【課題】高感度で、かつパターン倒れと良好な露光ラチチュードの両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂として、所定の一般式（ｐＩ）〜（ｐＶ）から選ばれる構造を有する繰り返し単位（ａ１）を有する樹脂（Ａ１）と、繰り返し単位（ａ１）とは異なる繰り返し単位（ａ２）を有する樹脂（Ａ２）とを有し、さらに、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。
（もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ法に用いる液浸露光用の液体によるレジスト膜への影響を防止するバリア膜の現像時の溶解性を向上して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成されたレジスト膜１０２の上に、アルカリ溶液により分子構造が変化してアルカリ不溶からアルカリ可溶となる化合物を含むバリア膜１０３を形成する。その後、バリア膜１０３の上に液浸用の液体１０５を配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光１０７を選択的に照射してパターン露光を行う。パターン露光の後、バリア膜１０３を除去し、パターン露光が行われたレジスト膜１０２に対して現像を行って、該レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを得る。 （もっと読む）

【課題】青紫色レーザー露光による低露光条件下においても、高感度、高解像力、高細線密着性、パターン形成性に優れた効果を示すレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）及び、ペリレン、ナフト〔２，３−ａ〕ピレン、ベンゾピレン、ジベンゾ〔ｂ，ｄｅｆ〕クリセン、９，１０−ジフェニルアントラセンから選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｄ）を含有してなる感光性樹脂組成物に、露光波長が３９０〜４２０ｎｍのレーザー露光機で露光を行うレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】官能基濃度が高く、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法、ならびに該含フッ素ポリマーを用いたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される含フッ素ジエンが環化重合してなるモノマー単位に由来する単位と、特定の構造を有するアクリル系単量体が重合してなるモノマー単位に由来する単位と、を有する含フッ素共重合体。ＣＦ₂＝ＣＦＣＨ₂ＣＨ（Ｃ（ＣＦ₃）₂（ＯＲ³））（ＣＨ₂）_nＣＲ¹＝ＣＨＲ²・・（１） （もっと読む）

【課題】高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光重合開始剤を含有する着色層形成用感放射線性組成物であって、上記（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、ヒドロキシフェニルメタクリレート不飽和化合物とその他の共重合可能な不飽和化合物との共重合体からなるカラーフィルタ用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用され、サーマルフロー用として好適なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分（Ａ）はヒドロキシナフタレン（メタ）アクリレート構成単位（ａ０）を有し、さらに架橋性ポリビニルエーテル化合物（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、１，０００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】〔Ａ〕重合体、〔Ｂ〕重合性不飽和化合物、および〔Ｃ〕感放射線性重合開始剤を含有し、〔Ａ〕重合体が、（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、（ａ２）１分子中に１つ以上の水酸基を含有する不飽和化合物と、（ａ３）他の不飽和化合物との共重合体に、特定構造のイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光、現像によりパターニングを行う際に、塗膜表面上の斑点変色の発生が少ない感光性ポリイミド組成物、及びその製造方法と提供する。
【解決手段】可溶性ポリイミド樹脂、ポジ型感光剤及びこれらを溶解する溶媒を含有する感光性ポリイミド組成物であって、前記可溶性ポリイミド樹脂が、芳香族テトラカルボン酸二無水物とジアミンの縮合物であり、該感光性ポリイミド組成物中に含まれるピリジンの含有量が、０．０５重量％以下であることを特徴とする感光性ポリイミド組成物、並びに、芳香族テトラカルボン酸二無水物とジアミンをピリジンの存在下で縮合して可溶性ポリイミド樹脂を合成する縮合工程、該縮合工程後、反応系からピリジンを、その含有量が０．０５重量％以下となるまで除去するピリジン除去工程、及び前記可溶性ポリイミド樹脂と、ポジ型感光剤及び溶媒を混合する工程を有することを特徴とする感光性ポリイミド組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲ、パターン倒れ、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含有し、リビングラジカル重合で製造されたことを特徴とする、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。式中、Ｘ_ａ１は水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基を表す。Ｒは単環の脂環基を含有する酸分解性基を表す。

（もっと読む）

【課題】脱ガス量が少ない硬化樹脂パターンを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸から導かれる構成単位（ａ１）、オキセタニル基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位（ａ２）、および式（１）で表される化合物から導かれる構成単位（ａ３）を有する重合体（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）、フェノール性水酸基含有高分子化合物（Ｃ）および溶剤（Ｄ）を含有する感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目のレジストパターンとミキシングすることなく、第二層目のレジストパターンを形成可能な樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、（１）第一レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、基板上に第一パターンを形成する工程と、（２）第一パターンを光に対して不活性化させる工程と、（３）第二レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、第一パターンが形成された基板上に第二レジスト層を形成し、所用領域を露光する工程と、（４）現像することによって、第一パターンのスペース部分に、第二パターンを形成する工程と、を備えており、第二レジスト層形成用樹脂組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂と溶剤とを含んでおり、且つこの溶剤は、第一レジストパターンを溶解しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性に優れ、かつ有機溶剤による洗浄性にも優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素形成できる着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光重合開始剤を含有する着色層形成用感放射線性組成物において、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、下記式（Ｉ）で表される骨格を有する重合性不飽和化合物および置換マレイミドを構成成分とする共重合体を含むことを特徴とする。
（もっと読む）

