光マネジメントフィルムは、光学透明基板とマイクロレンズのアレイによって提供され得る。このアレイは、光学透明基板の第１の面に形成されている。光学反射層は、第１の面の反対にある基板の第２の面に設けられており、光学反射層はマイクロレンズに対して自己整合された開口部を含む。
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【課題】大きな負群速度分散を生じさせることができ、かつ固体レーザ装置の出力ミラーとして利用可能な負分散ミラーを実現する。
【解決手段】基板６上に誘電体多層膜構造７を有するミラー５として、多層膜構造が、それぞれ複数の層が積層されてなる３つ以上のミラー機能層部ＭＬ₁，ＭＬ₂,…および該ミラー機能層部間に挟まれて配されて該ミラー機能層部間で所定の波長の光Ｌの共振を生じさせるキャビティ層Ｃ₁,Ｃ₂,…から構成され、所定の波長の光Ｌに対して、分散量を−600fs²〜−3000fs²とし、かつ、反射率を97％〜99.5％とする。 （もっと読む）

【課題】迷光の発生をより確実に防止できるライトトンネルを実現する。
【解決手段】複数のガラス板１２によって、光が入射する入射開口と、入射開口から入射した光が反射を繰り返しながら進行する内部空間と、内部空間を進行した光が出射される出射開口１１とが形成されたライトトンネル１０であって、ガラス板１２の出射開口の周囲の出射側端面１３に遮光性を有する光学薄膜１４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】レンズの表面に成膜する際に、曲率半径の小さい小径レンズに対しても均一な膜厚の膜を形成する。
【解決手段】レンズＬを回転自在に支持する１個以上のレンズ支持部材３０が真空槽２内に設けられている。各レンズ支持部材３０は、レンズＬの中心軸の角度が個別に設定可能となっている。これにより、レンズ支持部材３０ごとに回転軸の角度を設定できることから、曲率半径の小さい小径レンズＬに対しても、均一な膜厚の膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】反射−透過型液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】前記装置は表示領域及び表示領域の外郭に位置したパッド領域を含む基板と、表示領域の基板上に形成された透明電極２３４、パッド領域の基板上に透明電極２３４と同一な層に形成されたパッド電極、及び前記透明電極２３４上に形成され透明電極２３４の一部分を露出させる透過窓を有する反射電極２３８を備える。透明電極２３４と反射電極２３８を直接接触させることにより、工程の単純化を図ることができ、パッド電極を透明電極２３４と同一な層に形成し、ＣＯＧボンディングときに腐食を防止してパッド信頼性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】正面輝度を効率よく向上させることができる光制御シート、及び、これを備える面光源装置、透過型表示装置を提供する。
【解決手段】基材層１４４と、基材層１４４の出射側に形成され、出射側に凸となる単位レンズ１４５ａが複数配列されたレンズ層１４５と、基材層１４４より入射側であって、シート面の略法線方向に沿って単位レンズ１４５ａ側から平行光を照射したときに、光の焦点となる位置及び前記焦点の近傍となる領域以外の領域に設けられる反射部１４３と、反射部１４３より入射側に設けられる支持層１４１とを備え、支持層１４１のヘイズ値が３０％以下であり、反射部１４３は、光を鏡面反射し、その反射ヘイズ値が２０％以下である光制御シート１４と、これを備える面光源装置、透過型表示装置１０とした。 （もっと読む）

【課題】多層膜の層数を増やすことなく反射率の向上を図ることが可能な多層膜反射鏡を提供する。
【解決手段】本発明の多層膜反射鏡は、基材上にＭｏを主成分とするＭｏ層とＳｉを主成分とするＳｉ層とからなるＭｏ-Ｓｉペア層を交互に設けた多層膜反射鏡であって、基材直上の第１番目のＭｏ-Ｓｉペア層から第ｎ番目のＭｏ-Ｓｉペア層におけるＭｏ層の厚さＳｉ層の厚さが等しくなるように設定されることを特徴とする （もっと読む）

