【課題】貼付必要領域４２のハンドリング性を良好にする。多層フィルム４１が４層以上のフィルムからなり、かつ、密着力の最も弱い界面以外の界面でカバーフィルム３５を剥離する場合でも、貼付必要領域４２でカバーフィルム３５のみを剥離する。
【解決手段】貼付必要領域４２の外側に貼付不要領域４３が形成されているので、貼付不要領域４３を持って貼合までの作業や持ち運びが可能となる。また、貼付必要領域４２の縁４２ａは、複数の第１止め部８１を介して貼付不要領域４３とつながっており、貼付必要領域４２と貼付不要領域４３との間で、カバーフィルム３５の下層のフィルム（感光層およびバリア層）が第１止め部８１を介してつながることになる。これにより、貼付不要領域４３から貼付必要領域４２にまたがってカバーフィルム３５を剥離する場合でも、貼付必要領域４２にてカバーフィルム３５のみを剥離することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】偽造の防止を図る上で有利であり、従来にない視覚効果を有する表示素子およびそれを用いた表示体を提供する。
【解決手段】表示素子１０は、互いに異なる領域に設けられた微細凹凸領域１１と、光吸収領域１２とを含んで構成されている。微細凹凸領域１１は微細凹凸１３から形成されている。光吸収領域１２は、可視光を吸収する機能を有している。微細凹凸領域１１をパターン面の法線方向付近から観察すると黒色のパターンとして認識される。観察者がパターン面の法線に対して角度をつけながら観察していくと、微細凹凸領域１１では光の回折現象に起因する色が観察されるようになる。一方、光吸収領域１２では、観察者の観察角度によらずほぼ同一の色を呈する。 （もっと読む）

【課題】太陽光透過制御素子及び光透過制御部材を提供する。
【解決手段】高分子分散液晶型ホログラフィック回折素子（ＨＰＤＬＣ回折素子）を用いた光透過制御素子であって、ＨＰＤＬＣ回折素子内に含まれる液晶のネマティック−アイソトロピック（ＮＩ）相転移による屈折率異方性と等方性の変化を利用して、特定の温度範囲で光の伝播方向、偏光状態を変えて、それにより光の透過性を制御して調光を行うようにした光回折型の光透過制御素子、及び、当該光透過制御素子を含み、当該光透過制御素子に対して、光の伝播方向あるいは偏光状態により透過率を変える役割を果たす光処理機能部が配置されたことを特徴とする光透過制御部材。
【効果】ＨＰＤＬＣ回折素子内に含まれる液晶のネマティック−アイソトロピック（ＮＩ）相転移を調光原理とする新しい光透過制御素子を提供できる。 （もっと読む）

【課題】薄膜がコーティングされていない積層透明板状体であって、夏には赤外線を遮断でき、冬には赤外線を透過する積層透明板状体の提供。
【解決手段】夏至の太陽の南中高度がθ_Ｓである場所で使用される積層透明板状体７であって、２枚の透明板状体の間に回折格子が形成されたフィルムを挟み込んでおり、その回折格子の格子面と透明板状体の面の垂線とのなす角度φが、２枚の透明板状体１および６の屈折率をｎとして、［ｓｉｎ^−１（ｓｉｎθ_Ｓ／ｎ）＋ｓｉｎ^−１（１／ｎ）］／２以上、［ｓｉｎ^−１（ｓｉｎθ_Ｓ／ｎ）＋９０°＋ｓｉｎ^−１（１／ｎ）］／２以下である積層透明板状体７。 （もっと読む）

【課題】正確な階調表現が可能なフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基板(42)と、この基板に形成された一定ピッチ(P)の複数の溝からなる位相格子と、を備え、この位相格子の各溝の深さ又は幅が露光パターンを担うようにする。そして、このフォトマスクを照射する露光装置の露光光の波長をλ、結像系レンズの入射側開口数をＮＡｉとすると、Ｐ＜λ／ＮＡｉに設定する。それにより、格子が結像されなくなり、位相格子の各溝の深さや幅等で表現された露光パターンが感光材料に転写される。 （もっと読む）

