潜在的細胞核を識別する核多形性の組織学的評価の方法は、画像データを重複するサブ画像に分割する。この方法は主要構成要素分析を用いてモノクロ画像データを導き出し、その後、大津しきい値処理法により２値画像を生成する。この方法では、サブ画像の境界の画像領域と、不適当な小さい画像領域と、相対的に大きい画像領域内の穴とを除去する。次に、結果として得られたサブ画像を単一画像に再構築する。潜在的細胞核である画像領域の周辺長（Ｐ）および面積（Ａ）は、核形状因子Ｐ^２／Ａの計算において決定され、使用される。核多形性は、所定の形状因子しきい値が、画像の平均細胞核形状因子が相対的に低い、中間または高いことを示すかどうかに応じて、相対的に低い、中間または高いと評価される。
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【課題】 レーザの位置ズレを容易に調整することができるレーザー機器の提供。
【解決手段】 共焦点顕微鏡に設けられたビームエキスパンダ１２とレーザ光Ｌを発生する光源２との間の光路上にハーフミラー４１を設けて、レーザ光Ｌを照明光であるレーザ光Ｌ１と検査光であるレーザ光Ｌ２とに分割する。ハーフミラー４１で反射されたレーザ光Ｌ２は光電検出器４２に入射する。レーザ光Ｌの出射角度がθだけずれていると、光電検出器４２上の入射位置は、光路変更ユニット５が光路中に挿入されていない場合には初期位置Ｘ０に対してΔＸ２だけ位置ズレしている。光路変更ユニット５を挿入した場合には、位置ズレ量はΔＸ３に増加する。一方、出射位置がｚ方向にずれた場合には、挿入前後におおて位置ズレ量は変化しない。この位置ズレ量の変化の相異を利用して、出射角度および出射位置の調整を個別に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 クリティカルな測定パラメータが存在する場合であっても、支障のない撮像（画像生成）が可能でありかつ検出器の不都合な損傷が回避可能な顕微鏡を提供すること。
【解決手段】 少なくとも１つの光源と、被検対象へ光源光を導く照明光路と、検出器と、該被検対象から該検出器へ検出光を導く検出光路とを含んで構成される、とりわけ蛍光顕微鏡等の顕微鏡において、前記検出光路（３）に、該検出光路（３）中での光強度の制御及び／又は制限をするための可制御要素を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
培養顕微鏡では長期間細胞観察を行うため培地交換等の作業を必要とする。しかし、観察者がタイムラプスの撮影時間を考慮しないで培地交換の作業を行うと、培地交換中に撮影が開始されてしまい実験の失敗を招いていた。観察者は培地交換の可能なタイミングが分かりづらかった。
【解決手段】
請求項１記載の培養顕微鏡は、細胞を培養するのに適した培養環境を維持する培養手段と、細胞像を撮像可能な撮像手段と、前記撮像手段によるインターバル撮影を自動制御可能な制御手段とを有し、前記インターバル撮影制御時に、撮像手段の状態（撮像状態またはインターバル状態）を表示する表示手段を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複数の反射界面をもつ観察体においても安定したピント合わせが可能なオートフォーカス技術を提供する。
【解決手段】 利用者に観察部位を入力させる、観察部位に最も近い反射界面が前記対物レンズの異動先である反射界面と異なる場合、厚み情報のうち必要な情報を用いて、対物レンズを観察部位に最も近い反射界面まで移動させる。上記の反射界面のうちオートフォーカス動作により検出可能なものが唯一である場合、アクティブオートフォーカス動作により上記の唯一の反射界面に一旦合焦させ、厚み情報のうち必要な情報を用いて、対物レンズを現在の位置から観察部位に最も近い反射界面まで移動させる。 （もっと読む）

【課題】 レーザ光源を切換えても標本内の目的とする位置に、それぞれのレーザ光を位置ずれを生じることなく正確に照射できる走査型光学観察装置を提供する。
【解決手段】 観察用可視レーザユニット１から発せられる１光子励起波長の観察用励起レーザ光と観察用赤外レーザユニット７から発せられる２光子励起波長の観察用励起レーザ光のそれぞれの光路をダイクロイックミラー９により合成し、さらに刺激用レーザユニット１５から発せられる２光子励起波長の刺激用レーザ光の光路をダイクロイックミラー１８により合成し、これら合成された光路を介して、それぞれのレーザ光を標本２３内に照射し、可視レーザによる１光子励起観察、赤外パルスレーザによる２光子励起観察、さらには、刺激用レーザによる２光子励起による化学反応を得られるようにする。 （もっと読む）

この発明の対象は、試料（１）を光学的に走査するための方法及び装置である。基本的な構造としては、少なくとも一つの調整ユニット（２，３）と少なくとも一つの走査機器（４，５）が有る。制御設備（６）によって制御される調整ユニット（２，３）を用いて、試料（１）を走査機器（４，５）に対して動かすか、或いは走査機器（４，５）を試料（１）に対して動かす。この発明では、機械的な遊びを補償するために、補正値を取得して、制御設備（６）内に保存しておき、調整プロセスの際に考慮する。
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少なくとも部分的に自動化又は電動化された顕微鏡（１）のコンフィギュレーション用の装置及び方法が開示される。顕微鏡（１）は、異なる素子を装着するための複数の位置を有しているコンフィギュレーション可能な少なくとも１つのサブアッセンブリを有している。顕微鏡には、ディスプレイ（２１）及び少なくとも１つの入力手段を有するコンピュータ（１７）が接続される。前記コンピュータには、前記コンフィギュレーション可能な少なくとも１つのサブアッセンブリに関して使用に供することができるありとあらゆる素子を保存したデータベースが実装される。利用者はそこから前記サブアッセンブリに対し個々の素子を割り当てることができる。
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本発明は、画像平面に配置された、少なくとも一部が電磁放射線に感応する層で覆われた被処理品をパターン形成するための液浸リソグラフィ装置に関する。同装置は、対象物平面に電磁放射線を放出する放射源と、前記電磁放射線を前記対象物平面で受け取って変調するようになされ、かつ、前記被処理品に向けて前記電磁放射線を中継するようになされたマスクと、前記リソグラフィ装置の最終レンズの少なくとも一部および前記被処理品の一部と接触する液浸媒体とを含み、毛細管力によって前記接触領域が制限される。また、本発明は、被処理品にパターン付与する方法および液浸レンズに関する。
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本発明は、顕微鏡により表示された位置（Ｐ）の座標を装置非依存的に決定する方法および装置に関するものであり、最初に、ＤＩＣＯＭ座標系内の少なくとも１個の基準位置の所与の対物レンズに関連付けられた基準座標（Ｘ_１、Ｙ_１、Ｚ_１）に対応する装置依存座標系において、表示された基準位置（Ｅ_１）について装置座標（ｘ_１、ｙ_１、ｚ_１）と、装置依存座標（ｘ、ｙ、ｚ）をＤＩＣＯＭ座標系の座標（Ｘ、Ｙ、Ｚ）へ変換するための変換規則（Φ）とが決定される。最後に、装置非依存座標決定を完了すべく、決定された変換規則（Φ）により、表示された位置（Ｐ）の装置座標（ｘ_ｐ、ｙ_ｐ、ｚ_ｐ）がＤＩＣＯＭ座標系の装置非依存座標（Ｘ_ｐ、Ｙ_ｐ、Ｚ_ｐ）に変換される。
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