【課題】レーザ照射により損傷を避けると共に、コーティング膜を有する多数の光学部品への処理を一括して処理可能な反射膜を作製する方法を提供する。
【解決手段】工程フロー１００の工程Ｓ１０１で光学基体を準備する。工程Ｓ１０２では、半導体レーザといった光学基体の端面に光学的コーティング膜１４を形成する。膜厚が−５％〜＋５%の範囲でばらついたとき、低反射膜の反射率が最小になる波長も−２８ｎｍ〜＋２８ｎｍの範囲でばらつく。このコーティング膜を、工程Ｓ１０３では、湿度の制御および温度の制御が可能な恒温槽に入れる。工程Ｓ１０４では、この恒温槽内において半導体レーザ１０を保持して、光学的コーティング膜１４の反射率を変化させる。この後に、工程Ｓ１０５で、半導体レーザ１２を恒温槽から取り出す。恒温槽の湿度は例えば９０％（相対湿度）であり、温度は例えば摂氏７５度である。 （もっと読む）

本発明は、炭化ケイ素の走査または光学ミラーの製造方法に関する。本発明によれば、走査または光学ミラーの製造コストを下げることができる。本発明では、加工された型または工具を使用して炭化ケイ素の粉末をプレスまたは型押しあるいは静水圧プレスし、走査または光学ミラーの形状および構造を形成する。次いで、焼結を行い、前記走査または光学ミラーのフェース面となる表面を形成する。次いで、熱溶射プロセスにより付着される適切な厚さのケイ素材料の層によって前記走査または光学ミラーのフェース面をコートまたは結合する。次いで、所望の表面品質および／または粗さおよび／または平坦度を達成するために研磨する。次いで、コーティング技法および材料を使用して光学的なコートを施すことにより、完成後の炭化ケイ素の走査または光学ミラーの最終的な用途において反射するものとして使用される１つ以上の波長に特有の適切な高反射率を持つ光学コーティングで反射面となる前記フェース面をコートする。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン光とＨＩＤ（High Intensity Discharged lamp）光の双方に対し防眩性を有し、かつ防眩時の対象物の視認性を向上させた液体型ＥＣ（エレクトロクロミック）素子を提供する。
【解決手段】還元着色剤としてビフェニルジカルボン酸ジエチルを含み、酸化着色剤としてフェロセンまたはフェノチアジンを含むＥＣ液でＥＣ層を構成する。反射型素子の場合、反射率のピーク波長が５１０〜６００ｎｍにあり、４００〜５１０ｎｍの平均反射率が１０％以下、５１０〜６００ｎｍの平均反射率が２３％以上、６００〜８００ｎｍの平均反射率が１５％以下である。透過型素子の場合、透過率のピーク波長が５１０〜６００ｎｍにあり、４００〜５１０ｎｍの平均透過率が１５％以下、５１０〜６００ｎｍの平均透過率が２０％以上、６００〜８００ｎｍの平均透過率が３５％以下である。 （もっと読む）

【課題】マルチレイヤー構造の提供。
【解決手段】マルチレイヤー構造であって、外表面および２〜４の屈折率を有する第一の材料でできた第一の層が、１〜３の屈折率を有する第二の層の外表面にわたって広がっている。該マルチレイヤースタックは、０°〜８０°の角度から眺めたときに２００ナノメートル未満の反射帯域を有し、および紫外線、可視光線および赤外線スペクトル範囲における電磁放射の狭い範囲を反射するために使用されることができる。いくつかの例では、該マルチレイヤー構造の反射帯域が１００ナノメートル未満である。また、該マルチレイヤー構造は、２％未満のレンジ対ミッドレンジ比百分率として定義される量を有することができる。 （もっと読む）

【課題】正反射による光反射率を高く維持しつつ、反射光の眩しさを軽減することができる光反射板を提供するものである。
【解決手段】基体１１と、基体１１上に形成された、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金からなる光反射層１３とを備え、光反射層１３の表面１３ａにおいて、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反射膜を所定の部分に正確に形成することができる反射スクリーンの製造方法および反射スクリーンを提供する。
【解決手段】スクリーン基板１の観察面１ａの垂直方向および水平方向に複数の凹部２を形成する工程と、観察面１ａに反射膜３を形成する工程と、反射膜３上に感光性のレジストＮＲを形成し、レジストＮＲを感光させる光Ｌｓを投影光Ｌｐの入射方向から観察面１ａに、観察面１ａに対する投影光Ｌｐの入射角度θｐ以下の角度θｓで入射させてレジストＮＲを感光させるレジスト感光工程と、感光させたレジストＮＲを残存させ、それ以外のレジストＮＲを剥離させ、露出した反射膜３をエッチングする工程と、残存させたレジストＮＲを剥離させる工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来よりも薄く高品質な反射膜を形成することができ、反射スクリーンの斜め方向から入射する投影光を、反射スクリーンの観察側に効率よく反射させることができる反射スクリーンの製造方法および反射スクリーンを提供する。
【解決手段】スクリーン基板１の垂直方向および水平方向に、複数の凹部２を形成する工程と、凹部２に、スクリーン基板１の観察面１ａの法線ＮＬに対して垂直方向にずれた位置から、蒸着法により反射膜材料を斜めに蒸着させて反射膜３を形成する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光透過状態のときに可視光線波長域において高い透過率を示す光反射透過材料、光反射透過装置、光反射透過窓を提供する。
【解決手段】水素化されることで光透過状態となり、脱水素化されることで光反射状態となる光反射透過材料であって、水素化された光透過状態で価電子帯および伝導帯を有し、前記価電子帯と前記伝導帯とのバンドギャップが、所定の可視光線波長領域に属する可視光線の光子エネルギよりも大きい物質からなる。この物質は、ＭｇとＡｌとからなる合金、または、ＭｇとＣｕとからなる合金である。 （もっと読む）

