【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上あるいは低下するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤として一般式（１）の（ａ）、（ｂ）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物とを含むレジスト材料。


【効果】レジスト材料を用いて形成したレジスト膜は、水に対する良好なバリアー性能を有するため、レジスト膜の水への溶出を抑制でき、このため溶出物によるパターン形状変化を低減できる。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）及び／又は（２）の繰り返し単位を有し、露光波長における消光係数（ｋ値）が０．０１〜０．４の範囲の高分子化合物（Ａ）と、芳香環を有し、露光波長における消光係数（ｋ値）が０．３〜１．２の範囲の高分子化合物（Ｂ）とを含む反射防止膜形成材料。


【効果】反射防止膜形成材料は従来の有機反射防止膜と同じプロセスで製膜が可能であり、また、その反射防止膜はリソグラフィーにおいて効果的に露光光の反射を防止するものである。 （もっと読む）

【課題】高速で転写を行っても転写不良が起こりにくく、高湿雰囲気下で保存してもレチキュレーション、熱可塑性樹脂層の染み出しが発生しにくい感光性転写材料を提供する。
【解決手段】仮支持体上に、該仮支持体側から順に、平均粒径３〜１０００ｎｍの微粒子を、下記式（１）を満たす範囲で含有するアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、感光性樹脂層と、を有する感光性転写材料である。
ｙ≦０．６２５ｘ 式（１）
〔式（１）中、ｙは、熱可塑性樹脂層の乾燥質量１００部に対する微粒子の含有量（質量部）、ｘは、微粒子の平均粒径（ｎｍ）を表す。〕 （もっと読む）

【課題】 レジスト用樹脂等に応用した場合に有機溶媒への溶解性が良好で、基板への密着性が良く、更に高い耐エッチング性を発揮できる樹脂、及びレジスト組成物、ならびに半導体の製造方法を提供する。
【解決手段】 下記式（１）


で表されるモノマー単位を有するフォトレジスト用高分子化合物。 更に、前記高分子化合物が、重合温度に制御された溶媒中へモノマー溶液及び重合開始剤溶液を添加しながら重合することを特徴とする前記記載のフォトレジスト用高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】臭素イオンの溶出量が少なく、液晶表示装置に用いた場合に液晶汚染が少なく、表示ムラが発生しにくいカラーフィルタ用感光性樹脂組成物、これを用いたカラーフィルタ、及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）光重合性モノマー、（Ｂ）樹脂バインダー、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）着色剤及び（Ｅ）溶剤を含有するカラーフィルタ用感光性着色組成物であって、前記（Ｂ）樹脂バインダーは、メラミン樹脂と、イソシアネート基を含有する化合物及び／又は酸無水物とを反応させてなる熱硬化性樹脂を含み、前記（Ｄ）着色剤は、少なくとも塩素化及び臭素化した金属フタロシアニン又は臭素化した金属フタロシアニンを含有し、該感光性着色組成物の硬化物をＮ−メチルピロリドンで溶出したときの臭素イオンが１０ｎｇ／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、形成するホトレジスト膜の特性に関係なく利用できる保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】ホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、（ａ）アルカリ可溶性ポリマー、及び（ｂ）フッ素系溶剤を含有することを特徴とする保護膜形成用材料。本発明の保護膜形成用材料を用いてホトレジスト膜上に保護膜を形成した場合、保護膜形成用材料中に含まれる成分が各種ホトレジスト膜を溶解することがない。このため、ホトレジスト膜の種類に関係なく、液浸露光プロセスを用いて微細で良好なホトレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】顔料分散性に優れ、コントラストが高いカラーフィルターを形成可能な顔料分散液、硬化性樹脂組成物を提供することを主目的とする。
【解決手段】 緑色顔料と、特定の試験膜の光の透過率が、５６０ｎｍ〜６４０ｎｍの波長域で９０％以上且つ４００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域で１２％以下である黄色又はオレンジ色顔料と、顔料分散剤と、溶剤とを含むカラーフィルター用緑色顔料分散液であって、分散している顔料粒子の平均分散粒径が１５〜８０ｎｍであることを特徴とする、カラーフィルター用緑色顔料分散液である。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性及び耐傷性の両方に優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、一般式（Ｉ）で示される基を側鎖に有する高分子化合物、及び赤外線吸収剤を含有する下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、をこの順に有することを特徴とする赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。


Ｙは、酸素原子 または −ＮＨ− を表し、Ｘは、酸素原子 または 硫黄原子 を表し、Ｒは、Ｈ または炭素数１〜３のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】高感度、高耐刷かつ汚れ性に優れた平版印刷版原版をｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像する画像形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、下記（Ａ）〜（Ｄ）を含有する画像記録層を設けてなるネガ型画像形成材料を、露光した後、亜硫酸塩及び／又は重亜硫酸塩を含有する水溶液を用いて未露光部の画像記録層を除去することを特徴とする画像形成方法。（Ａ）前記亜硫酸塩及び／又は重亜硫酸塩を含有する水溶液との反応によりスルホン酸塩に変換される基を少なくとも１つ有するバインダーポリマー、（Ｂ）増感色素、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）エチレン性不飽和結合を有する化合物。 （もっと読む）

