【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、並びに（Ｂ）特定の一般式で表される酸分解性繰り返し単位（ｂ１）と、シアノ基及びラクトン基を有する繰り返し単位（ｂ２）とを有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの膜減りが低減された新規なレジストパターン形成方法、および当該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】支持体１上に、第一のレジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成する工程と、前記第一のレジスト膜２を、第一のマスクパターンを介して選択的に露光し、現像して第一のレジストパターン３を形成する工程と、前記第一のレジストパターン３が形成された前記支持体１上に、水酸基を有さないエーテル系有機溶剤（Ｓ”）を含有するネガ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成する工程と、前記第二のレジスト膜６を、第二のマスクパターンを介して選択的に露光し、現像してレジストパターン３、７を形成する工程とを含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し、かつ一般式（ｃ１−１）［式（ｃ１−１）中、Ｒは水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子またはハロゲン化低級アルキル基であり；Ｒ^ｆはフッ素化アルキル基であり；Ｙ^０はアルキレン基である。］で表される構成単位（ｃ１）を有さない基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、前記構成単位（ｃ１）を有する含フッ素樹脂成分（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
［化１］
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【課題】良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有し、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（ａ’−１）［式（ａ’−１）中、Ｒ^２３は、下記一般式（Ｉ−１）で表される構造（Ｉ）を有する脂肪族環式基である。］で表される構成単位（ａ’）を含む共重合体（Ａ１）を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度性を有し、現像後のレジストパターンの基板（たとえばマスクブランクス）上面内サイズ均一性が良好であり、さらに高いエッチング耐性を有する高分子化合物、レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）および（２）で示される繰り返し単位を有し、質量平均分子量が１，０００〜５００，０００であることを特徴とする高分子化合物。
【化２８】
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【課題】熱リソグラフィーにおいて、熱変換体として利用でき、かつ有機材料で構成される熱リソグラフィー用下層膜形成用材料、該熱リソグラフィー用下層膜形成用材料を用いたレジスト積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体とレジスト膜との間に熱リソグラフィー用下層膜を形成するための熱リソグラフィー用下層膜形成用材料であって、膜形成能を有する有機化合物（Ａ１）と、熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長の光を吸収する染料（Ｂ）とを含有し、当該熱リソグラフィー用下層膜形成用材料を用いて形成される熱リソグラフィー用下層膜が、前記露光光源の波長において、膜厚１００ｎｍあたり０．２６以上の吸光度を有する有機膜であることを特徴とする熱リソグラフィー用下層膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像力、高耐熱性、良好なプロファイル、良好なフォーカス許容性、少ない現像残渣等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターン状有機膜を形成できるポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】感光性化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有し、添加剤をさらに含有していてもよく、感光性化合物及び添加剤の少なくとも一方にはアダマンタン環を有する化合物が含まれるポジ型感光性組成物であって、アダマンタン環を有するキノンジアジドスルホン酸エステル化合物は感光性化合物として含有され、その前駆体であるフェノール化合物は添加剤として含有されるポジ型感光性組成物を提供し、またこのポジ型感光性組成物によって形成された有機膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用として利用可能な化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（Ａ−１）で表される化合物。
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【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性であるとともに、良好なパターン形状、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するし、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の繰り返し単位を含有する樹脂、及び、特定のアニオンを有するスルフォニウムまたはヨードニウム化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レーザー光による描画に適し、スクリーン線数２００線以上の高精細ＡＭスクリーン印刷やＦＭスクリーン印刷、特にＦＭスクリーンを使用した中間調の平網ムラの均一性が良好な光重合型感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、光重合型の感光性層を少なくとも１層有し、さらに該感光性層上に保護層を有し、レーザで露光するネガ型の光重合型感光性平版印刷版原版において、該光重合型の感光性層がレーザ発光波長±50nmの光を吸収可能な染料または顔料を含有することを特徴とするネガ型の光重合型感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示される繰り返し単位からなる高分子化合物。


（Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異種の水素原子、又は炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基で、Ｒ¹とＲ²が結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ³⁰は水素原子又はメチル基である。）
【効果】本発明のレジスト保護膜材料を用いたパターン形成方法によれば、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液（アルカリ現像液）に溶解可能であり、しかもレジスト膜とミキシングしないものであるので、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】密着性低下、感度低下、アルカリ現像液への耐性劣化を引き起こすことなく、非露光部に残渣の発生なく、現像性が良好なカラーフィルターの製造に供されるネガ型着色感光性組成物を提供する。
【解決手段】バインダーポリマー、光重合性モノマーとして、（ポリ）エトキシ化された（ポリ）グリセリンの（メタ）アクリル酸エステル、色素、光重合開始剤、及び有機溶剤を含有するネガ型の着色感光性組成物を調製する。この着色感光性組成物を用いることにより、感度低下や現像性不良等によるスループットへの影響が小さく、残渣や密着性が良好で、それらにより高品質なカラーフイルターを得ることが出来る。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、レジストパターンのプロファイルの劣化とラインエッジラフネス性能劣化が少ない感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｃ）を含有することを特徴とする感光性組成物。一般式（Ｉ）中、Ｒは、複数ある場合は各々独立して水素原子又は１価の有機基を表す。Ａは、複数ある場合は各々独立して酸によって切断される結合を有する２価の連結基を表す。Ｘは、複数ある場合は各々独立して脂環炭化水素構造を有する１価の有機基を表す。ｎは、０〜２の整数を表す。
（Ｒ）_n−Ｎ−（Ａ−Ｘ）_3-n （Ｉ） （もっと読む）

【課題】感度安定性に優れ、高耐熱性、高耐薬品性が要求される半導体装置でも十分使用できる高い接着性と耐薬品性を両立したポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される構造を主成分とするポリマー、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）アルコキシメチル基含有化合物、（ｄ）アミノシラン化合物および（ｅ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。


（一般式（１）中、Ｒ^１およびＲ^２は炭素数２以上の２価〜８価の有機基、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または炭素数１〜２０の有機基を示す。） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、現像欠陥が低減され、焦点位置の変動による線幅の変動が小さい感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至５０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：重合性基を２個以上有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）成分：酸により反応する架橋剤、
（Ｅ）溶剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】 優れた皮膜形成性及び皮膜強度を有し、高感度でかつ現像性、耐刷性に優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供することである。
【解決手段】 親水性を有する支持体の表面に、フェノール性水酸基を有する高分子化合物、赤外線吸収剤、含窒素複素環の４級塩化合物、及びスチレンとエチレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを構成単位として有するビニル系共重合体、を含有する記録層を備える、赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ｇ線、ｈ線に対する感度が良好であり、且つ解像性、電気絶縁性、熱衝撃性等の諸特性に優れた表面保護膜、層間絶縁膜、平坦化膜を形成しうる感光性絶縁樹脂組成物、及びその硬化物並びにその硬化物を備える電子部品を提供する。
【解決手段】本感光性絶縁樹脂組成物は、（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）下式（１）で表されるｓ−トリアジン誘導体からなる感放射線性酸発生剤と、（Ｃ）架橋剤と、を含有する。


〔Ｒは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシル基、Ｘはハロゲン原子、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示す。〕 （もっと読む）

【課題】感度、露光ラチチュードおよびパターン倒れ性能に優れたポジ型感光性組成物、それに用いる化合物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、それに用いる化合物、およびそれを用いたパターン形成方法。一般式（Ｉ）中、Ｘは酸分解性基と脂環基を含む二価の連結基を表す。Ｒ₁、Ｒ₂、Ａ、Ｂ、Ｐ、Ｑは各々所定の置換基等を表す。ａ、ｂは所定の数を表す。
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