【課題】本発明は、高色濃度カラーフィルタの赤色着色層の欠陥修正を行っても、目視で発見されにくい高色濃度カラーフィルタおよびその修正方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】基材と、上記基材上に形成された画素部を画定する遮光部と、上記遮光部の開口部に形成された赤色着色層とを有する高色濃度カラーフィルタであって、上記赤色着色層は、製造時に修正された修正部と、修正されていない非修正部とからなり、上記修正部は、主顔料として赤色顔料を用い、調色用顔料として緑色顔料を用いた着色剤を含有する着色層であることを特徴とする高色濃度カラーフィルタを提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ工程において、感光硬化型樹脂組成物の溶液を基板に塗布すると基板周辺部の感光硬化型樹脂組成物の膜厚が基板内側部より厚くなる。このために、周辺部の該膜厚肥厚部を未露光にしても、基板内側部の硬化パターンの断面形状が好ましい順台形となる現像方法では、該肥厚部に現像残りが発生してしまう。
【解決手段】前記感光硬化型樹脂組成物として、予備加熱の温度を高くすると現像速度が低下するものを用い、また前記肥厚部よりも肥厚部以外の部分を温度の高い条件で予備加熱し、さらに前記肥厚部の現像残りがなく、また前記所定の硬化パターンの垂直横断面形状が所定の形状になるまで現像する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、均一な高さで、液晶表示装置に用いた際に焼きつき等が生じることの少ない高品質な液晶配向制御用突起を有するカラーフィルタを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成された着色層と、上記着色層上に形成された透明電極層と、上記透明電極層上の上記着色層に対応する領域に形成された液晶配向制御用突起とを有するカラーフィルタであって、上記液晶配向制御用突起は、１種または２種の原子による６員環構造を有し、上記６員環構造中は３つの不飽和結合を含み、かつ上記６員環構造に隣接する原子の少なくとも１つ以上が酸素原子または窒素原子であるユニットを有する高分子を含有することを特徴とするカラーフィルタを提供することにより、上記目的を達成させる。 （もっと読む）

【課題】固体撮像装置の製造方法において、撮像領域の周囲に位置する遮光層による段差部近傍でも、他の撮像領域と同様に均一な厚さでカラーフィルタやその上下のマイクロレンズを形成可能とする。
【解決手段】固体撮像装置の製造方法において、遮光層近傍の段差部を有する下地層（平坦膜）５上でフィルタ用レジスト材２１をパターニングする際、該下地層５上に塗布したフィルタ用レジスト材２１に対する露光量を、該フィルタ用レジスト材の現像時に、該下地層５の段差部による該フィルタ用レジスト材表面での起伏が吸収されるよう該フィルタ用レジスト材の露光面内で変化させるようにした。 （もっと読む）

【課題】
ブラックマトリックスのみをフォトリソ方式で作製し、他の色等についてはインクジェット方式等を用いて塗工する事によってカラーフィルターを作製する場合において、前記ブラックマトリックスに最良な形状を与え且つ十分な撥液性を具備させる方法の提案をする。
【解決手段】
ブラックマトリックスのみをフォトリソ方式で作製し、他の色等についてはインクジェット方式等を用いて塗工する事によってカラーフィルターを作製する場合において、前記ブラックマトリックスを作製する工程で複数回、同一箇所に露光を行った。結果ブラックマトリックスに最適な形状と撥液性を容易に具備させる事が出来、高品質なカラーフィルターを製造する事が出来た。 （もっと読む）

【課題】固体撮像素子の製造工程において、簡単な方法でカラーフィルタ形成時の着色レジストの現像残渣をなくし、高品質のカラーフィルタを得る。
【解決手段】緑色樹脂を半導体基板上に塗布し、露光によって半導体基板上に残す部分を確定してから現像を行い、不要部分を除去した後に硬化して緑色フィルタを形成する。緑色フィルタが形成された半導体基板上に酸素プラズマ処理を施して表面を親水化した後に青色樹脂を塗布して同様の工程にて青色フィルタを形成する。続いて半導体基板上に酸素プラズマ処理を施した後に赤色樹脂を塗布し、同様の工程にて赤色フィルタを形成する。３色のフィルタからなるカラーフィルタが形成された上に、マイクロレンズが形成され固体撮像素子が製造される。 （もっと読む）

【課題】複数色にわたるカラーフィルタの欠陥部分の修正を短時間で簡易に行ない、修正部分が識別され難い修正を可能にする。
【解決手段】カラーフィルタの欠陥修正方法において、基板上の着色画像欠落領域に、２色以上の色パターンを有する転写フィルムを用いて前記色パターンの少なくとも一部を転写するパターン転写工程を設けて構成されている。 （もっと読む）