【課題】偽造困難な構造を有し、かつその場で真偽判定が容易な構成を有するゴニオクロマティック素子およびそれを用いた表示体を提供する。
【解決手段】ゴニオクロマティック素子は、透明層１１、誘電体層１２、光学構造体１３、補助層１４を含んで構成されている。光学構造体１３は、光回折機能を有する回折構造や光散乱機能を有する散乱構造などの凹凸構造を有する光学機能パターンが形成されている。誘電体層１２は、光学構造体１３の凹凸面に設けられている。誘電体層１２により、入射光に対して反射光、透過光の特定波長成分を選択的に強くすることができ、任意の色を呈することが可能となる。回折構造・光散乱構造によって上記の特定波長成分が強く、回折もしくは散乱するため、全く独特の見え方を実現することができ、真偽判定の際には容易にかつ確実に目視による判定を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板１１の上面に形成した感光層１２の表面に２本のコヒーレント光を入射させて干渉縞を形成することにより感光層１２に溝パターンを作製する工程を有する回折格子の製造方法において、基板１１内を通過して基板１１の下面で反射した基板内下面反射光によるノイズ干渉縞の発生を防ぐ。
【解決手段】コヒーレント光の一部を感光層１２の手前で分割し、基板１１の下面から基板１１内に入射させる。その際、NDフィルタ２４１、２４２により、下面入射光２９１、２９２と前記基板内下面反射光が基板１１内において同じ強度になるように下面入射光２９１、２９２の強度を調整すると共に、位相可変素子２５１、２５２により、前記基板内下面反射光と下面入射光２９１、２９２の位相が反転するように下面入射光２９１、２９２の位相を調整する。これにより、基板内下面反射光と下面入射光が干渉により打ち消されるため、ノイズ干渉縞の発生を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】通常の照明条件においては凹凸パターンによる画像が認識されず、所定の方向から光を入射することにより画像を表示することができる、偽造防止効果が高く、且つ、人目をひく効果の高い回折格子パターンによるＯＶＤ媒体、およびかかるＯＶＤ媒体を備えるカード状情報媒体を提供すること。
【解決手段】ＯＶＤ媒体２２は、表面に光の干渉および／または回折により画像を表示する凹凸パターンが形成された光透過性の凹凸パターン形成層（１１）と、前記凹凸パターン形成層の、前記画像の観察側に設けられた、光透過率が光反射率または光吸収率より小さい領域を有する光制御層（１４）を備えることを特徴とする。カード状情報媒体は、かかるＯＶＤ媒体を備える。 （もっと読む）

【課題】情報を表すホログラムを記録する光ディスクに対し、簡易な構成で確実にチルトを補正する。
【解決手段】ディスク状の体積型記録媒体内に微小ホログラムを記録する光ディスク１００に対し、チルト検出用微小ホログラムＴＭ１及びＴＭ２をあらかじめ記録しておき、当該チルト検出用微小ホログラムＴＭ１及びＴＭ２からの反射光に基づいてチルトエラー信号を生成して光ディスク１００のチルトを補正することにより、別途チルト検出手段を設けることなくチルトを補正することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板上に投影される像の性能悪化を抑制することができる回折光学素子、露光装置及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板を露光する露光装置の照明光学系に用いられ、照明光学系の瞳面における光強度分布を形成するための回折光学素子において、互いに回折作用が異なる第１回折エレメントおよび第２回折エレメントを有し、第１回折エレメントおよび第２回折エレメントの各々は光が照射される領域において点対称に形成されており、該対称の中心が共通していることを特徴とする回折光学素子。 （もっと読む）

