Ｈｉｂｅｒｔ位相差顕微鏡（ＨＰＭ）は、透光性物体に関連した位相画像の高解像度横断測定用の光学技術である。その一回の撮影によりＨＰＭは生物細胞のような透光性構造内で生じる高速現象を調査するのに適している。好ましい実施例が血液細胞の測定を含む生物系の測定に用いられる。その一方で、ミリ秒の規模で動的プロセスを定量化する能力が、例えば、ミクロン・サイズの水滴の蒸発を測定するのに用いられる。
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【課題】対象物の干渉計測定を実行するための干渉計システムを提供する。
【手段】入力ビームを発生させる光源アセンブリと、検出器要素を含む検出器アセンブリと、干渉計であって、前記対象物上のまたは前記対象物内のスポット上へ前記入力ビームを結像する光源結像システム、および前記検出器要素上へ干渉ビームとして前記スポットを結像する対象物結像システムを含み、前記対象物結像システムは参照ビームと前記スポットから来る光を結合させて前記干渉ビームを発生することを特徴とする干渉計システム。
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対象物の干渉計測を実行するための共焦点干渉計システムにおいて、ピンホールアレイであって、光源ビームを受光するように配置され、ピンホールアレイの各ピンホールにおいて、光源ビームを、ピンホールアレイの一側において対応する参照ビームに、ピンホールアレイの他側において対応する測定ビームに分離するピンホールアレイ；と、第1結像システムであって、ピンホールアレイを、対象物上の、または対象物中のスポットアレイに対して結像するように配置され、配置は、ピンホールアレイの各ピンホールにおいて、対応測定ビームが、スポットアレイの別の対応スポットに向けられ、そのスポットにおいて、対応帰還測定ビームを生成するように行われ、前記第1結像システムはまた、スポットアレイの像をピンホールアレイに結像するように配置され、配置は、スポットアレイの各スポットからの対応帰還測定ビームが、ピンホールアレイの別の対応ピンホールに戻るように行われ、各ピンホールにおいて、ピンホールアレイは、そのピンホールにおける帰還測定ビームと参照ビームとを結合させ、対応する結合ビームを生成する第1結像システム；および、検出集合体であって、ピンホールアレイと軸揃えされた検出要素アレイを含み、軸揃えは、各ピンホールにおいて、対応結合ビームを、検出要素アレイの別の対応検出要素に向けるように行われる検出集合体、と、を含む共焦点干渉計システム。
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視野の共役直角位相のアレイが、各共役直角位相が基板中または上の一対のスポットにより散乱／反射されたビームの視野の共役直角位相の差を含む共焦点干渉計および検出器システムにより干渉により測定される。共役直角位相のアレイは共に、即ち、同時に測定され、各共役直角位相の成分が同時測定される。一般に、各対のスポットは基板表面の名目上の接線方向にスポットの寸法の３倍またはそれ以上の程度の相対変位を有する。次に基板中または上の一対のスポットにより散乱／反射または透過されたビームの視野の共役直角位相が単一システムパラメータの制御による組として調整され、その結果、共役直角位相のアレイの共役直角位相が名目上ゼロになる、即ち、暗視野モードで動作する干渉計および検出器システムで基板に関する情報が得られる。暗視野モードでの動作により情報の低減された系統誤差および統計誤差、および向上したスループットがともにもたらされる。情報は基板の１つまたは多数の表面のプロファイルの横方向微分、基板６０の一次元、二次元および三次元横方向微分画像、基板中または上の形状または人工物の臨界寸法、および基板中または上のサブ波長欠陥の寸法および場所を含む。
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【課題】生体組織や生体細胞等の試料の光断層画像と蛍光断層画像とを同時に取得する。
【解決手段】光源ユニット２が蛍光色素を励起する低コヒーレンス光からなるレーザ光を射出し、このレーザ光Ｌを光分割手段３が測定光Ｌ１と参照光Ｌ２とに分割する。周波数変調手段６が参照光Ｌ２と反射光Ｌ３との間に僅かな周波数差を与えた後、合波手段５が反射光Ｌ３と参照光Ｌ２とを合波する。干渉光検出手段７が反射光Ｌ３と参照光Ｌ２とが合波されたときの干渉光Ｌ５を検出するとともに、蛍光検出手段８が試料Ｓの蛍光色素が励起されることにより射出された蛍光Ｌ４を検出する。そして、画像生成手段９が干渉光検出手段７により検出された干渉光Ｌ５から試料の光断層画像を生成するとともに、蛍光検出手段８により検出された蛍光Ｌ４から試料Ｓの蛍光断層画像を生成する。 （もっと読む）

【課題】 コンパクト化を図ることが可能な光学顕微鏡装置及びその光学顕微鏡装置を利用した顕微鏡観察方法を提供する。
