本発明は、マイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光分布を修正する方法、及びマイクロリソグラフィ投影露光装置に関する。光軸（ＯＡ）とこの光軸の回りに回転可能に配置されたλ／４板（１０４）及び／又はこの光軸の回りに回転可能に配置されたλ／２板（１０５）を有する補正配列とを有する照明デバイスと、投影対物系とを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光分布を修正するための本発明による方法は、投影露光装置の所定の平面における偏光分布を判断する段階と、偏光分布の局所変動が回転前の状態と比較して回転後に低減されるように、光軸の回りにλ／４板（１０４）及び／又はλ／２板（１０５）を回転させる段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】レーザ光源を用いた投写型表示装置において、装置全体の薄型化を可能にするとともに、液晶シャッター方式を用いて３Ｄ映像を楽しむ場合に発現する可能性の高い輪帯状の色むらを除去することができる投写型表示装置を得ること。
【解決手段】レーザ光源１０からのレーザ光を用いて光学エンジン３０で画像を形成し、光学エンジン３０から出射されたレーザ光を拡大してスクリーン５１に表示する投写型表示装置１において、レーザ光源１０と光学エンジン３０との間を光ファイバ２０で連結し、光学エンジン３０は、光学エンジン３０内に配置され、レーザ光源１０からのレーザ光の光量分布を均一化するロッドインテグレータ３１の入射端面と、光ファイバ２０の出射端面とを、光ファイバ２０で伝播される光の波長に比して大きな間隙を置いて対向して配置し、固定するロッドファイバ固定部３６を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の露光装置は、ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみをマスクに供給することができる。
【解決手段】ミラー５１０の表面には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝５１３が形成される。ＥＵＶ光源装置１から入射する光２０３，３０１は、ミラー５１０に入射し、反射または回折する。ＥＵＶ反射光２０４（ＥＵＶ回折光を含む）と、他の波長の光３０２とは、反射角度または回折角度が異なるため、進行方向が異なる。アパーチャやダンパによって他の光３０２を除去することにより、純度の高いＥＵＶ光をマスク６００に照射することができる。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィのための照明光学ユニットは、物体視野を照明光で照明するように機能する。第１のファセットミラー（１３）は、複数の第１のファセット（１９）を有する。第２のファセットミラー（１４）は、複数の第２のファセット（２０）を有する。第１のファセットミラーのファセットと第２のファセットミラーのファセットとをそれぞれ含むファセット対（１９，２０）は、物体視野を照明するための複数の照明チャンネルを予備形成する。照明チャンネルの少なくとも一部は、各場合に、それぞれの照明チャンネル内で誘導される照明光の個別偏光状態（ｘ−Ｐｏｌ，ｙ−Ｐｏｌ，ｘｙ−Ｐｏｌ，ｙｘ−Ｐｏｌ）を予備形成するために割り当てられた偏光要素を有する。その結果、下流の結像の高い構造解像度を保証する物体視野の照明がもたらされる。 （もっと読む）

【課題】簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置、照明方法、並びに均一性が高い表示装置及び加工装置を提供する。
【解決手段】可干渉性を有する光を出射する光源と、ピッチｐで配列した複数のマイクロレンズを有するレンズアレイと、前記光源と前記レンズアレイとの間に設けられ、前記光源から出射された光が入射し、前記入射した光を、互いに隣接する前記マイクロレンズに入射する光の偏光パターンが互いに異なるように変換し、前記変換した光を前記マイクロレンズに入射させる偏光変換素子と、を備えたことを特徴とする照明装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】 フライアイレンズアレイから出射した複数の光束を液晶パネル上で重ね合わせる場合、収差の影響によって液晶パネルの周辺部が若干暗くなってしまっていた。
【解決手段】 光源から発する光束を収束光束に変換する集光光学系と、前記収束光束を複数の光束に分割する第１のレンズアレイと、２枚の正レンズを含み、前記複数の光束を被照明面上で重ね合わせるコンデンサー光学系と、を有する照明光学系であって、前記２枚の正レンズは、それぞれの正の屈折力の強い方の面が互いに向かい合うように配置されている。 （もっと読む）

【課題】ＷＤとＮＡが従来と同様な値でありながら、明るい落射照明を行うことができる顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】被検物体Ｏからの光を集光する対物レンズ１１及び開口絞りＡＳを含む２つの観察光学系１０と、対物レンズ１１及び開口絞りＡＳを介して被検物体Ｏを照明する照明光学系２０とを有する実体顕微鏡１において、この照明光学系２０は、当該照明光学系２０内の光源Ｓと共役な位置に配置され、２つの観察光学系１０内に照明光を導く光路分割素子２３を有する。 （もっと読む）

