【課題】光漏れが起こりにくい液晶表示装置用基板の提供。
【解決手段】凹凸段差を有するカラーフィルタ基板上に面内方向に遅相軸を有する光学異方性層を有する液晶表示装置用基板であって、該光学異方性層の任意の直径１０μｍ領域における該遅相軸のずれの最大値が１０°以下にすると、一般的な偏光顕微鏡による観察部分は通常直径１０μｍの領域となるが、この観察部分につき、遅相軸を消光位に合わせた場合に光漏れが観察されず、さらに消光位から１０°回転させても光漏れが観察されない状態を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】カーボン膜を液晶配向膜とするためには、従来、成膜工程後に更にイオン照射による配向方向付与の表面加工工程が必要でありスループットが低かったが、本願では１つの工程で成膜と配向方向付与の２つの工程が同時にできるカーボン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】グラファイトをカソードとするアーク放電によって炭素プラズマビームを発生させ、磁場によって軌道を曲げ、前記炭素プラズマビームを液晶表示素子を形成する一対の基板のいづれかに、基板の面に対して斜めの方向から照射することにより、カーボン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜による配向材の流動性阻害を抑制することにより配向膜の厚みムラに起因
する表示品位の低下を抑制する。
【解決手段】本発明の液晶装置は、一対の基板及びこれらに挟持されてなる液晶を有し、
複数のサブ画素Ｇを備えるとともにサブ画素には透過表示領域Ｇｔ及び反射表示領域Ｇｒ
が設けられ、一方の基板１１０はサブ画素に対応して設けられてなるスイッチング素子１
１３及びこれに接続されてなる配線１１２並びにこのスイッチング素子及び配線上に配置
される絶縁膜１１５を有し、絶縁膜は透過表示領域及び隣接するサブ画素の境界に沿う領
域に凹部１１５ｘ，１１５ｚを有し、絶縁膜のうち凹部以外の部分の少なくとも一部が反
射表示領域と平面的に重なり配置され、隣接するサブ画素の境界に沿う領域に形成された
凹部１１５ｚは透過表示領域に形成された凹部１１５ｘより浅いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】寸法安定性に優れ、複屈折が調整できる透明な膜を提供する。
【解決手段】層状無機化合物（Ａ）、（Ａ）とは異なる複屈折性物質（Ｂ）、及び添加剤（Ｃ）からなり、層状無機化合物（Ａ）の積層を配向させた構造を有する透明な膜であって、（Ｃ）の膜に占める割合が０質量％超過、４５質量％以下である粘土膜。 （もっと読む）

【課題】大面積の基板を用いた場合でも、蒸着距離を大きくすることなく、配向の均一性を確保可能な膜の形成方法を提供する。
【解決手段】被蒸着基板上に膜を形成する方法であって、蒸着源からの蒸着種が該被蒸着基板の膜を形成する面に向かう方向が、該被蒸着基板の法線方向に対して傾斜するように被蒸着基板を保持する工程と、該被蒸着基板の膜を形成する面に面内の位置によって異なるエネルギーを与える工程と、該蒸着源から蒸発させた蒸着種を該被蒸着基板上に付着させ膜を形成する工程とを有する膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】プレチルト角の基板面内ばらつきを抑え均一な配向膜を成膜することができる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】スリット孔２１０を有するマスク２００を介して蒸着材料５０２と対向して配設され、相対向する所定の二方向に揺動する基板３５の表面上に、前記蒸着材料５０２を加熱することで発生した蒸気を前記スリット孔２１０を介して所定の角度θ０をなして到達させることにより、前記基板３５の前記表面上に無機配向膜を蒸着して形成する液晶装置の製造方法において、前記無機配向膜の蒸着を、前記基板が、前記相対向する二方向のいずれか一方の方向へ移動している状態においてのみ選択的に実施する。 （もっと読む）

