【課題】小ロット生産に対応でき、かつ生産コストを削減した、光回折層を有する転写箔を提供すること。
【解決手段】基材上に剥離層、光回折層、反射層、接着層を順次積層した転写箔であって、該反射層を、真空製膜法によらず、セルロース誘導体で表面処理した金属蒸着膜細片を含有する高輝度インキを印刷することによって、任意の絵柄形状に形成する。 （もっと読む）

【課題】 画角による色むらや輝度むらを低減する。
【解決手段】 互いに進行方位の異なる平行光束群が入射し、内部を全反射により伝播した後射出するよう構成された導光板２２を備え、この導光板２２は、平行光束群の入射領域にて平行光束群を平行光束群のまま導光板２２内で内部全反射条件を満たすよう回折反射する第１の反射型体積ホログラムグレーティング２３と、平行光束群の射出領域にて平行光束群を平行光束群のまま導光板２２より射出するよう回折反射する第２の反射型体積ホログラムグレーティング２４とを備え、第１及び第２の反射型体積ホログラムグレーティング２３，２４のホログラム表面の干渉縞ピッチは、均一で、少なくとも第２の反射型体積ホログラムグレーティング２４は、干渉縞がホログラム表面となす角が入射主光線に対してブラッグ条件を満たすようホログラム内で連続的、あるいは段階的に変化している。 （もっと読む）

【課題】 製造コストを低減しつつ、任意位置を精度良く選択して可視光波長よりも短いオーダでの微細加工を行う。
【解決手段】 基材(100)上に感光性膜(103)を形成する感光性膜形成工程と、可視光波長よりも短い波長の２本のレーザービーム(B1,B2)を交叉させて干渉光を発生させ、当該干渉光を照射することによって上記感光性膜を露光する第１の露光工程と、上記干渉光による照射対象領域内の所定領域に対して選択的に光照射(B4)を行うことにより、上記感光性膜を更に露光する第２の露光工程と、上記感光性膜を現像し、上記第２の露光工程で露光がなされた上記所定領域の上記感光性膜に上記干渉光のパターンに対応する形状を発現させる現像工程と、を含む、微細構造体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 非表示部において照明光が散乱されるのを低減することができ、コントラスト向上を図ることができる回折型表示装置の提供。
【解決手段】 ファインダ内表示素子９の液晶部材２４には、基板面に沿う方向に交互に配置された屈折率等方性領域層２４１および屈折率異方性領域層２４２から成る表示部３０Ａ〜３０Ｃと、屈折率等方性を有する高分子モノマーと屈折率異方性を有する液晶とが未硬化の状態で混合された非表示部２４Ａとが設けられている。光源１０からの照明光が偏光板１２に入射すると、基板に垂直な直線偏光のみが偏光板１２を透過し、その直線偏光が照明光として基板側面からファインダ内表示素子９に入射する。その結果、非表示部２４Ａにおける照明光の散乱を低減することができ、ファインダ内表示素子９のコントラスト向上および視認性の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】従来技術では、屈折率の異なる透明材料からなる透明薄膜層、誘電体多層膜、あるいは、半透明になる薄い金属反射膜からなる透明反射層に意匠性を付与するために透明なホログラムを積層して使用することになりコストが高く、表示画面が暗くなるという課題があった。
【解決手段】入力端末や通信端末等の表示部に貼付して、表示部に表示された表示情報を覗き見から護るための光回折構造を有する透明ラベルであって、同一ラベル内に回折角度が同一で、ピッチが異なる光回折構造が形成された透明ラベルを提供する。 （もっと読む）

【課題】ホログラム素子を製造する際に、感光性記録材料（液晶、高分子等）の重合反応により周期構造が形成される際の反応の広がりや多重反射による光漏れの問題を改善し、量産における生産性向上を図ることができるホログラム素子を実現する。
【解決手段】本発明は、入射光を透過、反射、回折または散乱させる機能を有するホログラム素子において、一対の基板２２，２３と、該一対の基板間に設けられ隔離領域を形成する隔離部材と、前記隔離領域に封入された記録材料２１を有し、前記記録材料は感光性の材料からなり、記録材料への干渉光の露光により形成された周期構造を有することを特徴とする。また、前記干渉光は、二光束以上の多光束を用いて生成されるか、あるいは原版ホログラムを用いて生成され、記録材料２１は、光重合性を有する高分子や液晶等を含む組成物からなり、該組成物の重合反応と相分離により周期構造が形成される。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、アセンブリ形成時に接合面での接着剤のムラの発生を低減するホログラム素子内蔵レンズ及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】 ホログラム素子が形成された板状の光学基材L100aと、この光学基材L100aが嵌合可能な凹欠部が形成された板状の光学基材L2aと、を含むホログラム素子内蔵レンズ200aにおいて、前記第２光学基材における前記凹欠部の内底面の稜角部に対応する前記第１光学基材の角部が当該第１光学基材の厚み方向において一方から他方に向かって徐々に拡開するテーパー面で形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 構成の簡易化を図ることが可能な液晶表示装置を提供する
【解決手段】 液晶表示装置は、ｎ種類（ｎは２以上の自然数）の色成分の光を発生する光源５０と、入射された各色成分の光がそれぞれ伝搬するｎ個のスラブ導波路を積み重ねて含むホログラム５１と、ｎ個の画素を１組として組を１個以上含む液晶表示素子８とを備え、組における各画素は各色成分に１対１で対応し、各スラブ導波路には、伝搬する光を散乱して各色成分の光をそれぞれ回折し、かつ、回折された各色成分の光を、各色成分がそれぞれ対応する画素において集光させるホログラムパターンが形成される。 （もっと読む）

