本発明は、電子（又は陽電子）捕獲解離を実行可能な質量分析器、タンデム質量分析法を実行する方法、電子捕獲解離を実行する方法、及び陽電子捕獲解離を実行する方法に関する。一実施形態においては、電子捕獲解離又は陽電子捕獲解離を実行可能な質量分析器が提供され、質量分析器は、第１の質量分析器と、第１の質量分析器の下流側の磁気トラップと、磁気トラップの下流側の第２の質量分析器と、磁気トラップに電子又は陽電子が供給されるように配置された電子源又は陽電子源とを具備する。
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（ａ）少なくとも１つのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー；（ｂ）構造III〜Ｖにおいて、［Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷はそれぞれ独立にＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、フェニルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、過フッ素化されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基であり、または別に、Ｒ¹およびＲ²もしくはＲ⁴、Ｒ⁵、およびＲ⁶のいずれか２つは一緒になって５〜７員環を形作ってよく；Ｒ³はそれぞれ独立にＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、フェニルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、過フッ素化されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基、置換されていないフェニル基、またはフェニル、アルキルもしくはハロゲン化物で置換されたフェニル基であり；ＱはＨまたはＤであり、ただし少なくとも１つのＱはＤであり；Ｄは上記に規定したとおりであり；ａは１〜５の整数であり；ｂおよびｃは０〜５の整数であるが、ただし（１）構造IIIについて、ａ＝ｂ＝１であり、ＯＱがともにＲ¹Ｒ²Ｃ置換基に対してパラ位で置換されているなら、Ｒ¹およびＲ²がともに同時にメチルであることはなく、（２）１≦ａ＋ｂ＜６であり；構造Ｖについて、ａ＝ｂ＝ｃ＝１であり、すべてのＯＱがトリフェニルメタン炭素置換基に対してパラ位にあるなら、少なくとも１つのＲ³はＨでない］によって表わされる化合物から選択される少なくとも１つの感光性化合物；（ｃ）少なくとも１つの溶媒；および（ｄ）場合によっては接着促進剤を含むポジ型感光性組成物。本発明者は、この感光性組成物を使用してレリーフパターンを作成しまた電子部品を製造する方法をさらに提供する。
【化１】

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高い酸強度、低揮発性および低拡散率を有する光酸を提供する、光活性部分と過フッ素化多官能性アニオン部分（または初期アニオン部分）とを含む光酸発生剤（ＰＡＧ）が開示される。本発明はさらに、マイクロリソグラフィのためのフォトレジストおよび光重合などの用途のための光開始または酸触媒方法において用いられるような光酸発生剤に関する。 （もっと読む）

（ａ）１つまたはそれ以上のポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー（Ｉ）：［式中、ｘは約１０〜約１０００の整数であり、ｙは０〜約９００の整数であり、また(ｘ＋ｙ)は約１０００より小さく；Ａｒ¹は４価の芳香族基、４価の複素環式基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され；Ａｒ²は珪素を含んでよい２価の芳香族基、２価の複素環式基、２価の脂環式基、２価の脂肪族基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され；Ａｒ³は２価の芳香族基、２価の脂肪族基、２価の複素環式基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され；Ａｒ⁴はＡｒ¹（ＯＨ）₂またはＡｒ²からなる群から選択され；Ｇはポリマーの末端ＮＨ基に直接結合したカルボニル基、カルボニルオキシ基またはスルホニル基を有する基からなる群から選択される有機基である］；
（ｂ）照射に際して酸を放出する１つまたはそれ以上の光活性化合物（ＰＡＧ）；
（ｃ）少なくとも２つの〜Ｎ−（ＣＨ₂ＯＲ）_n単位を含む潜在的な架橋剤（式中、ｎは１または２であり、またＲは線状または分枝状のＣ₁〜Ｃ₈のアルキル基であり、ただしグリコールウリルが潜在的な架橋剤として使用されるとき、ポリベンズオキサゾール前駆体ポリマーのＧ基は環状の酸無水物の反応から生成される）；および
（ｄ）ＮＭＰではない少なくとも１つの溶媒
を含む耐熱性のネガ型感光性組成物。
【化１】

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多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有する触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される構造単位および／または一般式（１）で表される構造単位の前駆体よりなる化合物を成分（ａ）として含み、かつ、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基より選ばれる少なくとも１つの官能基を有することを特徴とする樹脂組成物。
【化１】




（一般式（１）において、ｎは１〜２の整数である。Ｒ^１〜Ｒ^４はＨ、Ｆ、ＣＦ_３、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基のいずれかを示し、同じでも異なっていてもよい。Ｒ^５、Ｒ^６はＨ、または炭素数１〜１０のアルキル基のいずれか一つを示し、同じでも異なっていてもよい。Ｒａは置換基を示す。） （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度、寸法制御性等の諸性能に優れたアルカリ水溶液を用いて現像するポジ型パタン形成材料およびそれを遮光膜として機能させる露光用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線照射により酸を生じる化合物およびカルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を有するバインダ樹脂、１分子中に少なくとも２個以上のビニルエーテル基を有する化合物、および窒素含有樹脂結合剤を酸触媒付加反応させて得られる組成物を少なくとも含むパタン形成材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】 電子線リソグラフィーを用いて、良好な形状を有する数十ナノメートル径のホールパターンを形成する。
【解決手段】 下地表面上に、ポジ型の電子線レジストを含有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に電子線を照射した後、現像することにより、前記レジスト層にホールを形成する工程を有し、前記ホールの平均径をＷ（単位：nm）とし、Ｗが８０のときの最適な電子線照射量をＤ₈₀としたとき、４０≦Ｗ≦７０であるホールを形成する際に、電子線照射量Ｄ_Wが０．８５×６０／（Ｗ−２０）≦Ｄ_W／Ｄ₈₀≦１．１×６０／（Ｗ−２０）
を満足するように電子線を照射するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）