【課題】撮像素子に組み込まれた位相差検出用の光電変換セルを用いた焦点検出の実行可能性を向上させることが可能な技術を提供する。
【解決手段】撮像素子は、位相差検出用の測距信号を出力する光電変換セル１１ａの群を備え、光電変換セル１１ａは、測距信号を生成する受光素子ＰＤと、被写体光を出射する撮影光学系の射出瞳において、受光素子ＰＤへの到達光を出射した瞳領域の大きさを射出瞳全域の半分より小さいサイズに制限する瞳制限手段とを有している。 （もっと読む）

【課題】焦点検出機能を装備した撮像素子において、瞳分割に関して所定方向とは反対の方向からの被写体光が受光素子に受光されることを抑制することが可能な技術を提供する。
【解決手段】撮像素子は、互いに異なる第１方向および第２方向に被写体光を瞳分割して測距信号を出力する一対の光電変換セルを含み、一対の光電変換セルそれぞれは、受光素子ＰＤと、第１透光領域ＯＰ１を有し受光素子の上方に配置された第１遮光層ＡＳ１と、第２透光領域ＯＰ２を有し受光素子ＰＤと第１遮光層ＡＳ１との間に配置された第２遮光層ＡＳ２とを備え、一対の光電変換セルは、第１透光領域ＯＰ１が第１遮光層ＡＳ１において第１方向に偏り第２透光領域ＯＰ１が第２遮光層ＡＳ２において第２方向に偏っている第１光電変換セル１１ａと、第１透光領域ＯＰ１および第２透光領域ＯＰ２がそれぞれ第１光電変換セル１１ａとは逆方向に偏っている第２光電変換セル１１ｂとからなる。 （もっと読む）

【課題】 例えば、頻繁なオフライン較正を必要としない、および／またはより高速のサーボ応答を実現することができる光焦点または位置センサを提供することである。
【解決手段】 スキャトロメータは、測定されるターゲットが正しい焦点面にあるかどうかを検出するように構成された焦点センサを備える。焦点センサで測定されるようなデフォーカスがある特定の関数に従って変化するように焦点センサまたはスキャトロメータの部品に変調が加えられる。変調についての情報から、センサの利得を計算することができる。 （もっと読む）

【課題】マルチポイント・タイムラプス観察を行う場合における、焦点面の検出処理にかかる時間を短縮させる技術を提供する。
【解決手段】本発明は、オートフォーカス制御機構と、オフセットレンズ制御機構と、観察対象の試料が載せられるステージの変位を制御するステージ制御機構と、撮影機構と、を備える顕微鏡装置に、マルチポイント・タイムラプス撮影を行わせる情報処理装置を、通信接続した撮影システムである。顕微鏡装置は、ステージを、記憶部に記憶されている位置情報で特定される位置に、マルチポイント・タイムラプス撮影のスケジュールに従って移動させる。そのステージを移動するタイミングに先立って、オートフォーカス制御機構、及び、オフセットレンズ制御機構、の制御を停止させ、ステージの移動が完了した時点で、それら機構の制御を再開させる。さらに、制御を停止させた時点のステージの位置情報を、記憶部に上書きする。 （もっと読む）

