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Fターム[2H090HC01]の内容

Fターム[2H090HC01]の下位に属するFターム

LB法 (9)
プラズマ重合 (101)
塗布 (1,481)
酸化処理 (11)

Fターム[2H090HC01]に分類される特許

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【課題】簡易な構成、かつ、低コストであるとともに、画素領域内の液晶分子の配向方向を変えることが可能な液晶装置及び電子機器を提供すること。
【解決手段】互いに対向する一対の基板4,5間に液晶層8が挟持され、複数の画素領域Aがマトリクス状に配置された液晶装置であって、一対の基板4,5のうちいずれか一方の基板上の液晶層8側の画素領域A内の一部に、表面に複数の微細孔を有する金属酸化物層を含む配向膜20が設けられ、画素領域A内の他の部分に水平配向膜19が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機膜からなる配向膜であって、ラビング処理を行うことなく高い配向性を有したものを形成する、配向膜形成装置、及び配向膜の形成方法を提供する。
【解決手段】蒸着源302から高分子材料を基板10A上に斜方蒸着することにより配向膜を形成する、配向膜形成装置300である。蒸着源302と基板10Aとの間には、蒸着源302を挟むようにして相対向する規制板303が少なくとも一対設けられ、規制板303の少なくとも内面側は加熱面になっている。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成であり、画素領域のエッジ部で発生するリバースチルトドメインに起因する光漏れを防止することが可能な液晶装置及び電子機器を提供すること。
【解決手段】互いに対向する一対の基板間に液晶層が挟持され、複数の画素領域がマトリクス状に配置された液晶装置であって、一対の基板4,5のうち少なくともいずれか一方の基板4,5の液晶層8側の面における隣接する画素領域Aの間の画素間領域Bに、表面に複数の微細孔を有する金属酸化物を含む配向膜20が設けられるとともに、画素領域Aには配向膜13と異なる他の配向膜19が設けられ、画素間領域Bでの電圧無印加状態における液晶層8の配向状態と画素領域Aでの電圧無印加状態における液晶層8の配向状態とが異なることを特徴とする。 (もっと読む)


【目的】本発明は、視野角制御可能な液晶表示素子及び視野角制御方法を提供する。
【解決手段】本発明は、垂直配向(VA)型の前記液晶表示素子において、表示素子としてのサブ画素と、少なくとも1つの表示素子以外のサブ画素又は表示素子としてのサブ画素中の表示素子以外の部分上に、電界に対する液晶分子の傾斜制御手段を有することを特徴とする液晶表示素子及びカラーフィルタに関する。前記電界に対する液晶分子の傾斜制御手段が、リブ状構造である。前記表示素子としてのサブ画素に形成されているリブ状構造の配置に対して、前記少なくとも1つの表示素子以外のサブ画素又は前記表示素子としてのサブ画素中の表示素子以外の部分に形成されているリブ構造の配置が、リブ状構造の長手方向に対して角度を形成するように構成される。 (もっと読む)


【課題】中間電圧印加時において液晶の動作性のよい液晶表示装置、電子機器および磁性膜パターン形成方法を提供する。
【解決手段】画素電極14の周囲に磁性膜25を配置する。磁性膜25の磁極は、画素電極14の上下にS極を配置し、左右にN極を配置する。磁性膜25の左右のN極から放出される磁力線は、円弧を描いて磁性膜25の上下のS極に進行する。電圧無印加時に液晶は磁力線の進行方向に向かって所定の傾斜をする。液晶は、電圧無印加時に傾斜した方向に電圧印加時にはさらに傾斜し黒表示から白表示となる。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置の開口率を高めながら側面視認性を向上する。
【解決手段】
本発明は液晶表示装置に関する。本発明による液晶表示装置は、第1及び第2領域を有する画素を含む液晶表示装置において、前記画素は、画素電極と、前記画素電極と対向する共通電極と、前記画素電極及び前記共通電極のうちの少なくともいずれか一つ上に形成されている配向膜とを含み、前記第1領域と前記第2領域における前記配向膜の厚さは互いに異なり、前記第1領域に形成される電圧に対する前記第2領域に形成される電圧の比は0.1〜0.95である。 (もっと読む)


【課題】 感度が高く、且つ、セル製造過程で使用するような接着部材あるいは有機溶剤に侵されることのない光配向膜のための光配向膜用組成物、該光配向膜用組成物からなる光配向膜を使用した有機溶剤等に侵されることのない光学異方体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式(1)で表される化合物、及び親水性基と(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物を含有する光配向膜用組成物、光学異方体、及びその製造方法。
【化1】


(1)
(式中、RおよびRは各々独立して、水素原子、ハロゲン原子等を表し、RおよびRは各々独立して、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、ニトロ基、アミノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、又はヒドロキシル基を表す。) (もっと読む)


