【課題】次世代の微細加工用のホトレジスト組成物に用いることのできる高い透明性を有する高分子化合物を提供する。
【解決手段】耐エッチング性を確保するために側鎖部分に脂環式基を持たせるとともに、この脂環式基の環上の水素原子を高度にフッ素化することによって、波長１５７ｎｍの光に対して吸収係数３．０μｍ^−１以下の透明性を確保する。脂環式基として、好ましくは多環式とし、フッ素による高度な置換は、望ましくは環上の水素原子のすべての置換、すなわちパーフルオロ脂環式基とする。この高分子化合物をベースポリマーとしてレジスト組成物を構成し、さらには該高分子化合物から溶解制御剤を構成する。 （もっと読む）

【課題】優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性及び現像性を奏する含フッ素樹脂、及び優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）と、酸性基（ｂ）とを有し、フッ素原子の含有量が５〜４０％である含フッ素樹脂。該含フッ素樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、酸架橋剤（Ｃ）とを含有する感光性樹脂組成物。該含フッ素樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、酸架橋剤（Ｃ）と、アルカリ可溶性樹脂（Ｄ）とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】Ｋｒエキシマレーザー光またはＡｒＦエキシマレーザー光に対して透明性が高く、高解像性を有するとともに、膨潤がなく、かつ断面形状が矩形のレジストパターンを与える化学増幅型のネガ型レジスト組成物を提供する
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位とアルコール性ヒドロキシル基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ³はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Wは二価の連結基を表す。Ｒ⁴、
Ｒ⁵およびＲ⁶は、相互に独立に、水素原子、フッ素原子もしくは一価の有機基であり、または相互に組み合わされて環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】高度に微粒化された顔料を少量の添加量で効率よく分散する事が可能、かつ所定の現像時間で現像可能で、色特性の非常に優れたカラーフィルタを形成しうる。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）バインダ樹脂、（Ｄ）多官能モノマー、（Ｅ）光重合開始系を含有するカラーフィルタ用着色樹脂組成物であって、（Ｂ）分散剤の固形分におけるアミン価が８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、かつ、（Ｂ）分散剤が、側鎖にアミノ基を有するＢ−ブロックと、アミノ基を有さないＡ−ブロックからなるブロック共重合体である、カラーフィルタ用着色樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【解決手段】フォトレジスト組成物に添加する高分子化合物の合成を行う際、重合反応により得られた重合反応生成物混合物を良溶剤と貧溶剤を用いる分液法によって分子量分画を行う分画工程で、分液法による分画操作を２回以上行うと共に、該２回以上の分画操作のいずれか１回以上に、他の回で行った分画操作時に添加する良溶剤とは異なる良溶剤を添加することを特徴とするフォトレジスト組成物用高分子化合物の合成方法。
【効果】本発明によれば、重合反応で得られた高分子化合物の分散度を下げるための分子量分画操作において、過大な高分子化合物のロスを伴うことなく目的を達成することができると共に、それにより得た高分子化合物は、レジスト組成物材料として用いた場合、パターン形成時に、良好な形状のレジストパターンを与える。 （もっと読む）

【課題】ＦＰＣの保護膜の形成等に用いられるポジ型感光性樹脂組成物であって、現像性や耐メッキ性に優れ、さらに、ＦＰＣの製造における補強板のプレス（接着）時のシワの発生や、ハンダリフロー時や手ハンダによる修正時の損傷が抑制された保護膜を形成することができるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】溶媒可溶耐熱性樹脂、ポジ型感光剤、熱硬化剤及び溶媒を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、前記熱硬化剤が、メラミン系硬化剤であり、前記溶媒可溶耐熱性樹脂が、水酸基を有するジアミンをその構成単位に含有するポリイミド又はポリアミドイミドであることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、この組成物を用いて製造される樹脂フィルム、この組成物を用いるＦＰＣの製造方法、及びこの製造方法により得られるＦＰＣ。
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【課題】優れた耐熱性を備えたマイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明にかかるマイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物は、熱架橋基を有する繰返し単位を有する共重合体と、感光剤とを含み、共重合体の質量平均分子量が１０，０００〜３０，０００であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高感度のポジ型感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液可溶性重合体１００質量部に対して、（Ｂ）光酸発生剤１〜５０質量部、（Ｃ）スルホン酸無水物０．０１〜３０質量部、及び（Ｄ）架橋剤０．１〜７０質量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、顔料濃度が高くても良好な現像性を示す感光性赤色樹脂組成物等を提供するものである。
【解決手段】赤色色素、樹脂、光重合性化合物、及び光重合開始剤を含有し、前記赤色色素の含有量が、全固形分に対して４５〜６１重量％であり、前記樹脂が、主樹脂と、該主樹脂より低分子量の補助樹脂とを含有し、前記光重合性化合物が、光重合性不飽和結合を分子内に１〜４個含有し、分子量が４００以下である感光性赤色樹脂組成物等である。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｂ１−１２）で表される化合物。
Ｒ^２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｙ^１−ＳＯ_３⁻ Ａ^＋ ・・・ （ｂ１−１２）
［式中、Ｒ^２は１価の芳香族有機基であり；Ｙ^１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基であり；Ａ^＋はカチオンである。］ （もっと読む）

