【課題】基板上方及び基板下方からの露光を行うことにより、均一な膜厚のレジストを形成して、色再現性に優れたカラーフィルタを得る。
【解決手段】 基板上に複数色のカラーレジストを各色毎に形成する工程Ｓ２，Ｓ４，Ｓ６と、各色毎の前記カラーレジストを露光してパターニングする工程Ｓ３，Ｓ５，Ｓ７とを具備し、前記露光してパターニングする工程は、前記複数色のうちの少なくとも１つの色のカラーレジストについては、前記基板の上方及び下方の両方から露光光を照射する工程Ｓ１１，Ｓ１２を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜かつ矩形断面とし、色再現性を向上させる。
【解決手段】半導体基板上に保護膜を形成する保護膜形成工程、形成された保護膜をドライエッチングにより加工して凹部を形成する凹部形成工程、及び形成された凹部にカラーフィルタ層を形成するフィルタ形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明基板との密着性が良く、かつ白抜けを生じにくい撥液性の光路差調整層を形成することで、反射光用領域の着色層の薄膜化を可能とし、反射光用領域の輝度の向上を可能とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタおよびその製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成された光路差調整層と、上記透明基板および上記光路差調整層を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板と、上記光路差調整層と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基板と、上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタであって、上記光路差調整層が透明性を有する透明層と透明性および撥液性を有する撥液層との二層構造で構成され、上記撥液層が上記透明層の上部表面上に形成されていることを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供することにより上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】液晶用カラーフィルタの製造効率を高め、歩留りを向上させる。
【解決手段】透明基板３にブラックマトリクス１０を形成し、その上に部分的に重なり合うようにマイクロカラーフィルタ１２を形成する。両者がオーバーラップする部分に大きな突起を生じさせず、かつブラックマトリクスの端縁で遮光性が劣化したり膜剥がれが生じないようにブラックマトリクス１０の断面形状を調節する。この調節のために、ポストベーク前の薄膜材料層に適切な奥行き長さをもったアンダーカット部分が形成されるように、プリベーク温度及び、パターン露光後の現像処理の条件を設定する。 （もっと読む）

【課題】液晶用カラーフィルタの製造効率を高め、歩留りを向上させる。
【解決手段】透明基板３にブラックマトリクス１０を形成し、その上に部分的に重なり合うようにマイクロカラーフィルタ１２を形成する。ブラックマトリクス１０の開口端１０ａから膜厚が略均一になる平坦部１０ｂとの間で膜厚を漸増させる。膜厚が漸増する領域の断面形状線が上凸の曲線部分Ｐ１、Ｐ３と、下凸の曲線部分Ｐ２を含む。曲線部分Ｐ１、Ｐ３の双方に接する共通の接線を越えないようにブラックマトリクス１０の膜厚をコントロールする。 （もっと読む）