【課題】偏光フィルムを通して潜像を観察する際に、観察角度を変えると複数の異なる潜像が観察されたり、角度毎に観察される色が異なったりといった効果を持たせることで、意匠性および偽造防止効果をさらに高めたセキュリティデバイスを提供することが求められていた。
【解決手段】基材に潜像形成層とＯＶＤ層とを設け、前記潜像形成層に偏光フィルムを通したときにのみ目視で視認可能な潜像を形成し、偏光フィルムを用いて真偽判定を行うＯＶＤ媒体において、前記ＯＶＤ層が凹凸によって形成された格子様パターンからなり、前記格子様パターンの格子角度が少なくとも２種類以上であることを特徴とするセキュリティデバイスを提供する。 （もっと読む）

【課題】視覚効果を高め、偽造防止効果が高く真偽判定も容易な表示体および印刷物を提供する。
【解決手段】回折格子セル１０とパターンセル２０によって図柄が表現された表示体１がカード９０上に形成されている。パターンセル２０は、表示体１上の回折格子セル１０が設けられていない箇所に設けられ、例えば微小な文字パターンを凹凸として形成したものであり、顕微鏡で観察すればこれらの文字パターンが観察でき、肉眼で直視すれば、文字パターンの構成や配置等によって異なる散乱光が観察される。パターンセル２０を構成する２次元パターンの凹凸の深さ、凹凸の密度、２次元パターンの大小の少なくとも１つを、表示すべき画素の輝度、すなわち、表示する画像の輝度に応じて設定することにより、固有の視覚効果を発揮できる。 （もっと読む）

【課題】偽造を一層困難ならしめた情報記録媒体を提供し、併せて、この情報記録媒体から、秘匿情報を確実に解読することのできる読取り装置を提供する。
【解決手段】情報記録媒体１０は、微小な複数の回折格子要素１１が基板表面に配置されてなる。各回折格子要素１１は、規則的に配置された複数の格子Ｋからなる回折格子で構成されている。情報記録媒体１０は、光源３１から照射された照明光３２が回折格子要素１３で回折してなる回折光３３と、光源３１から照射された照明光３４が回折格子要素１４で回折してなる回折光３５が、空間上の所定領域３６に入射するように、回折格子要素１３および回折格子要素１４の格子間隔ｈおよび格子角度θが各々設定されている。情報記録媒体１０は、回折光３３、３５が所定領域３６に入射した場合、所定領域３６における再生情報和が、所定の秘匿情報として現出するようにしている。 （もっと読む）

【課題】クロストーク現象が発生し難い構成、構造を有する光学装置を提供する。
【解決手段】光学装置は、第１、第２及び第３の平行光束群が入射され、内部を全反射により伝播した後、出射される導光板２１、導光板２１に入射された第１、第２及び第３の平行光束群が導光板２１の内部で全反射されるように、導光板２１に入射された第１、第２及び第３の平行光束群を回折反射する、反射型体積ホログラム回折格子から成る第１回折格子部材３０、並びに、導光板２１の内部を全反射により伝播した第１、第２及び第３の平行光束群を回折反射し、導光板２１から第１、第２及び第３の平行光束群を出射する、反射型体積ホログラム回折格子から成る第２回折格子部材４０を備え、第２及び第３の平行光束群を回折反射するための第２及び第３の干渉縞のピッチＰ₂，Ｐ₃は略等しく、第１の平行光束群を回折反射するための第１の干渉縞のピッチＰ₁とは異なる。 （もっと読む）

【課題】 可逆的なホログラフィック記録過程が可能で、簡単な装置構成が可能な書換可能回折格子、ホログラフィックディスプレイ、ホログラフィック画像を形成する方法、及び書換可能回折格子を作成する方法を提供すること。
【解決手段】 書換可能回折格子は第１のナノ微粒子及び第２のナノ微粒子を含む。第１のナノ微粒子は書込みビームに応答して電荷担体を生成する。第２のナノ微粒子は第１のナノ微粒子から電荷担体を受け取ると読取りビームからの光への応答を変化させる。第２のナノ微粒子は第１のナノ微粒子に近接して配置されているため、第１のナノ微粒子によって生成される電荷担体が第２のナノ微粒子と相互作用する。 （もっと読む）

