【課題】画素を透過する光の透過率が高く、光源から発する光を有効に利用可能な電気光学装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置は、素子基板１０と、画素に配置された透光性の画素電極１５と、素子基板１０と画素電極１５との間に設けられ、誘電体層１６ｂを介して対向配置された一対の透光性電極を有する蓄積容量１６と、蓄積容量１６と画素電極１５との間に設けられた第３層間絶縁膜１４と、を備え、画素を透過する光の分光分布が、少なくとも赤、緑、青の各波長範囲に対応して透過率のピークを有するように、画素電極１５、一対の透光性電極としての第１電極１６ａおよび第２電極１６ｃ、ならびに第３層間絶縁膜１４のそれぞれの膜厚が設定されている。 （もっと読む）

【課題】透光性基板に形成した溝の開口部を高い生産性をもって塞ぐことのできる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０には、画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する中空の溝２６０が形成されており、かかる溝２６０の開口部２６５は透光性絶縁膜２７によって塞がれている。このため、中空の溝２６０の側面２６１、２６２は、溝２６０内の媒質（真空）と第２基板２０の媒質との屈折率の差に起因する反射面となる。透光性絶縁膜２７は、シランガスを用いてＣＶＤ法により成膜したシリコン酸化膜であり、溝２６０の奥まで透光性絶縁膜２７が形成されることはない。それ故、溝２６０において反射面として機能する側面２６１、２６２の面積が広い。 （もっと読む）

【課題】配向膜の塗布均一性が向上し、パッド上の厚い配向膜領域が無くなり、表示領域へのダメージを最小限に抑制したパッド上の配向膜のエッチングが可能となると同時に、駆動基板と透明基板間のセルギャップを均一にする。
【解決手段】駆動基板の表面の層間絶縁膜２６上の平面矩形状の金点パッド２３が従来のレイアウトと比較して４５度回転して形成されている。ダミーパッド２７及び金点パッド２３の上にシリコン酸化膜２８、レジスト膜２９を順次被覆した後、レジスト膜２９をマスクとし、金点パッド２３上のシリコン酸化膜２８を除去すると同時に、層間絶縁膜２６が露出した三角形状領域２４のシリコン酸化膜２８の部分を金点パッド２３をマスクとして自己整合的にエッチングする。これにより、金点パッド２３から層間絶縁膜２６の角にかけて金点パッド２３の表面よりも高くなる箇所をなくす。 （もっと読む）

【課題】寸法安定性に優れたディスプレイ用フィルム基板の製造方法を提供する。
【解決手段】バリア層を設ける前の段階において、プラスチックフィルムに張力を加えることなくガラス転移温度より低い温度であって、前記ディスプレイ用フィルム基板上にカラーフィルタまたは駆動素子等のディスプレイ部材を形成する工程の温度以上の所定の温度で加熱処理して、歪みを解消し、その後の工程での寸法安定性を維持可能とした。そして、プラスチックフィルムの両面にバリア層を設けるようにして、さらに寸法安定性を増すとともに、ガス透過の防止をした。 （もっと読む）

【課題】 反射電極の間を通過する入射光の光量低減が要望されている。
【解決手段】 半導体基板に、複数のスイッチング素子が形成されている。半導体基板の上に、スイッチング素子に対応して配置され、対応するスイッチング素子に接続された反射電極が形成されている。反射電極の上面及び端面を覆い、反射電極の間の領域において、反射電極の底面と同じか、該底面よりも低い位置に上面が配置されているカバー絶縁膜が形成されている。反射電極の間のカバー絶縁膜の上に、遮光膜が形成されている。遮光膜の上面が、反射電極の上面よりも高い位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】表示装置の画質の劣化を抑制する。
【解決手段】複数の画素電極１１０が配置されたが画素表示領域１０３を有するＴＦＴ基板１０１（第１の基板）と、ＴＦＴ基板１０１（第１の基板）に対向して配置された対向基板１０２（第２の基板）と、画素表示領域１０３を囲繞するように配置されてＴＦＴ基板１０１及び対向基板１０２を接合する接合部と、を備え、前記接合部は、ＴＦＴ基板１０１と対向基板１０２とを接着するためのシール材１０６（接着材部）と、シール材１０６よりも透湿度合いが低く、シール材１０６の高さ方向に積層されたスペーサ１０５と、を有する表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】液晶中のイオン性不純物の偏在が抑制され、優れた表示品質が得られる液晶装置、液晶装置の製造方法、この液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置は、一対の基板間に挟持された負の誘電異方性の液晶層と、複数の画素を含む表示領域Ｅ１とを有し、表示領域Ｅ１における一対の基板の液晶層に面する側のそれぞれに設けられ、第１方位角方向θａに略垂直配向処理が施されてなる第１配向膜と、表示領域Ｅ１を囲む周辺領域Ｅ２の少なくとも一部における一対の基板の液晶層に面する側のそれぞれに設けられ、第１方位角方向θａと交差する第２方位角方向θｄに略垂直配向処理が施されてなる第２配向膜と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】製造コストを削減するとともに歩留まりを向上し、かつプロセス設計が容易である液晶表示装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶表示装置１において、半導体層ＡＳＩと半導体層ＡＳＩの面に形成された金属層Ｍとの積層部分であり、かつ画素電極ＭＩＴの面に重なる部分である重なり部５０を含むソース電極ＳＤ２と、金属層Ｍおよび半導体層ＡＳＩの積層部分からなる映像信号線ＤＬと、金属層Ｍおよび半導体層ＡＳＩの積層部分からなるドレイン電極ＳＤ１とが形成され、前記第２の絶縁層ＰＡＳ２は、ソース電極ＳＤ２の面から重なり部５０の端部を通じて画素電極ＭＩＴの面につながる部分であるつなぎ部６０を露出させる開口部ＴＨが形成され、開口部ＴＨによって露出されたつなぎ部６０に共通電極ＣＴに形成される導体膜７０が形成されている。 （もっと読む）