【課題】斜方蒸着法による配向膜のバラツキと配向膜形成設備が大きくなる。
【解決手段】チャンバー２と、チャンバー２内の下側に設けられた蒸着源１と、チャンバー２内の上側に設けられ所定の速度で回転する被蒸着物保持治具４とを有する蒸着装置で、被蒸着物保持治具４は、蒸着源１を中心とする円周方向に湾曲する吸引用磁石７を備えた磁石付ホルダー６と、磁性材料よりなり液晶セル基板５の蒸着範囲を制限する開口部９を有するメタルマスク８と、磁石付ホルダー６とメタルマスク８との間に液晶セル基板５を挟持させ、湾曲した状態で液晶セル基板５を保持する。液晶セル基板５は蒸着源１を中心とする円周方向に湾曲された状態で蒸着源１からの蒸着を行う。液晶セル基板５を湾曲させ、蒸着角度を補正することにより、蒸着膜厚のバラツキが減少する。液晶セル基板５の円周方向の長さを円周方向と直交する方向の長さより長くすると更に改善される。 （もっと読む）

【課題】短時間で均一性の高い表面処理を行う。
【解決手段】シランカップリング剤を気化する気化装置２０２と、被処理物Ｐが配置されるとともに気化装置２０２によって気化されたシランカップリング剤が導入される処理装置２０３と、気化装置２０２の内部の処理雰囲気と処理装置２０３の内部の処理雰囲気とを個別に制御可能な制御装置２０５とを備える。 （もっと読む）

【課題】蒸着源の材料を基板上に斜方蒸着することによって配向膜を形成する配向膜形成装置において、再現性を高める。
【解決手段】所定材料からなる蒸着源３０２を用いて、真空環境にて基板１０Ａ上に上記所定材料を斜方蒸着することによって配向膜を形成する配向膜形成装置であって、上記蒸着源３０２が、シクロフェン類からなる材料からなる。 （もっと読む）

【課題】電極の非対称性に起因する焼きつきの発生を低減した、電気光学装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学物質２３を挟持する一対の基板２１，２２の一方の基板側２１に、電気光学層２３を駆動する第１及び第２電極４１，１１と、第１及び第２電極４１，１１の間に設けられる絶縁膜３３と、第２電極１１の電気光学物質５０側に設けられ、電気光学物質５０の初期配向方向を規制する配向膜３４と、を備え、絶縁膜３３は第２電極１１から配向膜３４側に露出された領域を有しており、少なくともこの領域の絶縁膜３３と配向膜３４との間に、配向膜３４よりも抵抗値が低い電荷放出膜３６が設けられる。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ膜によって構成された電極の凹凸形状に影響されて形成された無機配向膜の凹凸に起因して液晶の配向不良が発生し、表示ムラ等の表示不良が発生してしまうことを、液晶装置の生産性及び信頼性の向上を図りながら簡単に防止することができる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板及び対向基板に、成膜装置を用いて、液晶に駆動電圧を印加するＩＴＯからなる画素電極、対向電極を、常温でそれぞれ形成するステップＳ１、ステップＳ３と、画素電極、対向電極上に無機配向膜を形成するステップＳ２、ステップＳ４と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高品位表示が可能で、かつ長寿命の液晶装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の液晶装置の製造方法は、複数の画素電極１１を有してなる第１基板１０と、この第１基板１０に対向して配置される第２基板と、これら基板間に挟持された液晶層とを備えた液晶装置の製造方法であって、画素電極１１が形成された第１基板１０の前駆体１０Ｂの画素電極１１側に絶縁膜１２ａを形成する工程と、この絶縁膜１２ａ上を平坦化して画素電極１１を露出させ、画素電極１１上面とが略面一となる平坦化面を有する平坦化膜１２を形成する工程と、画素電極１１上と平坦化膜１２上とに斜方成膜法によって無機配向膜１３を形成する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造後、画素電極と対向電極とで水酸基の密度が異なってしまった場合におけるイオンの偏りにより発生する液晶装置におけるフリッカや焼き付き等の表示不良を、確実に防止することができる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板及び対向基板に、液晶に駆動電圧を印加する画素電極、対向電極をそれぞれ形成するステップＳ１と、ＴＦＴ基板及び対向基板を、塩素系ガス雰囲気中で加熱しながら、画素電極、対向電極に対して脱水酸基処理を行い、画素電極、対向電極上の水酸基を除去するステップＳ２と、画素電極、対向電極上に、無機配向膜をそれぞれ形成するステップＳ３と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造後、ＴＦＴ基板側と対向基板側とで水酸基の密度が異なってしまった場合におけるイオンの偏りにより発生する液晶装置におけるフリッカや焼き付き等の表示不良を確実に防止することができるとともに、液晶に対し所望のプレチルト角が得られる無機配向膜を形成することができる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０に、画素電極９、対向電極２１をそれぞれ形成するステップＳ１と、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０を、還元性雰囲気下で加熱するステップＳ２と、還元性雰囲気下で加熱しながら、各電極９、２１上に、無機配向膜１６、２６をそれぞれ形成するステップＳ３と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ライン状の蒸着源から基板上に材料を成膜する成膜装置において、膜を構成する柱状構造体の延在方向を可変とすることで、膜の特性を任意に設定可能とする。
【解決手段】蒸着源からの材料を基板上に成膜する成膜装置であって、所定方向に基板１０Ａを搬送する基板搬送装置３０４と、上記基板１０Ａの搬送方向を含む平面と平行な基準面内において一方向に延在するライン状の蒸着源３０２と、上記蒸着源３０２を上記基準平面内において回転可能に支持する蒸着源回転装置３０３と、少なくとも上記基板搬送装置３０４及び上記蒸着源回転装３０３置を制御する制御装置３０８とを備える。 （もっと読む）