【課題】ピント位置ずれが防止できるカメラを提供する。
【解決手段】複数の交換レンズ２００を選択的に装着可能なカメラ１において、カメラの複数の撮影状態のそれぞれに応じて決まる交換レンズの複数の特性値を、交換レンズを識別する情報と関連付けて記憶する記憶手段１１６を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、２種類の焦点検出方式を有効利用しながらも所要時間の短い焦点調節装置を提供することを目的とする。また、高性能な顕微鏡装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の焦点調節装置は、対物レンズ（３）の焦点と物体（２）との光軸方向のズレを示すデフォーカス信号を、検出範囲が広く検出精度の低い第１の方式と検出範囲が狭く検出精度の高い第２の方式との２種類の方式により並行又は時分割で生成する焦点検出手段（７〜１４，１６〜２２）と、前記第２の方式で生成される第２デフォーカス信号の良否を示す評価値を監視し、その評価値が所定レベルを下回るときには、前記第１の方式で生成される第１デフォーカス信号に基づき前記対物レンズと前記物体との間隔調節を行い、前記評価値が前記所定レベルを上回るときには、前記第２デフォーカス信号に基づき前記間隔調節を行う調節手段（２３，２４，２５，２６）とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】セッティングが容易で簡易に焦点位置の調整に要する時間を短縮する。
【解決手段】本発明のレーザ加工装置１は、投光手段１１からの測定光Ｌ１を集光して対象物Ｗに照射し、対象物Ｗからの反射光を集光させる対物レンズ１５を有する集光手段と、反射光の一部を通過させた分岐光Ｓ１を入射し測定光Ｌ１の焦点位置に応じた受光量Ｄ１を受けると共に、測定光Ｌ１の焦点が対象物Ｗ表面に位置するときに受光量Ｄ１が最大となる第１受光手段１８と、反射光の一部を反射させた分岐光Ｓ２を入射して測定光Ｌ１の焦点位置に応じた受光量Ｄ２を受けると共に、受光量Ｄ１が最大となる焦点位置とは異なる焦点位置で受光量Ｄ２が最大となる第２受光手段１９と、受光量Ｄ２の変化に基づいて決定された移動方向に測定光Ｌ１の焦点を移動させつつ焦点位置の変化と受光量Ｄ１の変化とに基づいて受光量Ｄ１が最大となるように制御する制御手段４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＡＦモジュールの位置を入射光軸に直交する面内で微調整できるようにする。
【解決手段】撮影レンズを介した光の一部を分岐させるサブミラーと、該サブミラーにより導かれる光が入射されるＡＦモジュールＡＦＭと、ＡＦモジュールＡＦＭに入射される光の入射方向に対して直交するＸ軸方向におけるＡＦモジュールＡＦＭの位置を調整する位置調整手段１００ａ，１００ｂ，１１６ａ，１１６ｂ，１１９，１２３とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】透光性被検体の所望の面に容易に焦点合わせが行える焦点検出装置を提供する。
【解決手段】焦点検出装置は、対物レンズ２１と、合焦判断のために透光パターンからなる二つの指標像を被検体Ｓに異なる方向から投影する指標投影光学系４０と、被検体Ｓからの反射光を検出する光検出光学系５０とを有している。指標投影光学系４０は光源４１と開口部４２とレンズ４３と光路分割プリズム４５と指標４６とハーフミラー４７とを含み、開口部４２は対物レンズ２１の射出瞳と共役な位置に配置され、光路分割プリズム４５は合焦状態の被検体Ｓと共役な位置に配置されている。光検出光学系５０はハーフミラー５１と一対の光検出器５２ａ，５２ｂとを含み、光検出器５２ａ，５２ｂは合焦状態の被検体Ｓと共役な位置に配置されている。焦点検出装置はさらに、光検出器５２ａ，５２ｂの出力を判定する判定部６１と、その判定結果を出力する出力機器６２とを有している。 （もっと読む）

【課題】焦点検出において用いられる光の波長領域に合致した補助光を被写体に照射し、正確な焦点検出を行う。
【解決手段】撮像装置１００は、第１及び第２の波長領域の光を受けて撮像光学系の焦点状態を検出する第１の焦点検出手段８と、第２の波長領域の光を受けて撮像光学系の焦点状態を検出する第２の焦点検出手段１４と、第１及び第２の焦点検出手段のうち検出動作を行う焦点検出手段による焦点状態の検出が不能な場合に、被写体に対して補助光を照射する発光手段４０９，４０１を発光させる発光制御手段５０とを有する。発光制御手段は、第１の焦点検出手段により焦点状態の検出が不能な場合には発光手段に第１の波長領域の補助光を発光させ、第２の焦点検出手段により焦点状態の検出が不能な場合には発光手段に第１の波長領域の補助光を発光させずに第２の波長領域の補助光を発光させる。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ確実に焦点を調整することができる光学顕微鏡、焦点位置調整方法、及びそれを用いたパターン基板の製造方法を提供する。
【解決手段】。
本実施の形態にかかる光学顕微鏡は、光源１１と、光軸３８からずれて配置された第１遮光部３１と、光軸３８までの距離よりが短くなるように配置された第２遮光部３２と、第１遮光部３１を試料面よりも前側に結像するとともに、第２遮光部３２を試料面よりも後側に結像する照明光学系２０と、第１遮光部３１に対応する領域から対物レンズ１７を介して入射した光を受光する周辺部用焦点位置センサ２５と、第２遮光部３２に対応する領域から対物レンズ１７を介して入射した光を受光する中心部用焦点位置センサ２４と、第１検出像と第２検出像とのコントラストに応じて、焦点位置を調整するものである。 （もっと読む）