【課題】従来のフィルム転写方式を用いたパターン修正方法の不具合を解決し、パターン修正部の正確な位置決めや修正用フィルムの転写後のトリミングを必要としない高精度なパターン修正方法およびパターン修正装置を提供する。
【解決手段】基板表面のパターン欠陥部にインキを転写してパターン欠陥を修正するパターン修正方法において、あらかじめフィルム上に修正インキ膜をパターニング形成したテープ状の修正フィルムを作製し、修正インキ膜を前記パターン欠陥部に加熱転写してパターン欠陥を修正する。修正フィルムは、インキ剥離性基材上に修正用インキを塗布して予備乾燥状態にした後、必要とするパターンを凹部とする除去版を接触させて非パターン領域を版凸部へ移行させることで前記インキ剥離性基材上にパターニングされた修正インキ膜とし、その後さらに加圧転写を用いて前記修正フィルム上に転写形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、色特性に優れ、輝度の高い着色層を形成可能なカラーフィルタ形成用基板を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、基材と、上記基材上に形成され、開口部を備える多段遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板であって、上記多段遮光部が、上記基材上に形成された最下段遮光層を含む下段遮光部と、上記下段遮光部上に形成され、少なくとも頂部が撥液性である、最上段遮光層とからなり、上記最上段遮光層を除く上記各遮光層が、直上の遮光層よりも平面視面積が広く、着色層乗り上げ部を有するものであることを特徴とするカラーフィルタ形成用基板を提供することにより上記課題を解決するものである。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの塗布ムラを解消する。
【解決手段】平坦化層の上に緑色のカラーフォトレジストをスピン塗布する（ｓｔ１）。露光，現像，加熱処理の各処理を行ない（ｓｔ２）、ストライプ状に形成された厚みが均一な緑色のカラーフィルタを得る。次に、青色のカラーフォトレジストをスプレー塗布する（ｓｔ３）。緑色のカラーフィルタが形成されていない溝状部に青色のカラーフォトレジストが入る。上述した各処理を行ない（ｓｔ４）、厚みが均一な青色のカラーフィルタを得る。次に、赤色のカラーフォトレジストをスプレー塗布し（ｓｔ５）、溝状部に入る。上述した各処理を行ない（ｓｔ６）、厚みが均一な赤色のカラーフィルタを得る。 （もっと読む）

【課題】欠陥部の近傍にダメージを与えたり、汚染することなく、微細なパターン抜け欠陥部を容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。
【解決手段】この欠陥修正方法では、カラーフィルタ基板１の白欠陥部５ａに応じた形状を有し、かつ白欠陥部５ａよりも小さな孔１０ａをレーザ照射によってフィルム１０に形成し、孔１０ａの開口部を白欠陥部５ａに隙間を開けて対峙させ、修正インク１７が付着した塗布針１８先端の平坦面１８ａで孔１０ａを含む所定の範囲を押圧し、白欠陥部５ａに修正インク１７を塗布する。したがって、白欠陥部５ａに近接するブラックマトリックス３上の凸部７と孔１０ａの端部１０ｂとの隙間に修正インク１７が吸い込まれるのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】圧力室間の相互干渉を受けることなく比較的短時間に実施でき、かつ、液滴の吐出量の変動を極力小さな範囲に収めることができる液滴吐出量調整方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置の吐出量を調整するにあたり、各圧力室から液滴を吐出させる調整吐出工程と、吐出された液滴の量を測定する測定工程と、各圧力室から吐出される液滴の吐出量が目標値となるように、測定された液滴の量に基づいて各圧力室の電極に印加すべき電圧を調整する電圧調整工程とを有し、調整吐出工程は、前記複数の圧力室を互いに異なる吐出可能期間を有するｎ個（ただし、ｎは自然数）おきのグループにグループ化し、１つのグループの吐出により発生した圧力波が他のグループの吐出特性に影響を与えないように所定の時間的間隔を空けてグループ毎に液滴を吐出させる。 （もっと読む）

【課題】 平坦化層とパターン化層を膜厚精度よく、一括加工することが出来、液晶表示装置の高性能化、低コスト化を図ることが可能な液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の着色層を有するカラーフィルタ基板上に、非感光性、かつ現像液に対して、難溶、もしくは不溶の平坦化層を塗布、セミキュア後に、感光性樹脂を塗布、セミキュアし、フォトマスクを介した露光を行った後、現像液により、感光性樹脂層のみをエッチングすることで、平坦化層とパターン化層を一括加工することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】透過型表示装置と同等の色再現範囲を有し、光漏れがなく高コントラストな半透過型液晶表示装置を実現するカラーフィルタを提供する。
【解決手段】カラーフィルタ１は、透明な基板９上に、マルチギャップ層３と透明層４を有し、その上に着色層７を塗布してなる。透明層４は、マルチギャップ層３よりも薄く、マルチギャップ層３と透明層４の間には、凹部６を有する。この凹部６により、着色層７は、テーパー部分が小さくなり、カラーフィルタ１の無効領域は従来例に比べて狭くなる。カラーフィルタ１を用いる液晶表示装置は光漏れがなく、高コントラストな半透過型液晶表示装置となる。 （もっと読む）

