【課題】 本発明の課題は、感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温（２００℃以下）で硬化可能であり、柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性に優れ、硬化後の基板の反りが小さく、封止剤との密着性に優れる感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 （Ａ）水酸基末端イミドオリゴマー、（Ｂ）ジオール化合物、（Ｃ）（Ｃａ）分子内に少なくとも１つのブロックイソシアネート基と少なくとも１つの感光性基を有する化合物及び／または（Ｃｂ）分子内に少なくとも１つの感光性基と少なくとも１つの水酸基を有する化合物、（Ｄ）ブロックイソシアネート化合物、（Ｅ）感光性化合物、（Ｆ）光重合開始剤及び（Ｇ）熱硬化性化合物を少なくとも含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いることで上記問題点を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】スペーサー形成時に発生する揮発成分量が極めて少なく、さらにスリットダイ塗布法による高速塗布にも対応できる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］カルボキシル基およびカルボン酸無水物基よりなる群から選択される少なくとも１種の基、ならびにペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）に代表される特定の多価チオール化合物に由来する基を有し、且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）とポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜２．８である重合体、［Ｂ］重合性不飽和化合物ならびに［Ｃ］感放射線性重合開始剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】ネガ型平版印刷版原版を用いて、水溶性樹脂を含有する水溶液による現像を採用するにあたって、良好な現像性を発揮し、細線再現性に優れ、現像カスの発生を抑制し、さらにＵＶインキ（紫外線硬化インキ）を用いた印刷を行っても細線に挟まれた非画像部が汚れ難く、耐刷性も備えた、平版印刷版の製版方法を提供する。そのように製版された平版印刷版を用いた平版印刷方法を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、スルホンアミド基及び親水性基を分子内に有する高分子化合物を含有する光重合層を有するネガ型平版印刷版原版を、レーザーで画像様に露光した後、水溶性樹脂を有する水溶液を接触させブラシで擦る現像処理を施して光重合層の未露光部分を除去することを特徴とする平版印刷版の製版方法；上記のように製版された平版印刷版を、印刷機に取り付け、該平版印刷版に油性インキと水性成分とを供給して印刷する平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】ｐＨ２．０〜１０．０の現像液による良好な現像が可能であり、耐刷性、汚れ性に優れた平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷版の作成方法を提供する。
【解決手段】ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、非露光部の感光層を除去する平版印刷版原版において、感光層が下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含有する平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷版の作成方法。
（Ａ）式（１）の繰り返し単位と、式（２）の繰り返し単位および式（３）の繰り返し単位の少なくもいずれかとを有する共重合体。


Ａ及びＢは独立してヘテロ原子を表し、Ｒ、Ｒ_１〜Ｒ_９は一価の置換基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｘはヒドロキシ基、酸基、アルキレンオキシ基、アミド基もしくはエーテル基を含む１価の基、アミノ基、アンモニウム基、または酸基を中和した塩を表す。Ｌ₀は単結合または２価の炭化水素基を表す。
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する化合物
（Ｃ）重合開始剤 （もっと読む）

【課題】膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ１）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｃ２）光ラジカル発生剤、、および、（Ｄ）ラジカル重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等に対して高感度で、発生する酸（光発生酸）の酸性度が十分高く、かつ、レジスト溶剤に対する高い溶解性及び樹脂に対する優れた相溶性を有する光酸発生剤及び、そのような光酸発生剤を含有するレジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（４）で示される含フッ素カルバニオン構造を有する酸を発生することを特徴とする化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤を使用することによって、前記課題は解決する。


前記一般式（４）において、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒ’は水素原子もしくは炭素数１〜３の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。Ｒとしてはアダマンチル基等が挙げられ、Ａは、カルボニル基等の２価官能基であり、Ｒ_ＦおよびＲ_Ｆ’はそれぞれ独立に炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】光透過率及びコントラストに優れた赤色画素を有し、画素上の異物発生がなく、又は異物の発生が極めて少ないカラーフィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）基板に赤色顔料を含有するネガ型レジスト組成物を塗布する工程、（Ｂ）プレベークする工程、（Ｃ）露光・現像する工程、及び（Ｄ）ポストベークする工程を有するカラーフィルターの製造方法であって、（Ｄ）ポストベークを減圧下で行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】経時変化により現像不良が発生せず原画フィルムを必要としないで、凸状のレリーフ像を形成することが可能な感光性樹脂印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、少なくとも水に溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、および赤外線吸収物質を含有する感熱マスク層（Ｃ）、カバーフィルム（Ｅ）を有する感光性樹脂印刷版原板において、感熱マスク層（Ｃ）が、水不溶性で重量平均分子量が１０００００〜５０００００のアクリル樹脂を含有することを特徴とする感光性樹脂印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、感度、パターン形状、パターン倒れに優れたネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用により架橋する化合物、（Ｃ）光酸発生剤、を含むネガ型レジストであって、前記（A）アルカリ可溶性樹脂が下記一般式（ＳＦ）で表されるスルホンアミド構造を有する繰り返し単位を含む樹脂であることを特徴とする、ネガ型レジスト組成物。


