【課題】高感度で、現像性、保存安定性が良好であり、さらに耐熱性の高い硬化膜を形成できる感光性組成物、及び該硬化膜を含む表示素子を提供する。
【解決手段】Ｎ−置換マレイミドとカルボキシ含有ラジカル重合性モノマーとを含有するモノマーの混合物を重合して得られる共重合体（Ａ）、Ｎ−置換マレイミドと熱架橋性官能基含有ラジカル重合性モノマーを含有するモノマーの混合物を重合して得られる共重合体（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、二つ以上のラジカル重合性二重結合を有するラジカル重合性化合物（Ｄ）を含有する感光性組成物、この組成物を用いて製造された硬化膜、カラーフィルター用保護膜及び表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】フェノール性水酸基およびメチロール基を有し、樹脂原料（例えば、フェノール樹脂原料）などとして有用なフルオレン化合物を提供する。
【解決手段】塩基触媒の存在下、フェノール性水酸基を有するフルオレン類［９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−Ｃ_１−４アルキルフェニル）フルオレンなど］と、アルデヒド類（ホルムアルデヒドなど）とを反応させる。このような反応により、９，９−ビス（モノメチロール−ヒドロキシフェニル）フルオレン類（９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチロール−５−アルキルフェニル）フルオレンなど）などの９，９−ビス（ヒドロキシアリール）フルオレンのアリール基に少なくとも１つのメチロール基が置換した新規な化合物が得られる。このような化合物は、反応性が高く、しかも、フルオレン骨格を有しているため、樹脂原料などとして使用すると、効率よく優れた特性を有するフルオレン骨格を導入できる。 （もっと読む）

【課題】ＢＧＲの画素とブラックマトリックスとの間に隙間や段差のない、かつエッジ形状の良好なカラーフィルターを形成するための材料及び方法並びにカラーフィルターを提供する。
【解決手段】受像シート上にブラック（Ｋ）の感光性樹脂層を有する湿式現像転写シートを重ね合わせて該感光性樹脂層を転写した後、受像シートの表面上及び／又は裏面上からマスクを介して放射線照射し、次いで湿式現像してブラックマトリックスを形成し、その後、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）またはブルー（Ｂ）の画像形成層を有する３種のレーザー熱転写シートを受像シートと重ねあわせ熱転写シート側からレーザー光を像様に照射して受像シート上のブラックマトリックスの間またはブラックマトリックスの間及びブラックマトリックスの周端部にＲ、Ｇ及びＢからなる画像を形成するカラーフィルターの形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成に於いても、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の、アルコキシカルボニル基で置換された３級エステル基を有する繰り返し単位（Ｂ１）を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高感度で、熱処理後のパターン形状に優れる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂、（ｂ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂以外の樹脂、（ｃ）光酸発生剤および（ｄ）前記（ｃ）以外の光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】反射防止膜材料であって、エッチング速度が速く、このためレジスト下層膜として用いると、エッチング中のレジストパターンの膜減りが少なく、パターンの変形も小さく抑えることが出来る。また、架橋密度が高いために熱架橋後に緻密な膜を形成でき、そのために上層レジスト膜とのミキシングを防止でき、現像後のレジストパターンが良好である反射防止膜材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とする反射防止膜材料。
【化５３】
（もっと読む）

【解決手段】一般式(１)で表される共重合による繰り返し単位を含み、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むネガ型レジスト材料。


(Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、又はアルキル基又はフッ素化アルキル基、Ｘはメチレン基、酸素原子又は硫黄原子。ｍは１〜３の整数、ｎは１又は２、ｍ＋ｎ＝４。Ｒ²は水素原子又はメチル基、Ｒ³は水素原子、フッ素原子、又はアルキル基又はフッ素化アルキル基、ｐ、ｑは１〜３の整数、ｐ＋ｔ＝５、ｑ＋ｕ＝７、０＜(ａ−１)＜１．０、０≦(ｂ−１)＜１．０、０≦(ｂ−２)＜１．０、０＜(ｂ−１)＋(ｂ−２)＜１．０。)
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度、高解像性で、パターン形状が良好で、酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示し、超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料として好適である。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、ラインエッジラフネス、現像欠陥が低減され、プロファイルが良好であるとともに、ホールパターンでの解像力、サイドローブマージンに優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びウレイド結合から選ばれた結合を少なくとも２つ以上有する含窒素化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】低温焼成可能で、かつ厚膜であっても放射線に対する感度が良好なペーストを提供すること。
【解決手段】 （Ａ）ガラス粉体、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）多官能性（メタ）アクリレート、並びに（Ｄ）光重合開始剤を含有し、ガラス粉体のＤ５０およびＤ９０、比表面積が以下の範囲にあることを特徴とする無機粒子含有樹脂組成物。
比表面積≦３．５ｍ^２／ｇ
１．０μｍ≦Ｄ５０≦４．０μｍ
Ｄ９０≦１０μｍ （もっと読む）

