【課題】カスケード方式の洗浄装置における菌体の繁殖を簡易な手段で防止することができ、被洗浄物の洗浄効率を向上させることができる洗浄装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１がローラー２で搬送され、ジェット洗浄ノズル３及び最終リンスノズル４で洗浄される。最終リンスノズル４に純水が供給される。最終リンスノズル４からの洗浄排水がタンク７に流入し、ポンプ９からノズル３に供給される。タンク７内の菌体数が増加した場合、タンク７内の水をオゾン水供給装置１２に循環通水し、タンク７内にオゾン水を供給し、殺菌する。 （もっと読む）

【課題】処理装置側の処理速度が速くなった場合でも対応することが出来、また横行コンベア又はトラバーサーが故障してしまった場合であっても、上記ガラス基板の投入や回収を行うことが出来る高速マルチローダーを提供する。
【解決手段】ガラス基板を処理する処理装置にガラス基板を投入し、処理装置で処理されたガラス基板を回収するマルチローダーであって、ガラス基板を収納したカセットとガラス基板を回収するカセットをそれぞれ載置する部位を三個以上備えた載置部と、載置部から処理装置側に順に設けられた、ガラス基板の受け入れ受け渡しを行う上下二段からなる第一搬送手段と、第一搬送手段とガラス基板の受け入れ受け渡しを行う左右二列と上下二段からなる第二の搬送手段と、第二の搬送手段と処理装置との間でガラス基板の受け渡し受け入れを行う第三の搬送手段と、を備えたことを特徴とするガラス基板の高速マルチローダー。 （もっと読む）

【課題】液晶表示パネルに発生した不良を低コストで修正する。
【解決手段】液晶表示パネル５０ａの一方の表面に接触して、液晶表示パネル５０ａに対して加熱及び加圧を行う加熱加圧ユニット６０と、加熱加圧ユニット６０で加熱及び加圧が行われている液晶表示パネル５０ａの他方の表面に接触して、液晶表示パネル５０ａに対して加振を行う加振ユニット１００ａとを備えている。 （もっと読む）

【課題】切断予定線を境界として脆性板状物を製品部と非製品部とに分割する際に、製品部に微小欠陥が形成される可能性を可及的に低減する切断方法を提供する。
【解決手段】支持部材４により下方側から横姿勢で支持された脆性板状物Ａ（積層体１０）の切断予定線ＣＬに沿ってレーザビームＬＢを照射し、切断予定線ＣＬを境界として積層体１０を製品部Ｍと非製品部Ｎとに分割する切断装置１である。支持部材４は、製品部Ｍおよび非製品部Ｎをそれぞれ支持可能な第１支持部６および第２支持部７を有する。支持部材４を構成する第１支持部６の支持面６ａは、第２支持部７の支持面７ａよりも上方に位置しており、製品部Ｍを非製品部Ｎよりも上方に位置させた状態で切断予定線ＣＬの切断が完了する。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルムに形状変化が生じた場合であっても、樹脂フィルムと基板との位置合わせを精確に行うことができるアライメント方法を提供すること。
【解決手段】樹脂フィルム１６の一方の面１６ａと基板１８の一方の面１８ａとを貼り合わせる際に、前記樹脂フィルム１６と前記基板１８とを位置合わせするアライメント方法であって、次の工程：前記基板１８に対向するように配置されたステージ１２に、前記樹脂フィルム１６の他方の面が接するように前記樹脂フィルム１６を載置し、該樹脂フィルム１６を前記他方の面側から固定する固定工程；前記樹脂フィルム１６の変形部位を検出する検出工程；及び前記変形部位の検出結果に基づいて、前記固定した状態で前記樹脂フィルム１６をその平面方向に伸縮する伸縮工程；を含むことを特徴とする樹脂フィルム１６と基板１８とのアライメント方法。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの変形を補正することによって転写精度を向上させる液晶露光装置を提供する。
【解決手段】ステージ機構４２，４３と、フォトマスク７１を支持するフォトマスク支持フレームと、フォトマスク支持フレームの歪みを検出する歪み検出手段と、フォトマスク７１の変形を補正する補正手段と、フォトマスク７１の変形パターンと歪みの分布とが対応して記憶されている変形パターン記憶手段と、歪み検出手段によって検出された歪み分布と、変形パターン記憶手段から読み出した変形パターンの歪み分布とを比較して、フォトマスク７１の変形パターンを推定し、推定した変形パターン、及び、歪み検出手段によって検出された歪み量に基づいて、フォトマスク７１の変形を打ち消す補正量を算出し、当該補正量に対応する電圧を補正手段に対して出力する制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】治具を使用することなくガラス基板に対して化学研磨処理を施すことが可能な枚葉式の化学研磨装置を提供する。
【解決手段】化学研磨装置１０は、搬送部および研磨処理部を少なくとも備える。搬送部は、ガラス基板１００の底面を支持しつつ水平方向に搬送するように構成された複数の搬送ローラ５０を備える。研磨処理部は、第１〜第４の処理チャンバ１６，１８，２０，２２、第１〜３の中継部２８，３０，３２を備える。第１〜第４の処理チャンバ１６，１８，２０，２２は、それぞれがガラス基板に対して同一組成の化学研磨液を噴射するように構成される。第１〜３の中継部２８，３０，３２は、各処理チャンバを連結するように構成される。第１〜第４の処理チャンバ１６，１８，２０，２２のそれぞれは、ガラス基板１００の搬送方向に直交する方向に揺動可能な噴射ノズルを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた樹脂層付きキャリア基板を用いた、生産性に優れた電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】剥離性ガラス基板と電子デバイス用部材とを含む電子デバイスの製造方法であって、易剥離性を示す表面を有する剥離性ガラス基板を得る表面処理工程と、剥離性ガラス基板上に未硬化の硬化性樹脂組成物層を形成する硬化性樹脂組成物層形成工程と、キャリア基板を未硬化の硬化性樹脂組成物層上に積層する積層工程と、未硬化の硬化性樹脂組成物層を硬化し、樹脂層を有する硬化後積層体を得る硬化工程と、硬化後積層体中のキャリア基板の外周縁に沿って、樹脂層および剥離性ガラス基板を切断する切断工程と、剥離性ガラス基板上に電子デバイス用部材を形成し、電子デバイス用部材付き積層体を得る部材形成工程と、電子デバイス用部材付き積層体から電子デバイスを分離して得る分離工程と、を備える電子デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の態様は、フェイルセーフ動作、偏光不感受性、低い所要電力消費、および少数の電気的接続を与えるための、電気活性素子において使用され得るコレステリック液晶材料に関する。
【解決手段】コレステリック液晶材料は、該電気活性素子の活性化状態において９０％超の回折効率または集束効率、および該電気活性素子の不活性化状態において１０％未満の回折効率または集束効率を与えるための電気活性素子において使用され得る。 （もっと読む）