【解決手段】光学顕微鏡装置１は、被検査物５を載置するための被検査物載置台３と、被検査物５に照射する照明光を出力する照明手段７と、被検査物載置台３に対して照明手段７と同じ側に設けられており、照明手段７から出力された照明光を被検査物５へ向かって反射させると共に、被検査物５から反射された光を通過させる反射手段１５と、その反射手段１５と被検査物載置台３との間に設けられる対物レンズ１７とを備える。そして、照明手段７から出力され反射手段１５によって反射した照明光は、対物レンズ１７を通過した後に被検査物５に照射され、被検査物から反射された光は、対物レンズ１７と被検査物５との間の空間上の一点１９に収束した後に対物レンズ１７に入射する。 （もっと読む）

対象物の干渉計測定を実行する干渉計システムにおいて、動作時、第1周波数を持つ第1ビームと、前記第1周波数と異なる第2周波数を持つ第2ビームを発射し、出力ビーム内の前記第1および第2ビームは共存し、前記ビーム生成モジュールは、動作時、第1および第2ビームそれぞれの選択されたパラメータにおいて異なるシフトの配列を導入するビーム調整器を含み、前記選択されたパラメータは、位相と周波数から成るグループから選ばれることを特徴とするビーム生成モジュール、と、検出要素を有する検出器アッセンブリ、および、出力ビームを受光するように構築される干渉計において、少なくともその一部は、第1周波数を持つ第1測定ビームと第2周波数を持つ第2測定ビームを表し、さらに、第1および第2両測定ビームを対象物上の選択されたスポットに結像するように構築され、それらのビームから対応する第1および第2帰還測定ビームを生成し、次に、第1および第2帰還測定ビームを前記検出要素に対して同時に結像することを特徴とする干渉計、と、を含む干渉計システム。
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ある媒体中にある対象物で、前記対象物と前記媒体の屈折率の間にミスマッチのある対象物内部の複数位置の干渉測定を実施するための干渉型顕微鏡であって、入力ビームを生成する光源；入力ビームを受光し、それから測定ビームを生成し、その測定ビームを、対象物中の選択されたスポットに結像し、前記選択されたスポットについて帰還測定ビームを生成し、前記帰還測定ビームと参照ビームを結合させて干渉ビームを生成するように構成される干渉計；および、干渉ビームを受光するように配置置される検出システムを含み、前記帰還測定ビームは、対象物から検出システムに至る経路に沿って移動し、前記干渉計は、帰還測定ビームの経路に配置置された物質から成る補償層を含み、前記補償層は、帰還測定ビームの経路にそって、前記対象物と前記媒体の間の屈折率ミスマッチを補償する屈折率ミスマッチを生成することを特徴とする、前記干渉型顕微鏡。
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基板におけるトレンチまたはバイアの特徴を測定するために、測定ビームを生成する干渉共焦点顕微鏡を使用する方法であって、この方法は、トレンチまたはバイア内で一つ以上の被挟導波モードを励起するためにトレンチまたはバイアの底部における、または底部付近の選択された位置に測定ビームを焦点合わせするステップと、測定ビームがこの選択された位置に焦点合わせされたときに生成される反射測定ビームであって、トレンチ内で励起される一つ以上の被挟導波モードからの放射フィールドに対応する成分を含む反射測定ビームの特性を測定するステップと、この反射測定ビームの測定された特性からトレンチまたはバイアの特徴を決定するステップと、を含む。
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本願発明によるコヒーレンス顕微鏡は、時間的にインコヒーレントな光を供給する光源（１）を備える。その他、この共焦点コヒーレンス顕微鏡は、スプリッタ（３）を備える。このスプリッタ（３）は、光源（１）から供給された光を、サンプル（１３）に導かれてサンプルに反射する測定光と、参照光とに分割する。さらには、重ね合わせ装置（２５、３１）と、センサライン（４１）とを設ける。この重ね合わせ装置は、サンプル（１３）に反射した測定光と参照光とを、空間的に重ね合わせる。センサライン（４１）は、重ね合わせによって生じた光を検出するものであって、少なくとも約６０ＫＨｚの読み出し速度を可能とするように設計されている。このような読み出し速度を得るために、例えばＣＣＤ素子（ＣＣＤ：Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）として与えられるセンサ素子が最大約１０００個配置されて構成される短いセンサライン（４１）、あるいはセンサ素子が最大約５００個配置されて構成される非常に短いセンサライン（４１）を採用することができる。上記の重ね合わせ装置は、測定光と参照光とを放射する放射装置（２５、３１）を備える。この放射装置およびセンサライン（４１）については、センサライン（４１）の少なくとも一部に重ね合わせられた光が照射されるとともに、放射装置（２５、３１）からセンサライン（４１）上のそれぞれの入射点までにおいて、測定光と参照光とが通過した距離の比がセンサライン（４１）上の入射位置に応じて変化するように構成される。