【課題】反射光用領域の輝度の向上を可能とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供。
【解決手段】透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層と、透明基板および上記透明樹脂層を覆うように形成された着色層と、画素部を画定する遮光部とを有し、上記透明樹脂層と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域とし、上記着色層のみが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層を形成する着色層形成塗工液塗布工程と、上記着色層形成用層を階調マスクを用いて露光する露光工程と、上記着色層形成用層を現像して着色層を形成する現像工程と、上記着色層を加熱するポストベーク工程と、上記ポストベーク工程を経た上記反射光用領域の着色層の表面を研磨する研摩工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ピクセルサイズが小さくなってもパターン周辺の残渣が少なく、色むらが良好な固体撮像素子の色分離用カラーフィルタを形成しうる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重量平均分子量と数平均分子量との比（重量平均分子量／数平均分子量：分散度）が１．１〜１．５であるアルカリ可溶性樹脂と、光重合開始剤と、着色剤と、エチレン性不飽和二重結合を含有する化合物と、溶剤と、を含有する固体撮像素子のカラーフィルタ用硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】フォトスペーサの剥がれ不良を低減し、しかも、パネル組み立て工程でのカラーフィルタとＴＦＴ基板の張り合わせマージンを改善する。
【解決手段】透明基板上にブラックマトリックスと着色画素層と透明導電膜を形成する第１の工程と、前記透明導電膜上にフォトスペーサ形成用のネガ型のフォトレジスト層を形成する第２の工程を有し、次に、前記フォトレジスト層上に近接露光のギャップを隔てて、開口部とハーフトーン部分のパターンを有するフォトマスクを設置し、前記フォトマスクを介して前記フォトレジスト層に露光光を照射する第３の工程を有し、次に、前記フォトレジスト層を現像することにより、前記開口部に対応する中央部分と前記ハーフトーン部分に対応する裾野部分を有するフォトスペーサを形成し、前記裾野部分の高さを前記中央部分の高さの８０％以下にする第４の工程によりカラーフィルタを製造する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの透明電極に１０μｍ以下の配向制御用開口部を形成する。
【解決手段】透明基板上にブラックマトリックスと着色画素層と透明導電膜を形成し前記透明導電膜上にポジ型のフォトレジスト層を形成する第１の工程と、前記フォトレジスト層上に近接露光のギャップを隔てて、遮光領域内に多角形状の開口部を市松模様に複数個配列し、前記開口部の配列の中心部に解像限界以下の微小遮光部を形成して成る透明電極開口部形成用パターンを有するフォトマスクを設置し、前記フォトレジスト層を露光し現像することで前記透明電極開口部形成用パターンによる１０μｍ以下の小径窓を形成したエッチングレジストパターンを形成する第２の工程と、前記エッチングレジストパターンを用いて前記透明導電膜をエッチングすることで配向制御用開口部を有する透明電極を形成する第３の工程でカラーフィルタを製造する。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置で検査されたカラーフィルタ基板の欠陥をカラーフィルタ修正装置にて修正する際、カラーフィルタ基板を精度良く、短時間に位置決めするためのカラーフィルタ基板の位置決め方法を提供することを目的とする。
【解決手段】欠陥検査が終了した修正対象のカラーフィルタ基板２０をステージ１０上に載置し、カラーフィルタ基板２０のアライメントマーク２１位置を計測し、アライメントマーク２１の基準値からのズレ量に応じて、エアーブロー圧を算出し、エアーブロー圧を制御するためのエアーブロー圧制御レギュレーターにその値を設定する。また、クランプシリンダー３０のクランプ圧を算出し、クランプ圧を制御するためのクランプ圧制御レギュレーターにその値に設定する。クランプ圧制御レギュレーターに設定された値でカラーフィルタ基板２０をクランプし、カラーフィルタ基板２０の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、階調マスクの半透明領域および透過領域が隣接している領域で光の干渉による露光不良パターンが生じ難いカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成された半透明膜とを有し、上記透明基板が露出した透過領域および上記透明基板上に上記半透明膜が設けられた半透明領域を有し、上記透過領域および上記半透明領域が隣接するパターンを有し、この階調マスクを用いて露光する際の光強度分布のシミュレーションを行った場合に、上記透過領域および上記半透明領域の境界から５μｍ以内の距離の領域で、上記透過領域から上記半透明領域に向けて光強度が単調に減少し、光強度分布に変曲点をもたないものであることを特徴とする階調マスクを用いることにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】隣接するフィルタ層同士の融着を防止して、カラーフィルタの厚さや各フィルタ層のサイズのばらつき、感度低下、混色、感度比の劣化などの固体撮像素子のデバイス特性低下を防止する。
【解決手段】ランド状のフィルタ層が色毎に異なるパターンで混在配置されてなるカラーフィルタを、色毎に異なる単位カラーフィルタパターンのマスクＧＭ、ＢＭ、ＲＭ、ＷＭを用いて基板Ｐ上にパターニング形成する場合に、第１色目のランド状のフィルタ層Ｇを、それに相当する単位カラーフィルタパターンＧＰのマスクＧＭを用いてパターニング形成した後、第２色目以降のランド状のフィルタ層Ｂ、Ｒを第１色目のフィルタ層Ｇ同士の間に形成する際、第２色目以降の色に対するマスクＢＭ、ＲＭの各マスク開口５形状を、当該色に対する単位カラーフィルタパターンＢＰ、ＲＰの各フィルタ層Ｂ、Ｒのランド形状とは異なる形状にする。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークと着色レジストとのコントラストを高め、アライメントの精度を高める。
【解決手段】カラーフィルタ基板の製造方法は、基板（１０ｍ）の基板面における着色層が形成される有効領域（１１ａ）を除く非有効領域（３１ａ）に、エッチング処理を施すことにより、段差（４０ｓ）を有するアライメントマーク（４０）を形成する工程と、アライメントマークを形成する工程の後に、基板上に着色レジスト（５０ｂ）を塗布する工程と、アライメントマークを光学的に読み取ることで、基板とフォトマスク（２００ｂ）とのアライメントを行った後に、塗布された着色レジストを露光及び現像することにより着色層（５５ｂ）を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】膜厚の異なる着色層を、目的とする高さおよび形状に一括して形成可能な半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に、少なくとも感光性樹脂を含有する着色層形成用組成物を塗布し、着色層形成用層を形成する着色層形成用層形成工程と、上記着色層形成用層に、凸面および凹部がストライプ状に交互に形成されたモールドを圧着させる圧着工程と、上記着色層形成用層を露光する露光工程と、上記モールドを剥離する剥離工程と、上記着色層形成用層を現像する現像工程とを含む着色層形成工程を有し、上記モールドの凸面と圧着されて形成された着色層を上記反射光用着色層、上記モールドの凹部と圧着して形成された着色層を上記透過光用着色層とする。 （もっと読む）