【課題】光源からの照明光を無駄なく試料面に投影するためのフライアイ光学系を提供する。
【解決手段】光源から射出した発散光を平行光束に変換するコレクタレンズと、前記コレクタレンズの後側焦点位置近傍に配置されたフライアイレンズと、前記フライアイレンズにより結像された複数光源像を対物レンズの瞳に投影する落射投光管光学系と、前記対物レンズより射出された観察光を結像する結像レンズと、前記対物レンズと前記落射投光管光学系の間に配置された、少なくともーつのフィルターを有する蛍光キューブをそなえる顕微鏡照明装置において、以下の条件式
γ²・ｆ_fly・Ｄ ＜ γ・ｆ_fly・φ−ｈ・ｐ
を満たす。 （もっと読む）

【課題】 被照射面を光量損失の少ない明るく効率良く照明することができる照明光学系を得ること。
【解決手段】 光源手段から出射した光束を収斂光として出射する光束集光手段と、
第１断面において、光束集光手段から出射する収斂光を複数の平行光束に変換する第１レンズアレイと、第１断面と垂直な第２断面において、複数の収斂光束を複数の平行光束に変換する第２レンズアレイと、偏光分離面とを有し、第１レンズアレイのレンズセルの表面と第２レンズアレイのレンズセルの表面と、第１断面において、第１レンズアレイのレンズセルのうち最周辺部のレンズセルの表面と、第２レンズアレイのレンズセルのうち最周辺部のレンズセルの表面と、第２断面において、第１レンズアレイのレンズセルのうち最周辺部のレンズセルの表面と、第２レンズアレイのレンズセルのうち最周辺部のレンズセルの表面との位置を適切に設定したこと。 （もっと読む）

【課題】 被照射面上の各点での瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整することのできる照明光学系。
【解決手段】 光源（１）からの光で被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系は、オプティカルインテグレータ（８）を有し、このオプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系（３，４，７，８）と、上記後側の照明瞳を含む照明瞳空間に配置された補正フィルター（９）とを備えている。補正フィルターは、光軸（ＡＸ）に沿って所定の厚さを有する光透過性の基板を備え、基板の入射面には第１減光パターンが形成され、射出面には第２減光パターンが形成されている。 （もっと読む）

【課題】照明モードの可変調整を可能とする二重ファセット照明システムの高額ではない構成を提供し、そのような照明システムにおける照明モードを調整するための方法を提供する。
【解決手段】放射ビームを複数の放射チャネルに分割する第１のラスタエレメント１１０を含む第１の光エレメント１００と、複数の放射チャネルを受ける、第２のラスタエレメント１５０を含む第２の光エレメント１６０とを含むリソグラフィ装置の照明システムＩＬが開示される。放射チャネルの各々に対して、第１のラスタエレメントのラスタエレメントは、第１の光エレメントからオブジェクト面への連続的ビームパスを提供するために第２のラスタエレメントのそれぞれのラスタエレメントと関連付けられる。フィルタＳＦは、照明システムＩＬの瞳内に所望の空間強度分布を生成するために放射ビームが通り抜けたパスに配置されている。 （もっと読む）

１次光源からの光で照明視野を照明するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明系、及びそのような照明系を含むマイクロリソグラフィ投影露光装置、更に、例えば、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系の一部として用いることができるフーリエ光学系を提供する。照明視野（１６５）を１次光源（１０２）からの光で照明するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置（１００）のための照明系（１９０）は、１次光源（１０２）からの光を受光し、照明系の瞳成形面（１１０）内に可変的に調節可能な２次元強度分布を発生させるための可変的に調節可能な瞳成形ユニット（１５０）を有する。瞳成形ユニット（１５０）は、フーリエ光学系の入射平面を通じて入射する入射ビーム束（１０５）をフーリエ光学系の射出平面から射出する射出ビーム束へと変換するためのフーリエ光学系（５００）を有する。フーリエ光学系は、焦点距離ｆ_FOSと、入射側の先頭の系の面と射出側の最後の系の面の間で光軸に沿って測定された構造長Ｌとを有し、条件（Ｌ／ｆ_FOS）＜１／６が成り立つ。 （もっと読む）