式（ＳＦ）中、＊は単結合又は有機基を表し、Ｒ^ＳＦは、アルキル基を表す。ただし該アルキル基は、１個以上の水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、パターン形状、デフォーカスラチチュードに優れたネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のスルホンアミド基を有する繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、パターン形状、デフォーカスラチチュードに優れたネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のスルホンイミド基を有する繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】厚膜化することが可能であり、シャープなパターニング形状が得られ、かつ、光硬化後及びパターニング後もガラス基板等に対する密着性を失わない硬化膜を与える硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記構造単位（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を有するアルカリ可溶性を有する共重合体（ａ）カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、（ｂ）フェノール性水酸基を有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、（ｃ）他のラジカル重合性化合物に由来する構成単位、（Ｂ）２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、（Ｃ）２個以上のエポキシ基を有し、２５℃における水１００ｇへの溶解度が２０ｇ以下である化合物、（Ｄ）数平均粒径が０．５μｍ以上のシリカ微粒子、及び（Ｅ）光ラジカル重合開始剤を含有する硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】デジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、耐薬品性、耐アルカリ現像液性に優れ、且つ、露光により速やかに耐アルカリ現像液性が解除される現像ラチチュードが良好な赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版用原版を提供する。
【解決手段】Ｓｉ原子付着量が０．５〜８ｍｇ／ｍ^２である陽極酸化されたアルミニウム支持体上に、側鎖にスルホンアミド基を有する構造単位から選択される１種以上を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含有し、露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する層と、をこの順に設けてなる平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高い光重合開始剤、経時安定性に優れ、更に、加熱経時による膜物性低下を抑制しうる硬化膜を形成可能な重合性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるオキシム系化合物を含有する光重合開始剤である。


〔前記一般式（１）中、Ａは、１価の置換基を表し、ｎは、０〜５の整数を表す。Ｚは、１価の置換基を表す。但し、ＡおよびＺの少なくとも１つは重合性基を有する。Ｖは、−Ｃ（＝Ｏ）−、または、単結合を表す。Ｗは、１価の有機基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高感度であり、かつ耐傷性に優れ、保存性に優れるポジ型平版印刷版材料を与える平版印刷版材料の製造方法を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、塗布液を塗布、乾燥して画像形成層を形成し、合紙を重ね、断裁し、合紙が重ねられた平版印刷版材料を積み重ね、加熱処理する平版印刷版材料の製造方法であって、該画像形成層がアルカリ可溶性樹脂および光熱変換剤を含有するポジ型画像形成層であり、塗布液が沸点１２０〜３００℃の有機溶剤を含有し、該積層工程における合紙中の水分含有量Ａ（ｇ／ｍ²）が１（ｇ／ｍ²）以上、７．０（ｇ／ｍ²）以下であり、積み重ねる際、画像形成層中の該沸点１２０〜３００℃の有機溶剤の残留溶剤量Ｂ（ｇ／ｍ²）と合紙の水分含有量Ａ（ｇ／ｍ²）との割合（Ａ／Ｂ）が１０〜２００であることを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版の作成過程で、支持体表面にノボラック樹脂を他の成分と共に適切な溶剤に溶解した塗布液を塗布、乾燥する工程において、印刷版としての性能を発揮させるため、強い乾燥をかけた際、飛散する成分を抑制することで、設備の汚染を防ぎ、また人体に対する影響も著しく抑制した赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に感光層を設けた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版であって、前記感光層が、ノボラック樹脂を含有する樹脂組成物により形成されたものであり、前記ノボラック樹脂中の単量体と２量体の合計が１０質量％以下であることを特徴とする赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基を持つ繰り返し単位を有し、アルカリ現像液に可溶になる樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト膜形成用組成物を塗布し、プリベークしてレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜に高エネルギー線を照射し、露光後加熱し、露光部の樹脂の酸不安定基に脱離反応を行わせた後、アルカリ現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、ポジ型パターンを露光もしくは加熱して上記樹脂の酸不安定基を脱離させてアルカリ溶解性を向上させ、かつ該樹脂に架橋を形成させて、反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物を用いて反転用膜を形成する工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジ型レジストパターンにダメージを与えることなく、その間隙に反転用膜材料を埋め込むことができ、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液浸フォトリソグラフィーにおいて、フォトレジスト膜を保護すべくフォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料及びこれらの材料を用いたパターン形成方法に関する。
【解決手段】フォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で表される繰り返し単位ａを含む高分子化合物Ｉと、スルホン酸又はスルホン酸アミン塩を有する繰り返し単位を含む高分子化合物ＩＩを含むことを特徴とするレジスト保護膜材料。
【化４５】
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【課題】遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においても、高解像性、大きなブリッジマージンを示すネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、ｐＫａが、−８以下である酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｃ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においても、高解像性、大きなブリッジマージンを示すネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のジカルボニルメチレン構造を有する繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）