【課題】第二フォトスペーサーが剥離することのないカラーフィルタを、設計面の制約がなく製造する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】〔Ａ〕第一フォトスペーサーＰｓ−１ｅに対応したパターンと、第二フォトスペーサーＰｓ−２ｅに対応した、第一フォトスペーサーのパターンの幅より狭くない幅のパターンの第一マスクＰＭ１１を用い、塗膜への第一露光、及び現像、ポストベークを施し、第一フォトスペーサーと同一の高さの前第二フォトスペーサーＰｓ−２ｅ’を形成し、〔Ｂ〕第二フォトスペーサー対応したパターンの第二マスクＰＭ１２を用い、前第二フォトスペーサーへの第二露光Ｌ２により、第二フォトスペーサーを形成する。第二露光の波長は、１８５ｎｍ及び／又は２５４ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】 基板面内での位相差（リタデーション）の面内分布が均一で、位相差層と透明導電層との付着力が大きいカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上にブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程（ステップｓ１）と、基板上に形成されたブラックマトリクスの開口部に着色画素を形成する着色画素形成工程（ステップｓ２）と、ブラックマトリクスおよび着色画素で構成されるカラーフィルタ層上に配向膜を形成する配向膜形成工程（ステップｓ３）と、配向膜上に光重合性液晶を含んで構成される位相差層を形成する位相差層形成工程（ステップｓ４）と、位相差層を２２０℃以上２４０℃以下の温度で熱処理する熱処理工程（ステップｓ５）と、位相差層上に透明導電層を形成する透明導電層形成工程（ステップｓ６）とを含む。 （もっと読む）

【課題】特定の波長の可視光を吸収可能な偶数且つ４色以上の着色部から構成される透明着色層を備えるカラーフィルタにおいて、上記着色部のいずれからも光漏れが起こることがないカラーフィルタを提供し、またフォトリソグラフィー法を用いるカラーフィルタの製造方法であって、上記着色部のいずれからも光漏れが起こることがないカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ内に備えられる透明着色層において、該透明着色層を構成する４色以上の有色透明な偶数色の着色部の断面外殻が、実質的に一方方向に偏って傾斜していないことを基本的特徴とする （もっと読む）

【課題】低材料コスト及び低製造コストで形成された、３つ以上の高さの異なるパターンを備えるカラーフィルタ及びその製造に用いるフォトマスクを提供すること。
【解決手段】カラーフィルタ基板と、これに対向する基板との間に液晶を封入した液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板であって、透明基板と、この透明基板上に形成された、所定のパターンの遮光層と、この遮光層により区画された領域に二次元的に配置された複数色の画素着色層と、前記遮光層上に三次元的に積層された、前記基板間のギャップを一定に保持するためのセルギャップ調整用スペーサとを具備し、前記スペーサを含む高さの異なる少なくとも３つのパターン状構造体を備え、前記少なくとも３つのパターン状構造体は、同一の材料からなり、同一の露光マスクを用いて一回の露光工程を含むプロセスにより形成されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの額縁部の透明導電膜からの電圧リーク防止用の絶縁膜を透明導電膜上に形成する際に、工数を増やさず絶縁膜を形成するフォトマスク、電圧リーク防止したカラーフィルタの製造方法。
【解決手段】周辺駆動回路６２と対向するカラーフィルタ上の部位に設ける電圧リーク防止用の絶縁膜５７に対応したフォトマスク上にハーフトーン部３２を有すること。透明導電膜５４が形成されたガラス基板５０上に、フォトレジスト塗膜２０を設け、露光・現像によりフォトスペーサーを形成する工程を具備し、前記フォトマスクを用い周辺駆動回路と対向する部位に絶縁膜５７をフォトスペーサーＰｓの高さより低く、フォトスペーサーの形成と同時に形成する。 （もっと読む）

【課題】板状またはフィルム状のカラーフィルタ用のフィルタ基材上にトナー画像を容易かつ高精度に形成する。
【解決手段】カラーフィルタ製造装置では、フィルタ基材９の対象面９１上のブラックマトリクス９１２にプラスの電位を付与して電気的障壁を形成した上で、ブラックマトリクス９１２により仕切られた複数の要素領域のうち非対象要素領域９１１ｂに対向する電荷流放出部３１の放出口３１２のみから選択的にプラスイオンを放出することにより、対象面９１の非対象要素領域９１１ｂのみを容易かつ高精度に帯電させて静電潜像を形成することができる。そして、対象面９１の対象要素領域９１１ａのみに湿式トナー９３を付与して静電潜像を現像することにより、フィルタ基材９上にトナー画像を容易かつ高精度に形成することができる。 （もっと読む）