【課題】短波長の光に応じた焦点深度に対しても短時間で確実に焦点合わせをすることができること。
【解決手段】自動合焦装置１０１は、標本１と対物レンズ３との相対距離を変化させる焦準機構９と、対物レンズ３に対する標本１のデフォーカス量に応じた信号強度を有する合焦判別信号としてのＡＦ信号を生成するＡＦユニット８および制御ユニット１０と、ＡＦ信号の信号強度に応じ、焦準機構９による相対距離の可変速度としてのＺステージ速度を変化させる制御ユニット１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来法では計測が困難であった裏面反射が生じる計測対象についても高い精度で位置判定が可能な位置判定装置を得ることを課題とするものである。
【解決手段】計測対象物表面に対向する対物レンズと、該対物レンズを通して照明光を前記所定位置に集光する照明装置と、該対物レンズ光軸と光学的に等価な軸上に設置され計測対象物によって反射しさらに対物レンズを照明光とは逆方向に透過したビームを集光する集光レンズと、該集光レンズの後焦点面上において光軸上もしくは光軸直近を通る直線を境界として後焦平面の半分を遮蔽する遮光板と、該遮光板の光進行方向に置かれかつ到達した光の強度の分布から強度中心位置を算出する光検出器とを備えた位置判定装置において、前記対物レンズと前記遮光板の中間の光軸上の少なくとも1箇所に光軸を略対称軸とする領域を通り前記光検出器に至るビームの中央部を遮蔽する中間遮光板を配置する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の焦点ずれを高精度に検出することにより高精度な露光を行うことができる走査型露光装置を提供する。
【解決手段】第１照明領域Ｉ１、Ｉ３、Ｉ５の第１パターンの像を形成する第１投影光学系ＰＬ１、ＰＬ３、ＰＬ５と、第２照明領域Ｉ２、Ｉ４の第２パターンの像を形成する第２投影光学系とを備える走査型露光装置において、重複露光領域の形成に寄与する前記第１投影光学系の像視野内の重複領域に対応する前記第１照明領域内の部分領域またはその近傍の第１検出位置における前記第１パターンに対する前記第１投影光学系の焦点ずれ、および前記重複露光領域を形成に寄与する前記第２投影光学系の像視野内の重複領域に対応する前記第２照明領域内の部分領域またはその近傍の第２検出位置における前記第２パターンに対する前記第２投影光学系の焦点ずれ検出する検出装置を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構で構成される測距装置を提供する。
【解決手段】測距装置１は、等間隔に並ぶ複数の透孔を有する遮光板１０と、透孔からの被検出体Ａ１の像を結像する画像センサ２０と、画像センサ２０からの出力信号に基づいて自己相関値を算出し、自己相関値のピーク間隔と遮光板１０から被検出体Ａ１までの距離とが関連付けられた距離算出テーブルに基づいて、遮光板１０から被検出体Ａ１までの距離を算出する制御部３０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】引き込み範囲が広く、かつ合焦精度の高い顕微鏡用焦点検出装置と、これを有する顕微鏡をを提供すること。
【解決手段】対物レンズ３を介して標本１に焦点検出のための単一のスリットにより形成されたパターンを投影する第１投影光学系２０と、前記対物レンズを介して前記標本に焦点検出のための複数のスリットにより形成されたパターンを投影する第２投影光学系３０と、前記標本に投影された前記単一のスリットにより形成されたパターン及び前記複数のスリットにより形成されたパターンを、前記対物レンズを介した前記標本の共役面に結像する結像光学系４１と、前記共役面と撮像面が一致するように配置された撮像手段４０と、前記撮像装置からの信号に基き、前記第１投影光学系または前記第２投影光学系を選択して焦点検出する顕微鏡用焦点検出装置２００。 （もっと読む）

