層にパターンを形成する微細パターン形成方法であって、レジスト層の所定の領域を加熱還元する加熱期間と、不活性雰囲気下又は還元性雰囲気下において、レジスト層の所定の領域を冷却する冷却期間と、を含む還元工程と、レジスト層を現像する現像工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】駆動回路３５３の発熱量変化に依らず、光変調素子３５２周囲の雰囲気温度を安定させることで、光路変化を抑制して、光変調を適切に実行できる技術を提供する。
【解決手段】光変調素子３５２や駆動回路３５３が配置された基板３５１に、発熱部３５４bを配置して、この発熱部３５４bにより光変調素子３５２周囲を加熱可能に構成する。駆動回路３５３の発熱量が減少したときには、これに応じて発熱部３５４bの発熱量が増大する一方、駆動回路３５３の発熱量が増大したときには、これに応じて発熱部３５４bの発熱量が減少する。つまり、駆動回路３５３の発熱量の変動傾向に対して反対の傾向で、発熱部３５４bの発熱量を増減させることで、光変調素子３５２周囲の雰囲気温度をある程度の範囲内に維持して、当該雰囲気温度を安定させている。 （もっと読む）

【課題】緩く傾斜する傾斜形状を有する微細構造体を良好に製造する方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂へレーザ光を照射して微細構造体を得る微細構造体の製造方法であって、基板に感光性樹脂を塗布する塗布工程と、感光性樹脂に照射するレーザ光の光量を設定する光量設定工程と、感光性樹脂に、前記設定した光量に応じて、レーザ光の光量を変調させつつスキャニングする露光工程と、露光された前記基板を現像する現像工程と、を備える。製造する微細構造体は、角度が１０度以下の傾斜形状を含む。感光性樹脂は、感光性樹脂を感光、現像した後のレジスト残膜量と露光量とを対応づけたレジスト感度曲線のうち、レジスト残膜量の上限値の３０％から７０％までの範囲において、レジスト感度曲線の傾きが０．２８（μｍ／ｍＷ）より小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイとマスクが所定間隔をおいて固定された露光装置において、マイクロレンズアレイと露光用基板との間のギャップを容易に高精度でマイクロレンズの合焦点位置に調整することができるマイクロレンズ露光装置を提供する。
【解決手段】露光用のレーザ光はマイクロレンズアレイ３のマイクロレンズ３ａによりレジスト膜２上に照射される。顕微鏡１０からの光は、マスク４のＣｒ膜５の孔５ｂを通過し、マイクロレンズ３ｂを透過してレジスト膜２上に照射される。このマイクロレンズ３ｂを透過した光がレジスト膜２上で合焦点か否かを顕微鏡１０で観察することにより、マイクロレンズ３ａによりレジスト膜２に収束される露光光の合焦点を判別できる。 （もっと読む）

【課題】複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器を用い、多重露光を行って基板にパターンを描画する際、多量の描画データを空間的光変調器の駆動回路へ高速に供給する。
【解決手段】多重露光を行って基板１にパターンを描画する際、描画データを、光ビームによる基板１の走査方向と直交する方向において、光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）の隣接するミラー２５ａの中心点間の距離に応じた等間隔の座標毎に分けて、等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２に記憶し、光ビームによる基板１の走査に伴い、描画データを等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２から読み出して光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給する。 （もっと読む）

【課題】液晶基板の配向膜に細かいピッチの線状の光パターンを照射して一方向に走査すると、その走査した方向に応じた一様な配向特性（プレチルト角）が配向膜に付与されるが、従来のマスクを介して光パターンを照射して露光する方式では露光の時間が長くかかり、実用化する上でネックになっていた。
【解決手段】光源から発射された露光光に偏光特性を付与して微小な可動ミラーを多数備えたマイクロミラーデバイスに入射させ、マイクロミラーデバイスの微小な可動ミラーにより形成された反射パターンで反射された露光光のパターンを投影光学系を介してステージに載置された表面に配向膜が形成された基板に投影して配向膜を露光する液晶用配向膜を露光する方法において、ステージを一方向に連続的に移動させることにより一方向に連続的に移動している基板上を露光光のパターンがステージの移動速度よりも遅い速度で移動して配向膜を露光するようにした。 （もっと読む）