【課題】 被照射面上の各点での瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整することのできる照明光学系。
【解決手段】 光源（１）からの光に基づいて被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系の光路中に設けられたオプティカルインテグレータ（９）は、Ｚ方向に所定の屈折力を有する複数の第１屈折面と、その後側に設けられてＺ方向に所定の屈折力を有する複数の第２屈折面とを有する。少なくとも２つの隣り合う第２屈折面の間には、被照射面に達する光の位置が被照射面の中心からＹ方向に沿って離れるにしたがって減光率の増大する減光率特性を有する減光部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】光源の消耗を抑制し露光光の照度を適切に設定することができる照明装置を提供する。
【解決手段】感光基板Ｐに対して露光光を照射する照明装置ＩＬにおいて、少なくとも１つの口径が異なる複数の入射口１２ａ〜１２ｃを有し、該複数の入射口１２ａ〜１２ｃから受光した前記露光光を前記感光基板Ｐに対して共通の射出口１４ａ〜１４ｇから射出させるライトガイド１３と、前記複数の入射口１２ａ〜１２ｃのうち少なくとも１つの入射口に対して選択的に前記露光光を入射させる光源部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 被照射面上の各点での瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整することのできる照明光学系。
【解決手段】 光源（１）からの光で被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系は、オプティカルインテグレータ（８）を有し、該オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系（３，４，７，８）と、照明瞳の前側に隣接するパワーを持つ光学素子と照明瞳の後側に隣接するパワーを持つ光学素子との間の照明瞳空間に配置されると共に、照明瞳の一部の領域のみを通過する光または照明瞳の一部の領域のみを通過した光が入射する位置に配置され、光の入射角度に応じて変化する透過率特性を有する透過フィルター（９）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】光源からの光を入射端５から入射し、側壁面３で繰り返して反射して射出端６から射出するライトパイプ１において、光の指向性が高く、輝度分布の均一な照明光を、光の利用効率を向上させて射出する。
【解決手段】導光体２には、導光体２の長手方向に導光体２の内部空間を仕切る透光性の仕切り部１２が構成され、仕切り部１２の入射端５側の領域の表面に回折部４が形成され、射出端６から射出される光の射出角度βが、入射端５から導入される光の入射角度αよりも小さくなるようにした。 （もっと読む）

【課題】 被照射面上の各点での瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整することのできる照明光学系。
【解決手段】 光源（１）からの光で被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系は、オプティカルインテグレータ（８）を有し、このオプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系（３，４，７，８）と、照明瞳の直前または直後の位置に配置された遮光部材（９）とを備えている。遮光部材は、被照射面上の１点に向かう光の遮光部材による減光率が被照射面の中心から周辺にかけて増大するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】入射口５から入射した光源からの光を、側壁面３で繰り返し反射して射出口６から射出させるライトパイプ１において、光の指向性が高く、輝度分布の均一な照明光を、光の利用効率を向上させて射出させる。
【解決手段】ライトパイプ１の側壁面３の入射口５側の領域に回折部４を設け、回折部４において、入射角γ１よりも反射角γ２が大きくなるように反射させて、射出口６から射出される光の射出角度βが入射口５から入射される光の入射角度αよりも小さくなるようにした。 （もっと読む）

【課題】光源からの光の集光効率をアップさせた集光レンズ群を有するプロジェクタ装置を提供する。
【解決手段】プロジェクタ装置１０は、光源１と、矩形形状の表示面６ａを有する表示素子６と、光軸周りの少なくとも一部の回転角での屈折力が他の回転角での屈折力と異なり、光源１からの光を集光して表示素子６の表示面６ａと略大きさにするとともに、照度を均一化して照射する自由曲面２ａを有する第１及び第２集光レンズ２，３と、表示素子６に形成される像を投影する投影レンズ群８，９と、から構成される。 （もっと読む）

【課題】種々のピッチのパターンを同時にそれぞれ高解像度に転写できるようにする。
【解決手段】照明光ＩＬでレチクルＲを照明する照明光学系１２と、レチクルＲのパターンの像をウエハＷ上に投影する投影光学系ＰＬとを有する露光装置において、レチクルＲの照明条件を可変とし、投影光学系ＰＬの瞳面と共役な照明光学系１２内の所定面で光軸外に中心が配置される複数の領域にそれぞれ分布する光束を発生する回折光学素子２１，２２により、その複数の領域で光量が他の領域よりも大きくなる光量分布を生成可能な成形光学系と、回折光学素子２１，２２から発生する光束の偏光状態を設定する偏光設定部材と、を備える。 （もっと読む）