【課題】 透明基板や半導体素子が搭載される基板のスペーサーとして用いられる現像性に優れた感光性接着剤樹脂組成物、それを用いた接着フィルムおよび受光装置を提供すること。
【解決手段】水酸基又はカルボキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物（Ａ）と、前記水酸基又はカルボキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物（Ａ）と熱硬化反応する化合物（Ｂ）と、（メタ）アクリロイル基を有し、水酸基およびカルボキシル基を有さない化合物（Ｃ）と、フェノール樹脂又はフェノール類（Ｄ）と、
感光剤（Ｅ）と、を含むことを特徴とする感光性接着剤樹脂組成物を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターンの膜減りを抑えられる、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、レジスト膜の、水に対する接触角が７５°以上であることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】第一のレジスト組成物としてポジ型レジスト組成物を用い、第二のレジスト組成物としてネガ型レジスト組成物を用いるダブルパターニングプロセスにおいて、ネガ型レジスト組成物を塗布した際の影響の少ないレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に第一のレジスト膜を形成し、露光、現像して第一のレジストパターンを形成し、該レジストパターン上にネガ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成し、露光、現像するレジストパターン形成方法において第一のレジスト膜を形成するために用いられ、酸解離性溶解抑制基を含む（α−置換）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環式基を含む（α−置換）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）とを有する樹脂成分（Ａ）および酸発生剤成分（Ｂ）を含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】アルカリ水溶液で現像可能なポジ型感光性樹脂組成物において、感度及び解像度の更なる改善を図ること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光により酸を生成する化合物、（Ｃ）エラストマー、（Ｄ）フェノール性水酸基を有する低分子化合物、及び（Ｅ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性にも優れ、例えば、珪素含有２層レジストプロセス、あるいは珪素含有中間層膜による３層レジストプロセスといった多層レジストプロセス用レジスト下層膜として有望なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有することを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化３７】
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【課題】ＢＧＲの画素とブラックマトリックスとの間に隙間や段差のないカラーフィルターを形成するための材料及び方法を提供する。
【解決手段】（１）支持体上に少なくとも光熱変換層、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）またはブルー（Ｂ）の画像形成層を有する３種のレーザー熱転写シートと、支持体上に少なくともブラック（Ｋ）の感光性樹脂層を有する湿式現像転写シートとからなることを特徴とするカラーフィルター形成材料。（２）上記（１）に記載の熱転写シートを受像シートと重ねあわせ熱転写シート側からレーザー光を像様に照射して受像シート上にＲ、Ｇ及びＢからなる画像を形成し、上記（１）記載の湿式現像転写シートを該画像上に重ね合わせて該感光性樹脂層を転写した後、受像シートの裏面から放射線照射し、次いで湿式現像し、その後、加熱処理することを特徴とするカラーフィルターの形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度にすぐれるポジ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド１００質量部に対して、（Ｂ）光酸発生剤１〜５０質量部、（Ｃ）芳香族カルボン酸化合物０．０１〜７０質量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
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【解決手段】無機粉体、結着樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、および疎水性シリカからなるチクソトロピー剤を含有することを特徴とする無機粉体含有樹脂組成物、この組成物を用いたパターン形成方法、およびこのパターン形成方法を用いたＦＰＤ構成要素の製造方法。
【効果】本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、チクソトロピー性を有するので、作業性が良く、無機粒子等の成分の沈降が発生せず、保存安定性が良好である。本発明の無機粉体含有樹脂組成物を用いてパターンを形成すると、現像性が良好である。またパターンの欠けは認められず、パターン形状の優れたＦＰＤの構成要素を製造することができる。本発明の製造方法によれば、高精細パターンの形成が可能でかつ表面の均一性に優れたＦＰＤの構成要素を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】ｉ線（３６５ｎｍ）において高い透過率を有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体を用いて、半導体素子の保護膜及びディスプレー用プラスチック基板として有用なポリベンゾオキサゾールイミド膜を提供する。
【解決手段】下記一般式（４）：


（式（４）中、Ａは４価の芳香族基を表し、Ｂは２価の芳香族基又は脂肪族基を表す。）で表される反復単位を含有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体中に、ジアゾナフトキノン系感光剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物の膜をパターン露光及びアルカリ現像した後、加熱することにより得られることを特徴とするポリベンゾオキサゾールイミド膜である。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像力、高耐熱性、良好なプロファイル、良好なフォーカス許容性、少ない現像残渣等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターン状有機膜を形成できるポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】感光性化合物（Ｂ）と、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とを含有し、感光性化合物（Ｂ）が分子中にキノンジアジド及び光の照射によって蛍光又は燐光を発する基を有するものであるポジ型感光性組成物を提供し、またこのポジ型感光性組成物によって形成された有機膜を提供する。 （もっと読む）