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顕微鏡対物レンズ視野内の振動対象物表面部分上へ目的波面を指向し、視野内表面部分から反射された変調目的波面を光屈折性材料中へ指向するようにそれぞれ配置された目的波面供給源及び光学顕微鏡対物レンズと、基準波面を位相変調器中へ指向し、及び位相変調器からの変調基準波面を光屈折性材料中へ指向して変調目的波面との干渉を起こすようにそれぞれ配置された基準波面供給源及び少なくとも１台の位相変調器とを備える撮像システム。光屈折性材料は、変調目的波面と変調基準波面との干渉が光屈折性材料中で起こり、顕微鏡対物レンズ視野内表面部分の全視野リアルタイム画像信号を生成するような組成を有し且つ位置にある。
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【課題】適用可能性が大幅に拡大された共焦点レーザ走査型顕微鏡を提供する。
【解決手段】主要部が、レーザ走査型顕微鏡検査のための励起光を生成する光源モジュール２、励起光をコリメートして偏向を行う走査モジュール３、走査モジュールによって用意された走査ビームを顕微鏡光路内で試料の方向に向ける顕微鏡モジュール４および試料からの光線を受け止め検出する検出モジュール５から成るレーザ走査型顕微鏡１において、試料が第１および第２の照明光によって照明され、その場合第１照明光ＬＱ１が試料の励起を誘起し、第２照明光ＬＱ２が周期性構造におけるコヒーレント光の回折によって生成され、それが照射横方向および照射軸方向に周期性構造を有している、高度な分解能を持つ顕微鏡。 （もっと読む）

【課題】光学顕微鏡の対物レンズの視野とＳＰＭユニットのカンチレバーとの位置関係を正確に表示できる複合型走査プローブ顕微鏡及びそのカンチレバー位置表示方法を提供する。
【解決手段】対物レンズ１０を通して取得される光学観察像を表示器４５に表示し、かつ表示器に表示されている光学観察像上にカンチレバーの先端部の位置を示す指標Ｓを表示する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、実際の干渉を生起させることなく干渉像を得ることのできる顕微鏡観察方法、顕微鏡装置、及び画像処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】照明された被検物から射出する被検光束を結像する結像光学系を有し、その結像光学系の結像面に生起する被検光波の複素振幅分布を測定可能な顕微鏡装置を用いた顕微鏡観察方法であって、前記被検光波の複素振幅分布のデータを取得する被検データ取得手順（Ｓ２）と、前記被検物を光路から外したときに前記結像面に生起する参照光波の複素振幅分布のデータを取得する参照データ取得手順（Ｓ１）と、前記被検光波の複素振幅分布のデータと前記参照光波の複素振幅分布のデータとを同一座標間で重ね合わせて絶対値二乗し、前記被検物の干渉像の画像データを作成する画像作成手順（Ｓ３，Ｓ４）とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、表面の３次元検査及び測定用の両用（共焦点干渉）方式光学側面計に関する。本発明は、光源（ＬＥＤ）、ビームスプリッタ（少なくとも一つは偏光性）、照明パターン発生手段（ＬＣｏＳマイクロディスプレイ）、及び標準のレンズの形状では共焦点像が得られ干渉レンズでは干渉像が得られる交換可能な顕微鏡レンズを備える。本発明によれば、マイクロディスプレイは、共焦点像を得るために一連の光パターンを発生するか又は干渉像を得るために全ての光画素の全開口を生成することができる。本発明の側面計は小型に設計されており、異なる材質を含む組織化又は層状化された試料を含むミクロン及びナノメートルスケールの任意の型の表面の形状及びテクスチャの迅速及び非接触の測定が可能である。
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励起ビーム経路を有するとともに、サンプル（５）内における焦点（４）に励起放射線（１）を合焦する対物レンズ（２）と、焦点（４）を少なくとも一次元的にシフトさせる操作ユニットと、多光子励起によってサンプル内において活性化される発光放射線を取り込む検出ユニットと、を備える多光子発光顕微鏡（Ｍ）について記載する。検出ユニットは、サンプル（５）の対物レンズ（２）とは反対側に位置する二次元検出器（９）を備えている。
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