【課題】 安定して所望の鋸歯波パターンを製作することができるホログラフィックグレーティング製造方法を提供する。
【解決手段】 第１工程で、（ａ）基板２にフォトレジスト膜１を塗布し、（ｂ）ホログラフィック露光装置を用いて正弦半波状のフォトレジスト１ａのパターンを基板２上に形成し、第２工程で、（ｃ）ＣＦ_４ガスによるイオンビームを垂直に照射し、（ｄ）フォトレジスト１ａを完全に消失するまで基板２を刻線し、正弦半波状のパターンを形成する。そして、第３工程で、（ｅ）斜めからＡｒイオンビームを照射し、（ｆ）基板２をエッチングして、（ｇ）所望の鋸歯状波に刻線し、（ｈ）反射膜としてＡｌ膜３を基板２に真空蒸着でコーティングする。 （もっと読む）

【課題】均一な面状発光性と光利用効率に優れた導光板を提供する。
【解決手段】 反射面１３は、導光板１０の横方向に形成された複数の第１光学溝１４を有するとともに、入射面１１から所定距離にわたって導光板１０の縦方向に形成された複数の第２光学溝１５を有し、出射面１２は、ホログラムによる異方性拡散パターンを有する。 （もっと読む）

【課題】 理想的な結像特性と理想的な効率特性を兼ね備えた、基板の面形状に依存しない回折光学素子を提供する。
【解決手段】 楕円面群からなる近似面形状において、原理上は基板の面形状という概念は存在しないが、製造上は近似した面形状を持った基板に加工を施す。入射点Ｓ１から入射した光束は各楕円面を経由し、出射点Ｓ２に至る。各回転楕円面の任意の場所におけるインクリネーションファクタが同一であると、入射点Ｓ１から各楕円面に張る各光束の立体角が同一であれば、各光束の出射点Ｓ２における振幅は同一となる。８個の回転楕円面１〜８を経由した光束の出射点Ｓ２における振幅を複素表記すると、位相が合っている場合には振幅が強めあい、波長が異なって位相がずれる場合には振幅が弱めあう。強度は振幅の２乗であるため、位相が合う波長では強度は極めて高く、位相のずれる波長では強度は小さくなり、分散素子としての機能が高い。 （もっと読む）

【課題】高屈折率の誘電体皮膜と基板系に結合及び解離格子を製造する安価で大量生産に適した方法を提供する。
【解決手段】基板上の高屈折率の誘電皮膜に光を結合及び解離するための回折格子構造を製造する方法において、高屈折率の誘電皮膜及び／又は基板に、同時空間的に周期的に強度変調した紫外レーザー光を照射し、しかも強度変調の周期を所望の格子周期に対応して選択する。好ましくは、前記強度変調を少なくとも互いに干渉する２つの紫外レーザー光か、好ましくはマスク構造によって行い、前記紫外レーザー光を１つ以上のエキシマーレーザーによって形成し、紫外レーザー光を所定時間内に、好ましくは１μｓ以下パルス時間で１回以上発振し、高屈折率の皮膜及び／又は少なくとも基板の表面区域の屈折率をレーザー光によって空間的に変調する。 （もっと読む）

【課題】 光回折構造が所望の色に着色しているように見えるという、より効果的な視覚的効果を奏する画像表示体を提供する。
【解決手段】 基材１０上の着色領域２０に、網点状の光回折構造で構成される光回折構造部２１が設けられた画像表示体１であって、光回折構造部を構成する網点２１ａの着色領域２０に対する網点面積率は１５％〜６０％であり、各網点２１ａは、その面積が０．２５ｍｍ^２未満で誤差拡散法によって拡散されて設けられている。 （もっと読む）

【課題】高コスト化を招くことなく、ピッチが短く、高い回折効率を有する回折光学素子を得る。
【解決手段】光学的異方性を示す領域と光学的等方性を示す領域の周期構造を有する回折光学素子を多光束干渉光を用いて製造する際に、非重合性液晶と重合性モノマーと光重合開始剤とを混合し、光学的異方性を示す領域の異常光屈折率と光学的等方性を示す領域の屈折率との差が略最大値となる温度で混合物に多光束干渉光を照射する。これにより、高コスト化を招くことなく、ピッチが短く、回折効率が高い回折光学素子を得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、ａ）１種以上の放射線感受性成分を含む第１のコーティング組成物で基板を被覆すること、ｄ）周期的なまたはランダムな放射強度パターンを有する電磁放射で被覆基板を局所的に処理して、潜像を形成すること、ｅ）得られた被覆基板を第１のコーティング膜に重合および／または架橋することによる高分子の凹凸構造の作成方法に関する。この方法は、第１のコーティング組成物の上部に第２のコーティング組成物を被着することによって改良される。前記第２のコーティング組成物は、単量体性質の有機化合物（Ｃ_ｏ）を含み、プロセス中Ｃ_ｏも重合されるか、または前記第２のコーティング組成物は溶解ポリマー（Ｃ_ｐ）を含むかのいずれかである。その結果、機能性の積層された二層で基板が被覆され、その各層が特定の、かつ互いに異なる機能を呈する、高分子の凹凸構造が得られる。 （もっと読む）