【課題】処理対象となる基板が上面に載置されるステージを備える基板処理装置において、ステージの上面の平坦性を確保しつつ、ステージの運搬を容易にする。
【解決手段】ステージ１０ａの設置にあたっては、まず、ステージ１０ａを構成するベース石定盤１１ａ及び取付け石定盤１２ａを準備し、床面９５の上を水平方向に移動可能なキャスター付きの架台８１，８２の上面にベース石定盤１１ａ及び取付け石定盤１１ｂを載置する。しかるのちに、基板処理装置１の設置場所においてベース石定盤１１ａの右面１１２ａと取付け石定盤１２ａの左面１２２ａとを面接触させ、ベース石定盤１１ａの上面１１１ａと取付け石定盤１２ａの上面１２１ａとが同一平面となるようにレベリングブロック８３を微調整する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、最近のモバイルや車載用途の狭セルギャップ仕様の液晶パネルに適したカラーフィルタの欠陥修正方法を提供することを目的とする。
【解決手段】透明基板（１）上に、ブラックマトリックス（５）及び赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の色インキからなる各着色層（２、３、４）を所定のパターンで配列して構成されたカラーフィルタの異物（６）等の欠陥部を修正する方法において、前記カラーフィルタの欠陥部を含む着色層（３）をレーザ光により除去した後の欠落部（７）にディスペンサー装置により色修正用の色インキ（８）を充填後、硬化処理して色層（９）を形成し、さらに該色層（９）上に透明インキ（１０）を塗布後、硬化処理して透明層（１１）を形成して、色層（９）と透明層（１１）との２層からなる周辺部と段差のない欠陥修正部（１２）を形成したことを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法である。 （もっと読む）

【課題】巻き取りロールから供給されたフィルム基材上に、顔料を分散した透明な着色感光性樹脂をドライフィルム化した着色感光性樹脂層を貼り合わせ、フィルム基材上でフォトリソ法によりパターニングしてカラーフィルターを製造する方法において、設備の増加を伴わず、かつ材料使用効率が高く、容易にフィルム基材上に形成したフレキシブルカラフィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム基材１０１上に１０３着色感光性樹脂層を貼り合せる際、形成するカラーフィルターの有効エリア１１２のサイズに着色感光性樹脂層を切り抜いた後、貼り合わせることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、インクジェット法を用いて、色ムラ、膜厚バラツキの少ない高品質なカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】
透明基板上に着色層を形成するための隔壁を形成する工程と、上記隔壁を検査する工程、上記隔壁で囲まれた領域にインクジェット法を用いてインクを吐出し着色層を形成する工程、基板上にオーバーコート材を塗工する工程、塗工されたオーバーコート層を検査する工程とを有するカラーフィルタの製造方法であって、
上記隔壁検査工程とオーバーコート層検査工程で得られた結果に基づいて、インクジェット吐出条件を調整することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトダイオードなどの光電変換部への光量の増大をはかるとともに、高感度でかつ、混色や色シェーディングの発生を抑制することの可能な固体撮像素子を提供する。
【解決手段】本発明のカラーフィルタは、画素を構成する複数の光電変換領域のそれぞれに対向するように配置され、前記光電変換領域に入射する光を画素毎に色分離するためのカラーフィルタであって、前記カラーフィルタは第１の色を選択的に透過する第１のカラーフィルタと、前記第１の色とは異なる第２の色を選択的に透過する第２のカラーフィルタとが並列配置され、前記第１および第２のカラーフィルタは、周囲に、側壁を反射性膜で覆われたホワイト画素としての透光性領域を介して隣接するように配置される。 （もっと読む）

【課題】１画素で複数種類の波長の光を選択的に透過させて検出できるようにすることにより、カラーイメージセンサーの小型化と画像の再現性向上を実現する。
【解決手段】カラーイメージセンサーは、透過光の波長を制御可能なカラーフィルター２０と、カラーフィルター２０を透過した透過光をそれぞれが受光して電気信号を出力する複数のフォトダイオード領域５と、層間絶縁膜４と、複数のマイクロレンズ２と、を有する。カラーフィルター２０は、互いに平行で透過光を透過する下部干渉膜１ａおよび上部干渉膜１ｂと、これら干渉膜の間隔を変化させるための下部動作制御電極７ａおよび上部動作制御電極７ｂならびに支持構造体８を有する。干渉膜の間隔を変化させ、時間をずらして１画素で複数種類の波長の光を検出する。 （もっと読む）