【課題】貼り合せる板状部材の大きさや材質にかかわらず精度良く貼り合せることができる貼り合せ装置を提供する。
【解決手段】第２板状部材１０２を保持する補助プレート１１０と、補助プレート１１０の第１端部１１０ａの下面を支持することにより第１端部１１０ａの下方向へ移動を規制する第１ピロー４と、補助プレート１１０の第２端部１１０ｂの下面を支持することにより第２端部１１０ｂが下方向へ移動するのを規制する第２ピロー６とを備え、第１ピロー４および第２ピロー６は独立して上下に昇降可能となっており、第２端部１１０ｂを第１端部１１０ａよりも高い位置に維持した状態で、補助プレート１１０を介して押圧手段８により第２板状部材１０２を押圧することにより、第２板状部材１０２の未だ押圧されていない部分と第１板状部材１０１とが接触しないよう構成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに第１の処理液Ｄを供給する第１の処理液供給手段９と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、所定のガス流を吹き付ける気体供給手段２１と、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液Ｓを吐出する第２のリンス手段２３と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段２２と、前記基板搬送路上において、前記第１のリンス手段により供給された第２の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶化合物の析出が抑制され、ヘイズが改善され、反射幅が広いフィルムを形成することができるコレステリック液晶性混合物及びこれを用いたフィルムの提供。
【解決手段】下記式（Ｉａ）で表される化合物、下記式（Ｉｂ）で表される化合物、フッ素系水平配向剤および重合開始剤を含有するコレステリック液晶性混合物。
一般式（Ｉａ）
Ｚ¹−Ｙ¹−Ａ¹−Ｙ³−Ｍ¹−Ｙ⁴−Ａ²−Ｙ²−Ｚ²
一般式（Ｉｂ）
Ｚ³−Ｙ⁵−Ａ³−Ｙ⁷−Ｍ²−Ｐ
（Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³は重合性基を表し、Ａ¹〜Ａ³は原子連結鎖長１〜３０のスペーサー（但し、該スペーサーはアルキレン基、または、複数のアルキレン基が−Ｏ−、−ＣＯ−を介して結合した連結基を表す）を表し、Ｍ¹、Ｍ²は（−Ｔ¹−Ｙ⁸）_n−Ｔ²−を表し、ｎは自然数を表し、ｎが２以上の場合は複数の（−Ｔ¹−Ｙ⁸）は互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｔ¹、Ｔ²は飽和もしくは不飽和の炭化水素環、または、飽和もしくは不飽和の複素環（但し、該炭化水素環および該複素環は、置換基を有していてもよい）を表し、Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³、Ｙ⁴、Ｙ⁵、Ｙ⁷およびＹ⁸はそれぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｐは水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】液滴が衝突する基板内の衝突位置での膜厚のばらつきを低減することにより、処理の均一性を向上させること。
【解決手段】洗浄ノズル５は、複数の噴射口３１が形成された噴射部６と、吐出口３６が形成された吐出部７とを含む。複数の噴射口３１は、複数の液滴がそれぞれ基板Ｗ内の複数の衝突位置Ｐ１に衝突するように形成されている。吐出口３６は、各衝突位置Ｐ１からの距離Ｄが等しい基板Ｗ内の着液位置Ｐ２に保護液が着液するように形成されている。洗浄ノズル５は、吐出口３６から吐出された保護液の液膜によって覆われている基板Ｗに複数の噴射口３１から噴射された複数の液滴を衝突させる。 （もっと読む）