【課題】例えば切替え可能な公衆／個人ディスプレイとして用いられ得る液晶装置を提供する。
【解決手段】ホメオトロピック配向表面１１を有する、アクティブマトリックス基板６と対向基板７とを備えている。配向表面１１の間にネマティック液晶材料の層が配置され、垂直配向ネマティック装置を形成する。基板６，７は、複数の画素領域をそれぞれ規定する、画素電極構成と対向電極構成とを有する。これらの領域のうちの少なくとも一部のそれぞれは、２つの半部に分割される画素電極と、液晶ダイレクタ１２面外チルト角を制御するための第１電界を印加するように構成される対向電極８とを有する。例えば複数の平行な指の形態を有する、さらなる電極は、ダイレクタ面内方位角を制御するための第２電界を印加するために、他の電極８のうちの少なくとも１つと協働する。 （もっと読む）

【課題】 表示品位の低下を抑制できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶表示装置１は、画素電極218と共通電極216とは、平面視してＸ方向に沿って交互に配置されており、絶縁部材217は、画素電極218側の第１面217ａ
と、第１基体21の第１主面21ａ側の、Ｘ方向における両端が第１面217ａの両端に比べて
内側に位置している第２面217ｂとを有しており、画素電極218は、絶縁部材217の第１面217ａを被覆しているとともに、平面視してＸ方向における両端部が隣り合う共通電極216
に重なっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶表示素子において高フレキシビリティと高ガスバリア性を両立する。
【解決手段】本発明の液晶表示素子は、一対の電極と、一対の電極間に配置された液晶層と、一対の電極の片方の電極に対して液晶層の反対側に配置され、１層以上の薄膜層を有するバリア膜と、を備える。薄膜層の少なくとも１層の炭素分布曲線は、実質的に連続であること、少なくとも１つの極値を有すること、及び炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上であること、を全て満たし、かつ、バリア膜の片方の電極側の表面の粗度は、最大表面高さをＲｍａｘとしたときに、Ｒｍａｘ＜２００ｎｍであることを満たす。 （もっと読む）

【課題】同一の層間膜上に画素電極と、ゲート配線を形成した半導体装置において、マスク枚数を追加することなく、液晶の焼きつきや特性劣化を低減する。
【解決手段】ゲート配線上に絶縁膜を設けることで、ゲート配線が非選択の期間に液晶にかかるゲート電圧の絶対値を減少させることができる。絶縁膜は遮光性樹脂膜、柱状スペーサーで形成すると、マスク枚数の増加を抑えることができる。また、絶縁膜上に画素電極を形成し、ゲート配線と画素電極が重なり合うようにすることで、画素電極の電界遮蔽効果によって、液晶にかかるゲート電圧を減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＳ方式の液晶表示装置において、周辺シール部における有機パッシベーション膜と有機パッシベーション膜の上に配置された低温ＣＶＤによって形成された層間絶縁膜の剥離を防止する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１００と対向基板２００がシール材２０を介して接着している。ＴＦＴ基板１００には、有機パッシベーション膜１０９が形成され、その上に、低温ＣＶＤによって形成されたＳｉＮ膜による層間絶縁膜１１１が形成されている。有機パッシベーション膜１０９の表面には、ハーフ露光によって形成された多数の凹凸が形成されている。有機パッシベーション膜１０９表面の凹凸によって有機パッシベーション膜１０９と層間絶縁膜１０９との接着面積が増加することによって接着力が向上し、液晶表示パネルの信頼性が向上する。 （もっと読む）