【課題】本発明は反射膜であるＡｌ膜と増反射膜および保護膜として働く金属酸化膜または金属窒化酸化膜との密着性が優れた表面鏡を提供する。
【解決手段】本発明の表面反射鏡は、ガラス基板に金属膜と金属酸化物膜又は、金属窒化膜及び金属酸化膜が成膜されてなる表面鏡において、ガラス基板の上にＡｌ−ＡｌＯ_ｚ傾斜膜、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜、Ｎｂ_２Ｏ_５膜を順次積層してなる表面鏡、さらに、ガラス基板とＡｌ−ＡｌＯ_ｚ傾斜膜との間にＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜が成膜されてある表面鏡で、（Ａｌ膜の膜厚）／（Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯ_ｚ傾斜膜の膜厚）が０．３以下であることを特徴とする。
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【課題】液晶表示装置に関して、反射膜の表面に所望の形状の凸面を形成することが可能な技術を提供する。
【解決手段】ポジ型の感光材料及びエポキシ樹脂を含む熱硬化型の感光性樹脂膜１１を形成する。次に、感光性樹脂膜１１をパターンニングして、当該感光性樹脂膜１１から成る複数の凸部１１２を形成する。次に、複数の凸部１１２に対して、波長が１５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の紫外線６３を照射する。次に、複数の凸部１１２に対して熱硬化処理を行う。そして、複数の凸部１１２を覆う反射膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】紫外線フォトリソグラフィにおいて使用できる広い角度範囲にわたって比較的フラットなアポダイゼーション関数をもつビームスプリッタを提供する。
【解決手段】ビームスプリッタには第１のフッ化物プリズムと第２のフッ化物プリズムが設けられている。これら第１のフッ化物プリズムと第２のフッ化物プリズムとの間にコーティング界面が設けられており、その際、ビームスプリッタの全体的なＲ（ｓ）＊Ｔ（ｐ）関数は４０゜〜５０°の入射範囲において±２．７４％以内でしか変化しないように構成されている。 （もっと読む）

ベースを備える光学素子または光学素子の一部を作製するための方法は、次のステップ：光学素子の幾何学形状に対応した表面を有する成形体（２１，１０００，２０００）を準備するステップと、成形体（２１，１０００，２０００）の表面に少なくとも１つの分離層システム（１５，１０１０，２０１０）を備える層システム（７）を析出するステップと、層システム（７）にベース（４，１０３０，２０３０）を電気鋳造するステップと、分離層システム（１５，１０１０，２０１０）で少なくとも前記ベースを成形体から分離するステップとを含む。
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【課題】 上部保護膜層が多層膜反射コーティングの上面層へ拡散するのを防止する底部保護膜層と、酸化および腐食に耐え、多層膜反射コーティングを酸化から保護する、という材料で作った上部保護膜層とを有する、極端紫外線または軟エックス線用途で使用するように設計された多層膜反射コーティングのための不動態化保護膜二重層を提供する。
【解決手段】 ＥＵＶ反射性Ｍｏ／Ｓｉ多層膜のための新規なキャッピング多層構造は、多層構造を環境から保護する上面層と、上面相と下方構造との間において拡散バリアとして作用する底面層と、からなる。一実施態様では、Ｒｕの第１層をＢ₄Ｃの第２層と組み合わせている。Ｒｕは、今まで研究されてきた全ての材料のうちで最良の耐酸化性を有する。Ｂ₄Ｃは、シリサイド形成に対する優れたバリアであり、Ｓｉ境界に形成されるシリサイド層は充分に制御される。 （もっと読む）