【課題】ソルダーレジスト、パッケージ基板用レジストとして必要なはんだ耐熱性、密着性、電気絶縁性、ＨＡＳＴ耐性に優れ、かつ硬化収縮が少なく反りの無い基板を提供できる光硬化性・熱硬化性樹脂組成物、及びその硬化物やドライフィルム等の提供。
【解決手段】（Ａ）多核エポキシ化合物（ａ）と不飽和基含有モノカルボン酸（ｂ）との反応生成物に多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、（Ｂ）カルボキシル基含有ウレタン（メタ）アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）一分子中に２個以上の環状エーテル基及び／又は環状チオエーテル基を有する熱硬化性成分、（Ｅ）希釈剤、及び（Ｆ）硬化触媒を含有することを特徴とする感光性・熱硬化性樹脂組成物（Ａ）を硬化物やドライフィルム等の作製に用いる。 （もっと読む）

【課題】
水現像可能な合成ゴム系感光性樹脂層に対して感光性樹脂層と基材の両方と優れた接着力を示し、またコート液作成作業工程が簡便で製造時のコート膜の外観品位に優れた接着層を提供することである。
【解決手段】
（１）寸法安定性に優れる基材上に光重合性接着層を介して合成ゴム系感光性樹脂層を設けてなる感光性樹脂版材であって、該光重合性接着層がウレタン結合によって共重合ポリエステル、合成ゴム及び光重合性基含有化合物を架橋せしめた光重合性接着層であることを特徴とする感光性樹脂版材。
（２）光重合性ウレタン系接着層に含有する共重合ポリエステル、合成ゴム及び光重合性基含有化合物がいずれも分子中に少なくとも一つ以上の水酸基を含有し、多価有機イソシアネートによって架橋せしめた接着層であって、ウレタン反応を１５０℃〜１７０℃で反応させることを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂版材。
（３）合成ゴム系感光性樹脂層が水現像可能であることを特徴とする請求項1又は２記載の感光性樹脂版材。 （もっと読む）

【課題】高精度の微細加工が要求される感放射線性樹脂組成物層のパターン形成に有用な、表面平滑性、解像度に優れる感放射線性樹脂組成物層を与えるドライフィルムの提供。
【解決手段】ドライフィルム１は、三次元十点平均粗さＳＲｚが２．２μｍ以下、三次元最大高さＳＲｍａｘが４．０μｍである表面を有しそして厚さが１０〜５０μｍであるベースフィルム２、上記ベースフィルム２の表面上に積層された厚さ２〜２００μｍの感放射線性樹脂組成物層３、および上記感放射線性樹脂組成物層３をカバーするカバーフィルム４からなる。 （もっと読む）

【課題】水現像可能な合成ゴム系感光性樹脂層に対して感光性樹脂層と基材の両方と優れた接着力を示し、またコート液作成作業工程が簡便で製造時のコート膜の外観品位に優れた接着層を提供することである。
【解決手段】
（１）寸法安定性に優れる基材上に接着層を介して合成ゴム系感光性樹脂層を設けてなる感光性樹脂版材であって、該接着層が次の成分を含有することを特徴とする水現像可能な感光性樹脂版材。
（Ａ）有機溶剤に可溶な共重合ポリエステル樹脂
（Ｂ）多官能イソシアネート
(Ｃ）分子末端に０．５〜２．０モル／kgの水酸基を含有する液状合成ゴム
（２）（Ｃ）の液状合成ゴムが、ブタジエンゴムまたはイソプレンゴムであることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂版材。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、他の単量体との共重合性に優れた重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）及び特定の親水性基を有する構成単位（Ｄ）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ限界以上のピッチを有する微細パターンを形成することができる方法を提供する。
【解決手段】半導体素子の微細パターン形成方法に関し、被食刻層が形成された半導体基板上に第１フォトレジスト組成物を塗布して第１フォトレジスト膜を形成する段階と、前記第１フォトレジスト膜に露光及び現像工程を行って第１フォトレジストパターンを形成する段階と、前記結果物上に前記第１フォトレジストパターンと非反応性の第２フォトレジスト膜を形成する段階と、前記第２フォトレジスト膜に露光及び現像工程を行って前記第１フォトレジストパターンの間に第２フォトレジストパターンを形成する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、焦点深度余裕が広く、光線透過率が高く、現像時のディフェクトｇ少なく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ネガ型レジスト組成物用としての利用が可能な新規化合物、該化合物を合成する際の新規中間体化合物、ネガ型レジスト組成物および該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ａ−１）で表される化合物［式中、Ｚはラクトン環を有する基、ラクトン環が加水分解されて開環したヒドロキシカルボン酸を有する基、または水素原子であり；Ｒ^１１〜Ｒ^１７はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基または芳香族炭化水素基であって、その構造中にヘテロ原子を含んでもよく；ｇ、ｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｋ、ｑは０または１以上の整数であり；ｈは１以上の整数であり、ｌ、ｍはそれぞれ独立に０または１以上の整数であり；ｉは１以上の整数であり、ｎ、ｏはそれぞれ独立に０または１以上の整数であり；Ｘは脂肪族環式基または芳香族環式基である。］。
［化１］
（もっと読む）