【課題】美しい白表示や良好な色バランス、明るい表示が低コストで得られ、さらにフリッカーや焼き付きの発生を抑制し得る内面反射方式の液晶装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶装置３１は、第１基板１、第２基板２、液晶層３、第１基板１の第２基板２に対向する側に配置された反射電極４、反射電極４上に配置された第１絶縁膜５、第１絶縁膜５上に配置された第１無機配向膜６、を備えている。液晶層３の屈折率をｎlc、第１絶縁膜５の屈折率をｎ１、第１無機配向膜６の屈折率をｎ２とすると、ｎlc＞ｎ２＞ｎ１であり、第１無機配向膜６の光学膜厚をｒ２とすると、５０≦ｒ２≦１５０であり、第１絶縁膜５の光学膜厚をｒ１とすると、−１．０１７３×ｒ２＋３６７．２９≦ｒ１≦−１．０１９７×ｒ２＋４６３．３４、であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置用基板の接続端子と外部接続部品とを熱圧着して接続する際の無機絶縁膜の破損による歩留まり低下を抑制する。
【解決手段】電気光学装置用基板（１０）は、無機絶縁膜と、外部接続部品に接続される接続端子（１４）とを備える。接続端子（１４）は、無機絶縁膜が設けられていない領域に設けられているので、外部接続部品を接続端子（１４）に熱圧着したとしても、無機絶縁膜の破損に起因する製品の歩留まり低下を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】反射層に起因する段差の解消、および増反射膜として適正な膜構成を有する誘電体多層膜の形成の双方を実現することのできる反射型の電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および当該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００では、第１基板１０の第１面１０ｘ側に複数の画素１００ａの各々に反射膜からなる画素電極９ａを形成した後、画素電極９ａの上層側に複数の画素１００ａに跨る誘電体多層膜１８を増反射膜として形成する。その後、誘電体多層膜１８の上層側に平坦化用絶縁膜１９を形成し、平坦化用絶縁膜１９を表面側から研磨する。このため、平坦化用絶縁膜１９の平坦な表面上に第１基板側配向膜１６を形成することができる。また、段差１５を平坦化用絶縁膜１９で埋める場合でも、画素電極９ａの上層側に平坦化用絶縁膜１９等が存在しない状態で誘電体多層膜１８を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】屈曲による水蒸気透過度の上昇が抑制されるガス遮蔽フィルムを提供する。
【解決手段】樹脂フィルム基材１０２と、樹脂フィルム基材１０２の表面に形成され、含有量０．１原子％以上３０原子％以下の水素を含み、かつ非晶質の酸化ガリウム膜１０４と、を有するガス遮蔽フィルム１００である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フレキシブル表示装置の収率及び製造工程の安定性を向上させたフレキシブル表示装置の製造方法及びその製造方法によるフレキシブル表示装置に関する。
【解決手段】本発明は、第１基板の一面に前記第１基板に対する選択エッチング比が１/２０以下である絶縁保護層を形成する段階と；前記絶縁保護層上に表示素子を形成する段階と；前記表示素子上にフレキシブル基板を接着する段階と；前記第１基板をエッチングする段階とを含むことを特徴とするフレキシブル表示装置の製造方法を提供する。更に、本発明は、フレキシブル基板と；前記フレキシブル基板上に形成された表示素子層と；前記表示素子層を保護する絶縁保護層を備えて、ガラス：前記絶縁保護層のエッチング比及びステンレス：前記絶縁保護層のエッチング比の中、少なくともいずれか一つは１：２０以上であることを特徴とするフレキシブル表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】シール材の硬化不良に伴うシミの発生の問題が解消された液晶表示装置を実現する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、互いに対向配置されたアレイ基板１およびＣＦ基板２と、アレイ基板１とＣＦ基板２との間に設けられた液晶層６と、液晶層６を連続して取り囲むように配されているとともに、アレイ基板１およびＣＦ基板２を結合するように配されたシール材３と、アレイ基板１の表面の一部に設けられたメタル配線４と、アレイ基板１上における、シール材３とメタル配線４との間に設けられた透明膜とを備え、透明膜は、異なる材料で形成された少なくとも二層を含み、上記少なくとも二層のそれぞれは、シール材３とメタル配線４との間に配されている。 （もっと読む）

【課題】Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各波長の光の透過率に優れ、その変動が抑制されると共に、生産性に優れる液晶プロジェクタ用基板を提供すること。
【解決手段】基板本体２と、前記基板本体２上に積層された積層膜３とを有する液晶プロジェクタ用基板１であって、前記積層膜３が前記基板本体２側から順に高屈折率膜３（Ｈ）と低屈折率膜３（Ｌ）とが交互に３層ずつ計６層積層されたものであり、かつ前記積層膜３の膜厚が１５５ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であるもの。 （もっと読む）