【課題】露光工程でのフォトマスクに起因した欠陥が発生しても、連続して作業を行うことを可能とする、カラーフィルタの露光による欠陥修正方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト層へのフォトマスクを介したパターン露光Ｐｅ、続く現像によりブラックマトリックス４１又は着色画素４２を形成する際に、フォトマスクに起因した共通欠陥Ｋ１を修正するために、現像後の検査にて予め検出された共通欠陥の位置、形状をもとにした第２露光２ｅを現像前に与えておくこと。第２露光にレーザー光を用いること。第２露光の形状を共通欠陥の形状より大きな形状とし、現像後に余分な領域を除去して所望の形状とすること。 （もっと読む）

【課題】本発明は、カラーフィルタにおける同一機能部材を形成するのに有用な、階調マスクを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板上にネガ型感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、上記感光性樹脂からなる高さの異なるスペーサを形成するスペーサ形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法であって、上記前記階調マスクは、透明基板と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが順不同に積層され、上記透明基板上に上記遮光膜が設けられた遮光領域と、上記透明基板上に上記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、上記透明基板上に上記遮光膜および上記半透明膜のいずれも設けられていない透過領域と、を有し、上記半透明膜が、所定の波長において所定の透過率を有するカラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】１枚の大型ガラス基板上に画素ピッチ幅が異なる複数種のカラーフィルタが面付けされるカラーフィルタ基板において、画素ピッチ幅の違いによって生じる画素膜厚の差を低減する事が可能な製造方法、及びその方法により製造されたカラーフィルタ、並びに、このカラーフィルタを用いて作成されたカラー表示装置を提供する。
【解決手段】画素のピッチ幅が最も広い部分と最も狭い部分の比が１．５から８の範囲である多面付けカラーフィルタ基板の製造方法において、前記画素の製造がフォトリソグラフィー法によるものであり、前記基板上に溶剤を７５〜９０質量％含む感光性樹脂組成物を塗布した後該感光性樹脂組成物を減圧下にて溶剤を乾燥する減圧乾燥工程を有し、前記減圧乾燥工程において２００Ｐａ以下に減圧する過程において１０００Ｐａから２００Ｐａに到達するまでにかかる時間を５秒から２０秒の範囲とする。 （もっと読む）