ディクソン格子、及び少なくとも１つの他の体積位相格子（ＶＰＧ）を含む、複数のホログラフィック光学素子（ＨＯＥ）を有する回折格子。典型的な実施例では、このマルチＨＯＥ格子は、広い波長範囲にわたり、全ての偏光に関して、少なくとも実質的に一様な回折効率、且つ少なくとも実質的に同等の回折効率で大きな分散を実現するように実現される。ディクソン格子の体積位相媒質の屈折率変調は、好ましくは、マルチＨＯＥ格子の他のＶＰＧそれぞれの空間周波数よりもかなりより大きい空間周波数を有する。マルチＨＯＥ格子の典型的な実施例は、高密度波長分割多重（ＤＷＤＭ）用途、及び大きな分散を必要とする他の用途で有用となるように、十分に小型サイズ、且つ（Ｓ偏光及びＰ偏光放射の両方で）大きな分散で、低コストで製造することができる。このマルチＨＯＥ格子は、透過型、又は反射型格子として実施できる。
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【課題】複数の領域に分割された回折格子部の作製時に領域ずれを低減し、領域間の隙間や重なりを低減することにより、光利用効率の高い回折光学素子を実現する。
【解決手段】本発明に係る回折光学素子では、回折格子部は格子ベクトルの大きさが異なる少なくとも３つ以上の領域６１，６２ａ，６３ａに分割され、かつ、全ての領域の格子ベクトルが平行である。また、本発明の回折光学素子では、回折格子部の格子ベクトルの大きさが異なる少なくとも３つ以上の領域６１，６２ａ，６３ａは、光干渉露光、もしくは、マスター回折光学素子を用いた複製露光により作製されるため、微細ピッチの周期構造を作製でき、かつ、少なくとも３つ以上の領域の格子ベクトルが平行となるように形成しているため、未完全な格子領域を少なくすることができ、高信頼性でかつ高光利用効率の回折光学素子を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】異なるタイプのディスクの再生が可能であり、しかも光学部品の点数が少なく、構造が簡単で小型化を図ることができる光ピックアップ装置を提供すること。
【解決手段】ＯＰＵヘッド１１は、光源１１１と、記録媒体Ｍに対応した回折状態を示すスイッチングホログラム（ＳＨ）ユニット１１２と、ＳＨユニット１１２で回折した光を記録媒体Ｍ側に向けるミラー１１３と、ミラー１１３で反射した光（ＳＨ素子で回折された光）に位相差を与えて円偏光にするλ／４板１１４と、得られた円偏光を記録媒体Ｍに集光させる対物レンズ１１５と、記録媒体Ｍで反射した光を光検出器１３に集光させる集光レンズ１１６とを有する。 （もっと読む）

【課題】一方の偏光（例えばＰ偏光）でのみ回折する回折格子を二光束干渉露光で作製する場合にも、モニター露光を行うことができる構成の干渉露光装置を実現する。
【解決手段】本発明では、可干渉性を有する第１の光源１１ａからの出射光を複数の光束に分岐し、記録材料１６に対して前記複数の光束を所定の方位、所定の入射角で照射することによって干渉縞を発生させ、該干渉縞で記録材料１６を露光することにより所望の回折格子を作製する干渉露光装置において、第１の光源１１ａと同等の発振波長を有する第２の光源１１ｂからの光束の偏光振動面を第１の光源１１ａの光束の偏光振動面と直交させ、記録材料１６に照射して回折された光強度を受光素子１７でモニターし、所定の光強度が得られたとき、または、所定の光強度を超えた時に第１の光源１１ａからの光を遮断させる光モニター制御部１８を備えた構成とする。 （もっと読む）

【課題】 比較的容易かつ安価に製造することができるホログラム素子およびその製造方法ならびにホログラム素子を備えるホログラムレーザユニットを提供する。
【解決手段】 基板３１の厚み方向一表面部には、ホログラムパターン３３が形成される。ホログラムパターン３３は、入射光を予め定める方向、具体的には受光素子の方向へ回折させる。基板３１の厚み方向一表面部のうち、ホログラムパターン３３の領域を除く部分には、ホログラムパターン３３の領域に応じた透過率を調整する液晶パネル８０が設けられる。基板３１の厚み方向一表面部に設けられる液晶パネル８０に印加される電圧が制御されることによって、ホログラムパターン３３の領域に応じた透過率を調整することができる。 （もっと読む）