【課題】ジャストエッチングのタイミングの検出を容易にした液晶パネルを提供する。
【解決手段】アレイ基板３の非表示領域９に位置するゲート絶縁膜および層間絶縁膜に、コンタクトホール25，26と、ダミーホール27とをドライエッチングにより形成する。アレイ基板３の開口面積率が向上するので、ドライエッチング中のエッチングガスの発光の変化量が大きくなり、この変化量を検出することでジャストエッチングのタイミングを容易に検出できる。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れ且つ適切な配向規制力を発揮する無機配向膜を得ることにより、信頼性及び表示品位の高い液晶装置、配向膜の製造方法、液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】対向配置される素子基板１０及び対向基板２０と、基板１０，２０間に挟持される液晶層５０と、配向膜４０，６０と、を備え、素子基板１０に設けられた配向膜４０が、多孔質構造を有する無機膜によって構成されるとともに、無機多孔質膜５６の液晶層５０側の表面に形成された複数の凸部と、を有し、平面視において前記凸部が長軸と短軸とを有する形状である。 （もっと読む）

【課題】基板にマトリクス状に凹部を区画形成し、液滴を適切に選択した凹部に配置して
広げることにより、基板に容易に正確なパターンを形成する、パターン形成方法を提供す
る。
【解決手段】各第２の凹部２６ｃが形成された対向基板の対向電極２６に、液滴吐出装置
から吐出されて着弾した各液滴Ｆｂ１は、相互に結合して液層Ｚ１を形成する。液層Ｚ１
の中央の付近は、略山型に盛り上がっているので、液層Ｚ１が跨っている各第２の凹部２
６ｃの内部全体に広がる。このとき吐出された液量が多いので、依然、液層Ｚ１の中央の
付近は盛り上がっている。この状態において、液層Ｚ１は、液層Ｚ１の中央に近い側面部
分から、隣接する第２の凹部２６ｃに濡れ広がる。以降、液層Ｚ１は、隣接する第２の凹
部２６ｃに濡れ広がることを繰り返す。そして、対向電極２６の全面に均一に濡れ広がっ
た液層Ｚ１を乾燥させて配向膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】専有面積の削減に寄与できる液晶装置の製造装置を提供する。
【解決手段】対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備える。少なくとも一方の基板の内面側に無機配向膜を形成してなる。成膜室２と、成膜室内にて基板Ｗに配向膜材料をスパッタ法で成膜して無機配向膜を形成するスパッタ装置３とを備える。スパッタ装置は、プラズマ生成領域を挟んで対向する一対のターゲット５ａ、５ｂと、プラズマ生成領域からスパッタ粒子を略鉛直方向に放出する開口部３ａとを有する。成膜室には、無機配向膜形成面を水平面に対して傾けて基板Ｗを支持し、且つ鉛直方向と交差する方向を走査方向として移動させる移動装置６、６ａが設けられる。 （もっと読む）

【課題】配向膜及び位相差フィルムを備える液晶装置を短時間で製造することに寄与できる製造方法を提供する。
【解決手段】基板に位相差フィルム及び配向膜を備える液晶装置の製造方法は、無機材料の位相差フィルムを形成する動作と、無機材料の配向膜を形成する動作と、を含み、位相差フィルムと配向膜とを接続するように形成する。 （もっと読む）