【課題】液晶分子の配向を規制する配向規制力と所定のプレティルト角とを同時に得ることができる液晶装置、液晶装置の製造方法及びプロジェクタを提供すること。
【解決手段】配向膜16、22が、第1の凸部51と、当該第1の凸部51よりも寸法が小さく長手方向が液晶分子50aの配向方向に沿うように設けられた第2の凸部52とを有する無機材料からなるので、第1の凸部51及び第2の凸部52の2種類の凸部によって液晶層50を構成する液晶分子50aの配向を規制することができる。これにより、液晶分子50aの配向規制力を高めることができる。また、液晶分子50aの配向規制力を高めることによって、所望のプレティルト角を容易に得ることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】フッ酸に起因する表示不良や、液晶中の粒子の凝集に起因する表示不良を防ぐこ
とができ、長期に渡って優れた配向特性が得られる耐久性に優れた液晶装置を提供する。
【解決手段】一対の基板の間に液晶を挟持してなる液晶装置であって、前記液晶中に、塩
基性酸化物からなる微粒子55と、液晶性モノマーを重合してなる高分子ネットワークと
が含まれている液晶装置とする。微粒子55の粒径が5nm〜100nmであり、微粒子
55が前記液晶中に0.01wt%〜5wt%含まれていることが望ましい。 (もっと読む)


【課題】ラビング処理を行うことなく高い配向性を有する配向膜を備えた液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の液晶装置の製造方法は、互いに対向する一対の基板間に液晶層が挟持されてなる液晶装置の製造方法であって、基板上に電極を形成する工程と、前記電極上に配向膜を形成する配向膜形成工程と、を含み、前記配向膜形成工程は、基材47上に高分子膜40を形成する高分子膜形成工程と、前記高分子膜40を備える基材47を1軸延伸する延伸工程と、前記延伸後、前記電極上に前記高分子膜40が配設されるように当該高分子膜40を前記基材47から前記基板10A側に転写し、当該高分子膜40からなる配向膜40を前記電極上に形成する工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】液晶プロジェクタ等で用いられる高強度の光線に長時間暴露されても、当該光線による劣化を起こし難い液晶配向剤、および、当該液晶配向剤が用いられ表示むらの発生やコントラスト比の低下を起こし難い液晶表示素子を提供する。
【解決手段】脂肪族テトラカルボン酸二無水物と、脂肪族ジアミンまたは芳香族ジアミンと、をイミド化してポリイミド樹脂とし、前記ポリイミド樹脂の膜厚を1μmと換算したとき、波長250nm〜380nmの近紫外領域における光透過率が80%以上あるポリイミド樹脂を含有する液晶配向剤を製造し、さらに、当該液晶配向剤を用いた液晶表示素子を製造した。 (もっと読む)


【課題】静電気等に起因する異常点灯を短時間で解消できる液晶表示素子を提供する。
【解決手段】液晶表示素子1は、キャラクター表示可能なように構成された、表示部における開口部が70%以下であるパッシブマトリクス型のVAモード液晶表示素子である。基板4,5には電極層2,3が設けられており、電極層2,3上には配向膜層12,13が設けられており、液晶層6がこれらの間に挟持されている。そして、基板4,5上の電極層2,3と配向膜層12,13との間には、導電性フィラーが含有され表面抵抗が10Ω/□〜1010Ω/□の範囲である絶縁膜が設けられている。 (もっと読む)


【課題】垂直配向モードの液晶装置であって、ラビング処理を行うことなく高い配向性を有する配向膜を備えた液晶装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶装置の製造方法は、互いに対向する一対の基板10,20間に、初期配向状態が垂直配向を呈する誘電異方性が負の液晶からなる液晶層50が挟持された構成を備え、前記基板10,20の液晶層50側に垂直配向性の配向膜40,60が形成されてなる液晶装置の製造方法であって、基板上にアルコキシド基を含む処理材を所定温度下で成膜する表面処理工程と、前記表面処理を行った基板上に、高分子材料を斜方蒸着により成膜する配向膜形成工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機膜からなる配向膜であって、ラビング処理を行うことなく高い配向性を有するものを備えた液晶装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶装置は、互いに対向する一対の基板10,20間に液晶層50が挟持された構成を備える液晶装置であって、前記基板10,20の液晶層50側には配向膜40,60が形成されてなり、前記配向膜40,60が、所定方向に配向した高分子からなる配向性高分子膜により構成されてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】水分に起因する液晶の劣化を防止した液晶装置とその製造方法、さらにはこれを用いた電子機器を提供する。
【解決手段】互いに対向する一対の基板10、20間に液晶を挟持してなる液晶装置である。一対の基板10、20のそれぞれの内面に無機配向膜16(22)が設けられ、無機配向膜16(22)が、異なる分子量の複数のシランカップリング材A、Bによってそれぞれ表面処理されている。 (もっと読む)