【課題】画像再現性、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版原版の提供。
【解決手段】支持体上に、樹脂及び赤外線吸収剤を含み、赤外レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を少なくとも２層以上有し、該２層以上のポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層は、一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するポリマーを含む２種以上の樹脂を含有する層であり、且つ、該２種以上の樹脂のうち少なくとも１種は層中で分散相を形成していることを特徴とする平版印刷版原版。一般式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、各々独立に、水素原子、又は置換若しくは非置換のアルキル基を表す。Ｒ^４及びＲ^５は、各々独立に、置換若しくは非置換のアルキル基、等を表し、Ｒ^４及びＲ^５は互いに結合して環構造を形成してもよい。
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【課題】着色や膜強度の経時変化が少ない膜物性に優れる組成物、及び、良好な形状と特性のパターンを有する信頼性の高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ａ）特定の繰り返し単位を含むポリイミド樹脂、（ｂ）光照射によりスルホン酸を発生する化合物、及び（ｃ）アルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基を窒素原子上に有する架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】（１，３，５−トリス（パラ−（パラヒドロキシフェニル）フェニル）ベンゼン）を母核に有し、酸分解性置換基を有する化合物と、化学放射線の作用により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、かつ、リソグラフィー特性も良好なネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、架橋剤成分（Ｃ）と、フッ素原子を含有する側鎖を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ｆ１）を含む含フッ素樹脂成分（Ｆ）とを含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、白灯安全性に優れ、合紙と平版印刷版原版との滑りによるズレを改良した平版印刷版原版を提供する
【解決手段】 最表面の酸素遮断性オーバーコート層に無機層状化合物と、無機球状フィラー及び無機−有機複合球状フィラーの少なくともいずれかを含むことを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、かつ、リソグラフィー特性も良好なネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、架橋剤成分（Ｃ）と、アルカリ難溶性の含フッ素樹脂成分（Ｆ）とを含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物；当該ネガ型レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】転写材料から永久支持体に転写層を転写する際に発生しうる工程トラブルを回避することが可能な転写用積層材料を提供する。
【解決手段】仮支持体の上に少なくとも１つの転写層を有し、仮支持体を剥離する際の剥離力の最大値が１８０°ピール法において０．９８〜５．３９ｍＮ／ｃｍである転写用積層材料である。また、仮支持体上に少なくとも１つの転写層を有し、仮支持体に隣接して設けられた転写層中の樹脂に対する可塑剤の割合が１１〜４５質量％であって、かつ仮支持体に隣接して設けられた転写層の膜厚が１μｍ以上１３μｍ以下である転写用積層材料である。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性及び耐傷性の両方に優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、フェノール性水酸基を有し且つ下記一般式（１）又は下記一般式（２）で示される基を側鎖に有する高分子化合物、及び赤外線吸収剤を含有する下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、をこの順に有することを特徴とする赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。一般式（１）又は一般式（２）中、Ｒは、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、又は炭素数２〜１２のアルケニル基を表す。
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【課題】難分散化してきている微細顔料を着色剤として用いた場合でも、高コントラストで流動性に優れる安定なカラーフィルタ用着色組成物を作製すること、および高コントラストなカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】透明樹脂および着色材を含有する着色組成物において、前記透明樹脂が、２０００〜２５０００の範囲内の重量平均分子量（Ｍｗ）を有し、かつ１．７〜２．２の範囲内の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を有する低分子量透明樹脂と、４６０００〜８００００の範囲内の重量平均分子量（Ｍｗ）を有し、かつ１．７〜２．２の範囲内の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を有する高分子量透明樹脂とを含むカラーフィルタ用着色組成物、および該着色組成物から形成されるフィルタセグメントを具備するカラーフィルタ。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）カルボニル基若しくはスルホニル基とカルボン酸エステル構造とを有する、酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物。 （もっと読む）

【課題】高速で転写を行っても転写不良が起こりにくく、高湿雰囲気下で保存してもレチキュレーション、熱可塑性樹脂層の染み出しが発生しにくい感光性転写材料を提供する。
【解決手段】仮支持体上に、該仮支持体側から順に、Ｉ／Ｏ値が０．３０〜０．４５である化合物を含有するアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、感光性樹脂層とを有する感光性転写材料である。前記化合物のＩ／Ｏ値は、０．３２〜０．４３であることが好ましく、前記熱可塑性樹脂層が、前記化合物を、前記熱可塑性樹脂層の全質量に対して０．５〜２０質量％含有することが好ましい。 （もっと読む）