【課題】感度、解像度及びナノエッジラフネスに優れるパターンを形成することができるとともに、高精度な微細パターンを安定して形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、基板上にポジ型感放射線性樹脂組成物を用いてレジスト被膜を形成する工程、前記レジスト被膜に所定のパターンを有するマスクを介して放射線を照射して露光する工程、前記レジスト被膜上に上層膜を形成する工程、及び、現像によりレジストパターンを形成する工程を備えており、前記樹脂組成物は、感放射線性酸発生剤と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含む樹脂と、を含有しており、且つ前記酸解離性基を有する繰り返し単位が前記樹脂中に３０〜８０モル％含まれている。 （もっと読む）

【課題】マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。
【解決手段】フェノール性水酸基の一部又は全部がケタール基によって置換された、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体を含有するポジ型化学増幅系レジスト材料であって、前記ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体は、ＲＡＦＴ剤としてのジチオエステル系化合物の存在下、スチレン系モノマーをリビングラジカル重合する工程を有する製造方法により得られる、ポジ型化学増幅系レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】リフトオフによる蒸着および／またはスパッタ膜の形成方法に関し、基板表面に、ライン／スペースが１０μｍ／１０μｍ以下のような微細パターンにおいても、アンダーカットがパターン間の下部で繋がらないようにアンダーカット形状を制御することが可能なレジストパターンを、1回の露光および現像で得て、バリのない製膜層を容易に形成
することができる２層レジスト膜およびこれを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の樹脂組成物１と特定のポジ型感放射線性樹脂組成物２を基板表面に塗布して２層積層膜を形成し、一回の露光により２層積層膜からなるレジストに断面がアンダーカット形状をした微細パターンを形成し、次にこれをマスク材として有機あるいは無機薄膜等を蒸着および／またはスパッタし、リフトオフすることで所望の形状を有するパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】水現像可能で、現像液のアルカリ濃度の管理が不要であり、また、現像後の廃液の中和処理も不要となる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）下記式（１）で表される構成単位を有する重合体、


（式（１）中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基であり、Ｒ² は炭素数１〜５のアルキル基である。）（Ｃ）多官能性（メタ）アクリレート、および（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィにおいて、バリア膜とレジスト膜との接触が原因で発生したパーティクルが存在すると、レジストの現像が阻害され、レジストが均質に現像されなくなる。また、現像後に、レジスト膜の溶け残りがあると、結果的にパターンの形状が不良となる。
【解決手段】バリア膜形成用材料に、アルカリ可溶性ポリマーの他に、複数個のカルボキシル基を持つ多価カルボン酸化合物又は多価アルコール化合物を添加する。その結果、多価カルボン酸化合物又は多価アルコール化合物がレジスト膜表面に付着し、レジスト膜表面に付着していたパーティクルはバリア膜を除去する際に取り除かれる。また、現像と同時にバリア膜を除去する際には、レジスト膜が溶け残ることを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】高機能性高分子等のモノマー成分等として有用な新規な電子吸引性置換基及びラクトン骨格を含む多環式エステル、高分子化合物及びフォトレジスト樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基等を示し、Ｒ¹は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基等を示す。Ａは炭素数１〜６のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子又は非結合を示す。）で表される電子吸引性置換基及びラクトン骨格を含む多環式エステル。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、良好な解像性を示し、微細なラインパターンの倒れが低減されたネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）エピスルフィド構造（２個のＣ原子と１個のＳ原子とから成る３員環構造）を少なくとも１個有する化合物、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｃ）活性光線又は放射線の放射により酸を発生する化合物を含有するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】熱リソグラフィーによって形状に優れたレジストパターンを形成できる熱リソグラフィー用レジスト組成物、該熱リソグラフィー用レジスト組成物を用いたレジスト積層体、該レジスト積層体を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長の光を吸収する熱リソグラフィー用下層膜上に、前記露光光源の波長の光に感光しないレジスト膜を形成するための熱リソグラフィー用レジスト組成物であって、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、熱の作用により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とが、ポリアルキレングリコール系溶剤（Ｓ１）を含む有機溶剤（Ｓ）に溶解してなることを特徴とする熱リソグラフィー用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板やＳｉＯ₂またはＳｉＮ等の絶縁膜を有する基板をウェットエッチング加工する際のレジスト膜の形成に好適な放射線硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明に係る放射線硬化性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）下記式（１）で示される化合物、（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を有する化合物（ただし、化合物（Ｂ）を除く）および（Ｄ）放射線ラジカル重合開始剤を含有する。


〔ｎは２〜４の整数、Ｒ₁は芳香族炭化水素基を１つ以上有するｎ価の有機基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】（ａ）一般式（Ｉ）：
【化１】


（式中、Ｕ又はＶは２価の有機基を示し、Ｕ又はＶの少なくとも一方が炭素数１〜３０の脂肪族鎖状構造を含む基である。）で示される繰り返し単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体と、（ｂ）感光剤と、及び（ｃ）溶剤とを含有する樹脂組成物を課題の感光性樹脂組成物として用いる。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲが改良され、且つレジスト膜形成時のディフェクトが非常に少ない、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂の製造方法、該樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、酸解離性溶解抑制基を有するモノマーを重合溶媒に溶解し、重合開始剤を用いて重合させることにより、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂を製造する際に、重合開始剤を少なくとも２種用いて重合することを特徴とする、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂の製造方法、（Ａ）その製造方法で製造された、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）