本発明は、コロイドナノ粒子を利用したコロイドフォトニック結晶の製造方法において、前記コロイドナノ粒子含有溶液に粘弾性物質を添加する工程を含むことを特徴とするコロイドナノ粒子を利用したコロイドフォトニック結晶の製造方法を提供する。また、本発明は、自己構成されたナノ粒子及び前記ナノ粒子を一定の弾性をもって固着させる粘弾性物質を含むことを特徴とするコロイドフォトニック結晶を提供する。また、本発明は、上記方法によって製造されたコロイドフォトニック結晶粒子の空隙にまた別の層のコロイド粒子、半導体粒子、金属粒子、または金属酸化物粒子を自己構成する工程を含むことを特徴とするコロイドフォトニック結晶基材の製造方法を提供する。また、本発明は、上記方法によって製造されたコロイドフォトニック結晶を鋳型にして逆相鋳型を製造する工程; 及び前記逆相鋳型の構造及び形態を基材に転写する工程を含むことを特徴とするコロイドフォトニック結晶基材の製造方法を提供する。
(もっと読む)


【課題】基板の大型化に伴う配向膜印刷工程におけるコストアップや作業性低下などの問題を解消する。
【解決手段】TFTアレイ基板1と対向基板のカラーフィルタ基板2を一体に貼り合わせ、周辺にシール材3を巡らせてセルを気密封着する。基板1、2の対向面にはそれぞれ配向膜4を成膜し、その間にセルギャップを一定に保つスペーサ5と液晶材料6の薄層を挟み込む。TFTアレイ基板1は、ガラス基板7にTFTアレイ8を形成し、その外部接続端子9を液晶の表示領域外aに露出する。カラーフィルタ基板2は、ガラス基板7にカラーフィルタ10を成膜・パターン化し、その上に共通電極11を成膜する。配向膜4は、塗布装置を用いて基板1、2の全面に配向剤を塗布し、これを乾燥・硬化させて配向膜を形成し、ラビングした後、レーザ光を照射してシール材3の塗布領域bと外部接続端子9上の配向膜4を取り除く。 (もっと読む)


【課題】液晶空間の液晶分子を配位させて階調を一旦表示させると、その後は液晶空間を挟む一対の電極間に電圧信号を印加しなくても、液晶分子の配向状態を保持して、表示させた階調を維持できる、表示メモリ性を有する液晶装置を提供する。
【解決手段】後方基板1と前方基板2との間に多数の細孔6を形成した中間層3が挟み込まれ、細孔6内には液晶8が充填されている。制御部20は、共通電極9と表示電極12との間に数10Hzの交流電圧を印加してプレーナ配向状態をチルト配向状態に移行させ、6kHz以上の交流電圧を印加してチルト配向状態をプレーナ配向状態に移行させる。所望の階調を表示させた後に共通電極9と表示電極12との電位差を無くしても、次回の書き込みまで画素11の階調表示が維持される。 (もっと読む)


【課題】耐久性(耐光性)に優れるとともに、例えば、液晶分子の配向状態を規制する機能に優れる無機配向膜を備える電子デバイス用基板、かかる電子デバイス用基板を製造する電子デバイス用基板の製造方法、信頼性の高い液晶パネルおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶パネル1は、TFT基板17と、TFT基板17の内表面に接合された無機配向膜3と、液晶パネル用対向基板12と、液晶パネル用対向基板12の内表面に接合された無機配向膜4と、無機配向膜3と無機配向膜4との空隙に封入された液晶分子を含有する液晶層2と、TFT基板17の外表面に接合された偏光膜7と、液晶パネル用対向基板12の外表面に接合された偏光膜8とを有している。無機配向膜3、4は、それぞれ、TFT基板17または液晶パネル用対向基板12の内表面にほぼ平行、かつ、長軸がほぼ一定方向に向くように配設された複数の角柱状の無機粒子で構成されている。 (もっと読む)


【課題】耐久性に優れる液晶パネル、かかる液晶パネルの製造方法および電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶パネル1は、TFT基板17と、TFT基板17に対向する液晶パネル用対向基板12と、TFT基板17に接合された無機配向膜3と、液晶パネル用対向基板12と、液晶パネル用対向基板12に接合された無機配向膜4と、無機配向膜3と無機配向膜4との空隙に封入された液晶分子を含有する液晶層2とを有している。そして、各無機配向膜3、4の封止部5と重なる領域には、細孔30、40内を満たし、かつ表面を覆うように、無機配向膜3、4との親和性の高い第1の官能基と、封止部5との親和性の高い第2の官能基とを有する化合物を含む充填物6が充填されている。 (もっと読む)


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