【課題】赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）の色度、並びに白色の色度を従来と同等に保ちつつ、白色輝度を向上させることができるカラーフィルタ及び該カラーフィルタを用いた電子表示装置の提供。
【解決手段】少なくとも赤色（Ｒ）画素、緑色（Ｇ）画素、及び青色（Ｂ）画素を有するカラーフィルタであって、前記赤色（Ｒ）画素、前記緑色（Ｇ）画素、及び前記青色（Ｂ）画素の少なくとも１つの画素が、１種以上の染料と１種以上の顔料を含み、かつ各色の画素面積が同一でないカラーフィルタである。顔料と染料を含む画素の画素面積が、染料を含まない画素の画素面積よりも小さい態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、より高精細なパターン状に特性が変化したパターンを有するパターン形成体、およびその製造方法等を提供することを主目的としている。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、表面に凸面および凹部領域が形成され、かつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する樹脂層を有し、前記凹部領域の側面および底面が、前記凸面の特性と異なる特性を有することを特徴とするパターン形成体を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置が斜め方向から観察された場合であっても、高いコントラストで表示を行うことが可能なカラーフィルタ、これを用いた液晶表示装置、および上記カラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】透明基板と、上記透明基板上に形成された複数色の着色層とを有するカラーフィルタであって、上記着色層が、上記着色層表面に複数の凹凸を有し、上記複数の凹凸が、規則的なパターン状に形成されていることを特徴とするカラーフィルタを提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】保存安定性がよく、成膜時に異物の発生が無く、撥液性に優れた撥液レジスト組成物の提供。
【解決手段】（ａ１）炭素数４〜８のフルオロアルキル基（炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよい）を有するα位置換アクリレート１００重量部、（ａ２）エポキシ基含有モノマー５〜８０重量部および（ａ３）（Ｒ^１Ｏ)_ｎＲ^２で示されるアルキレンオキサイド基を含有するモノマー１０〜４０重量部を繰り返し単位とするフッ素系ポリマー（Ａ１）を含有し、フッ素系ポリマー（Ａ１）のフッ素濃度が１５〜４０重量％および重量平均分子量が３，０００〜２０，０００である撥液レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、微細な画素サイズであっても、基板への密着性が高く形状の優れたカラーフィルタを備える、且つ感度の高いイメージセンサー及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも、複数のフォトダイオードが形成された半導体基板と、それぞれのフォトダイオードに対応して形成された緑色、赤色および青色のカラーフィルタとを有するイメージセンサーにおいて、各々の色フィルタが、同じの色の2層で構成されているカラーフィルタを有することを特徴とするイメージセンサーである。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、耐光性の高い着色硬化膜を形成しうる着色硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ−１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と金属原子又は金属化合物とを含む錯体、（Ａ−２）フタロシアニン系顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、及び（Ｅ）有機溶剤を少なくとも含む着色硬化性組成物。〔一般式（Ｉ）中、Ｒ^１〜Ｒ^６は、各々独立に、水素原子、又は置換基を表す。Ｒ^７は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。〕。
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【課題】反射型カラーフィルタ及びこれを備えるディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】透明基板、透明基板上に形成された複数のフォトニック結晶パターンを含むフォトニック結晶層及び透明基板を介してフォトニック結晶パターンと対向する光エネルギー変換素子を含む反射型カラーフィルタ。入射光に対する透過率が電気的に制御される液晶層、液晶層を画像情報によって駆動する複数の薄膜トランジスタを備えるＴＦＴ−アレイ層及び液晶層を通じて入射された光のうち、フォトニックバンドギャップに該当する波長帯域の光を反射させる反射型カラーフィルタを備える反射型ディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用カラーフィルタ基板や画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いて液晶セルギャップ制御用の固定スペーサと液晶配向ドメイン規制用突起部とを一括形成するためのフォトマスクを最適化し、工程条件によるバラツキの少ないカラーフィルタ基板とその製造方法、または画素電極基板とその製造方法、高品質の液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板１１、または画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いて固定スペーサ５とドメイン規制用突起部６とを一括形成するためのフォトマスク２０であって、固定スペーサのフォトマスクパターンは、遮光部８の周囲に全透過スリットを含むグレートーン部９を有し、ドメイン規制用突起部のフォトマスクパターンは、複数の平行帯状の遮光部８５に挟まれた全透過スリット８０を含むグレートーン部９０を有する。 （もっと読む）

【課題】小型マスク連続露光方式を用いて、カラーフィルタ基板の表示領域４辺の外側に位置する非表示領域にダミーＰＳを形成できる露光方法を提供する。
【解決手段】（ａ）に示すように、基板２０をＹ方向に搬送しながら、基板２０上の第１の非表示領域５１（右上がりのハッチングで示す領域）に第１のレイヤー８１を露光しながら、表示領域にレイヤー９１を露光する。次に、基板２０を９０度回転させて、（ｂ）に示すように、基板２０をＸ方向に搬送しながら、第２の非表示領域５２（右上がりのハッチングで示す領域）に第２のレイヤー８２を露光する。更に、（ｃ）に示すように、基板２０に対して１回のプロキシミティ露光を行うことにより、第１の非表示領域５１内の第１のレイヤー８１上に第３のレイヤー８３を露光し、第２の非表示領域５２内の第２のレイヤー８２上に第４のレイヤー８４を露光すると同時に、表示領域４０にレイヤー９２を露光する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用カラーフィルタ基板や画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いてセルギャップ制御用の固定スペーサを形成するためのフォトマスクを最適化し、工程条件によるバラツキの少ないカラーフィルタ基板とその製造方法、および画素電極基板とその製造方法を提供し、高品質の液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板１１、または画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いて液晶セルギャップ制御用の固定スペーサ５を形成するためのフォトマスク２０であって、固定スペーサのフォトマスクパターンとして、遮光部８の周囲に全透過スリットを含むグレートーン部９を有する。 （もっと読む）