【課題】簡易な装置構成によりスクリーンの大画面化及び装置の薄型化を実現し、クリーン上に歪の無い高画質な映像を表示することが可能な背面投影型映像装置を提供する。
【解決手段】背面投影型映像装置における光学素子は、カップリングレンズ２３と、シリンドリカルレンズ２４と、フォトディテクタ２５と、反射面２６を有するビームスプリッタ２７と、信号演算処理部２８と、光学素子駆動部２９とを備えてスクリーン５上にレーザ光線の焦点を合わせるようにする。 （もっと読む）

【課題】ＯＶＤ層がその表面部分に設けられているのに拘わらず非接触ＩＣカード本来の機能を奏することが可能であると共に、目視で真偽の判定が容易に行われるようにしたＯＶＤ付き非接触ＩＣカードと、また、このＯＶＤ付き非接触ＩＣカードを容易に製造することが可能となるＯＶＤ転写箔の提供を目的とする。
【解決手段】表明部分に少なくともＯＶＤ層が設けられている非接触ＩＣカードであって、ＯＶＤ層は導電性を有していないものであることを特徴とするＯＶＤ付き非接触ＩＣカード。 （もっと読む）

【課題】内部に形成された干渉縞の傾斜角が経時的に変化し難く、しかも、不要な回折反射が発生するといった問題の発生を回避し得る構造、構成を有する回折格子部材を備えた光学装置を提供する。
【解決手段】光学装置は、導光板２１、導光板２１に入射した光を回折反射する、反射型体積ホログラム回折格子から成る第１回折格子部材３０、及び、導光板２１の内部を全反射により伝播した光を回折反射する、反射型体積ホログラム回折格子から成る第２回折格子部材４０を備えており、第２回折格子部材４０は、所望のブラッグ条件を満足する干渉縞が形成された第２回折領域４１、及び、少なくとも、第１回折格子部材に面した第２回折領域の縁部から延在し、所望のブラッグ条件を満足する干渉縞が形成されていない第２非回折領域４２を有する。 （もっと読む）

【課題】ホログラムフィルムの下の印刷部を鮮明に撮像できるようにした画像読取り装置を提供する。
【解決手段】ホログラムフィルムの下の印刷部を観察するにあたって、本発明に係る画像読取り装置では、ライン状の照明手段５，６の前方に配置した第１の偏光板２０と、照明手段５，６とライン型の撮像素子１０との間に配置した第２の偏光板３０とが利用されている。この場合、第１の偏光板２０が、撮像ラインＬに対して略垂直方向に延在する第１の偏光透過軸を有し、第２の偏光板３０が、撮像ラインＬに対して略平行に延在する第２の偏光透過軸を有すると、撮像時にホログラムを消失させることができ、これによって、印刷部の印刷文字や印刷画像パターンなどの確認を確実に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】パルスレーザにおける干渉領域の制限を受けず、被加工物表面に均一なグレーティングを製作することができるレーザ加工方法及び装置を提供する。
【解決手段】レーザ加工において、レーザが格子面に対して垂直に入射するように配置された回折格子と、回折角θで回折された±１次回折光を被加工物の加工面上で交差させるように配置されたミラーと、
回折格子を格子の周期方向に移動させる手段と、被加工物を干渉の周期方向に移動させる手段と、前記各移動手段を制御するための移動制御装置と、を有し、 前記移動制御装置を、Ｖ＝Ｕ×ｓｉｎθ／ｓｉｎθ’を満たすように前記各移動手段を制御する。
但し、θ：±１次の回折光の回折角、θ’：レーザの干渉角、Ｕ：回折格子に入射するレーザの光軸の移動速度、Ｖ：被加工物における表面の±１次の回折光の交差点の移動速度。 （もっと読む）