【課題】ユーザが観察したいフォーカス位置を決めるだけでその着目点へのリアルタイム追従ＡＦを可能とする自動焦点検出装置を提供する。
【解決手段】自動焦点検出装置は、顕微鏡のステージと対物レンズ間の相対的位置を制御する駆動手段と、対物レンズを介して試料に対して投光する投光手段と、投光手段からの投光が前記試料で反射されて対物レンズを通過し、対物レンズを介して該反射された光像を検出する検出手段と、投光手段から検出手段までの光路内に配置され、検出手段に投影される光像の状態を変化させる投影状態変更手段と、検出手段の検出結果から前記試料の合焦状態を判定する合焦状態判定手段と、駆動手段の制御により前記ステージと前記対物レンズとが所定の位置で保持させられた状態で、合焦状態判定手段により合焦と判定されるように投影状態変更手段の位置を調整する合焦状態調整手段と、を備えることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】積層型半導体装置を製造するためには所定の回路が形成されたウェハを何層も積層する。この積層に際しては積層すべきウェハ間の位置あわせの為に、アライメントマークの位置を高精度に検出することが重要であり、製造の歩留まりに対して重要な要素となる。特に、既に積層されて層構造を形成するウェハ積層体に次のウェハを積層する場合にはアライメントマークの検出はウェハを通して行う必要が生じ、高精度に、迅速にマークを検出することが困難である。
【解決手段】マークを検出する顕微鏡にアクティブ方式ＡＦ光学系とパッシブ方式ＡＦ光学系の両方式のＡＦ光学系を取りつけ、マーク形成面の反対面の位置をアクティブ方式ＡＦ光学系により検出し、その結果を用いてマーク形成面をパッシブ方式ＡＦ光学系の動作範囲に移動させる。この時、パッシブ方式ＡＦ光学系には赤外線を用いる。これにより、迅速で、高精度にマーク検出が可能になり、貼り合わせの位置精度が確保される。
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【課題】コンパクトな構成で簡易な動作により時系列瞳分割方式の焦点検出を可能とする光学機器を提供する。
【解決手段】光学機器は、開口３１ａが形成された遮光部材３１と、焦点検出に用いられる光束が通過する第１の開口及び該第１の開口に対して光軸に直交する方向において位置が異なる第２の開口が形成されるように遮光部材を移動させる駆動手段とを有する。第１及び第２の開口は、光軸位置ＡＸＬを含んだ互いに共通の領域Ｓを含む。 （もっと読む）

【課題】焦点調整を行った後の蛍光検出時に焦点のずれが生じることを抑え、精度良く蛍光検出を行う。
【解決手段】蛍光検出装置が、投影光学系２９と、焦点検出光学系３４と蛍光検出光学系３３を有する。投影光学系２９は、レーザー光源１ａからのレーザー光を集光してＤＮＡアレイ３１に照射する。焦点検出光学系３４は、レーザー光がＤＮＡアレイ３１の焦点合わせ位置に照射された際に生じる反射光を、光電変換器であるＰＭＴ１１に導く。蛍光検出光学系３３は、レーザー光がＤＮＡアレイ３１のＤＮＡプローブ３１ａに照射された際に、ＤＮＡプローブに捕捉された蛍光物質から発せられた蛍光をＰＭＴ１１に導く。蛍光検出光学系３３と焦点検出光学系３４は、いずれか一方が穴明きミラー３とＰＭＴ１１の間に選択的に位置するように切り替え可能であり、焦点検出光学系３４は蛍光検出光学系３３よりも浅い焦点深度を有する。 （もっと読む）