【課題】反応性に富むように光開始剤残基を有すると共に、界面活性機能を備えるように界面活性基を有した界面活性光開始剤を、更に界面活性光開始剤以外の光重合開始剤と併用することにより、開始剤の添加量を少なくしながらも、十分な硬化厚みを得ることができるようなブラックマトリックス用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ現像性バインダー樹脂、（Ｂ）少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、（Ｃ）少なくとも一つの界面活性光開始剤、（Ｄ）少なくとも一つの非界面活性光開始剤、及び（Ｅ）遮光性顔料分散体を必須の成分として含有するブラックマトリックス用感光性樹脂組成物であって、前記界面活性光開始剤（Ｃ）として、
一般式 ＳＡ―Ｚ―ＰＩ （１）
（式中、ＰＩは光開始剤残基を表し、Ｚは２価の連結基を表し、ＳＡは界面活性基を表す）で表される少なくとも一つの界面活性光開始剤を含有するブラックマトリックス用感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】抜取って品質を確認したガラス基板から、次に抜取るガラス基板間では、層膜の除去が不十分なガラス基板が搬出され続けることのないガラス基板再生装置。
【解決手段】１）アルカリ処理槽１、２０−１の酸処理槽寄りに、透過率・反射率測定機１、ＴＨ−１が設けられ、その測定結果が予め設定された閾値範囲１外である際には警報を発しアルカリ処理槽１の処理条件を調整し、２）酸処理槽４０のアルカリ処理槽２寄りに、抵抗値測定機Ｔｅが設けられ、その測定結果が予め設定された許容される閾値範囲２外である際には警報を発し酸処理槽の酸処理条件を調整し、３）アルカリ処理槽２の搬出装置寄りに、透過率・反射率測定機２が設けられ、その測定結果が予め設定された閾値範囲３外である際には警報を発しアルカリ処理槽２の処理条件を調整する。 （もっと読む）

【課題】塗布方法としてスリットダイ塗布法を採用した場合であっても、微小な凹凸からなるムラを発生させることなく、平坦な塗膜を形成することができる着色組成物を提供すること。また、色純度の高い画素を形成する場合であっても、平坦性に優れた画素を形成することができる着色組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、及び（Ｄ）特定のフッ素系界面活性剤を含有し、そして（Ａ）着色剤の含有割合が不揮発分中２０〜７０質量％であることを特徴とする着色組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法によるパターン形成において、線幅やパターン形状の諸性能を向上するように、温度分布を改善する簡単な構造のホットプレート型の基板加熱装置を提供すること。また、上記の基板加熱装置を用いるカラーフィルタの製造方法を提供すること。
【解決手段】処理室を仕切ったホットプレート型の基板加熱装置であって、天板３に補助ヒーター８を設けることを特徴とする基板加熱装置である。本発明の基板加熱装置を用いて感光性レジストのプリベーク工程を行うことにより、カラーフィルタを高品質で製造することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、ディスペンサ方式、インクジェット方式、針式等のカラーフィルタ修正インキの塗布方式において、修正インキを塗布する際に、修正部分以外へあふれることなく塗布可能なカラーフィルタ修正用着色組成物を提供することである。
【解決手段】顔料と、活性エネルギー線硬化性単量体と、熱硬化性メラミン化合物および／またはその部分縮合物の混合物と、シリコン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種の界面活性剤を含有することを特徴とする着色組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタとして用いたときに様々な原因による信頼性の低下を抑制した表示装置用カラーフィルタを製造する。
【解決手段】プラスチックフィルム上に熱処理してなるカラーフィルタ層を有し、前記カラーフィルタ層を形成するよりも先にカラーフィルタ層形成時の熱処理温度以上の温度で、前記プラスチックフィルムを加熱する表示装置用カラーフィルタの製造方法であり、前記プラスチックフィルムをカラーフィルタ層の形成より先に加熱するに際して、前記加熱を少なくともロール巻き出し装置、加熱炉、ロール巻き取り装置を備える熱処理装置を用いて連続的にロール・ツー・ロールで行う。 （もっと読む）

【課題】
カラーフィルタの欠陥部の紫外線硬化性修正用インクによる修正時における正常な部分の紫外線焼けを防ぐとともに、該欠陥部周辺の正常な領域と該修正用インクの重なり部分も安定的に硬化させるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。
【解決手段】
カラーフィルタＷの着色層（Ｒ，Ｇ，Ｂ）またはブラックマトリックス部の欠陥部イに、
ビーム断面が、該欠陥部イを内包する第１の四辺形状に成形されたレーザ光を照射して該欠陥部を除去した後、該除去された部分に紫外線硬化性の修正用インクを塗布し、該塗布された修正用インクに、ビーム断面が前記第１の形状を内包し、且つ、前記塗布された修正用インクの輪郭が内接する以上の大きさの第２の四辺形状の紫外線ビームの紫外線を照射して、修正用インクを硬化させる。 （もっと読む）