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Fターム[2H090LA05]の内容

液晶−基板、絶縁膜及び配向部材 (35,882) | 他の構成要素との関連 (6,253) | 光学要素 (2,731)

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Fターム[2H090LA05]に分類される特許

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【課題】 各層の屈折率もしくは厚みの最適化を図ることにより、黒表示での反射率をほとんど上げることなく、白表示での反射率のみを高くし、従来に比べてコントラスト比を高めることができるようにする。
【解決手段】 背面側基板10は、その屈折率が、液晶分子33の屈折率noよりも低くなっている。一方、表示側基板20は、その屈折率が、液晶分子33の屈折率noと同じか、もしくは高くなっている。より望ましくは、表示側基板20の屈折率が、散乱状態(白表示状態)における液晶層30全体の平均的な屈折率nLCと同じか、もしくは高くなっていると良い。このように屈折率を最適化することで、黒表示での反射率をほとんど上げることなく、白表示での反射率のみを高くし、従来に比べてコントラスト比を高めることができる (もっと読む)


【課題】各画素の液晶分子を、書込み電圧の印加により規則的に倒れ配向させてむらの無い良好な画像を表示することができ、しかも表示の焼付き現象を生じることが無い垂直配向型の液晶表示素子を提供する。
【解決手段】複数の画素電極3とTFT4とゲート配線11及びデータ配線12を設けたTFT基板1と、対向電極16を設けた対向基板2とのうち、対向基板2に、前記複数の画素電極3と対向電極16とが互いに対向する複数の画素の中心部にそれぞれ対応する複数の突起19を設け、このTFT基板1の対向電極16を、前記突起19を覆って形成した。 (もっと読む)


【課題】液晶パネル用対向基板の製造コストを低減する。
【解決手段】液晶パネル用対向基板の製造方法であって、ウェハ基板14をステッパに載置するウェハ載置工程と、アライメントマークパターン転写工程と、マイクロレンズ用パターン転写工程と、マイクロレンズアレイ102、及びアライメントマーク104、106を形成するレンズ形成工程と、マイクロレンズアレイ102を覆い、かつアライメントマーク104、106を覆わない遮光膜16を形成する遮光膜形成工程と、アライメントマーク104、106を用いて位置合わせを行いつつ、ウェハ基板14をステッパに載置する位置合わせ工程と、ブラックマトリックスパターン転写工程と、ブラックマトリックス18を形成するブラックマトリックス形成工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置用基板上にフォトリソグラフィー法によって液晶の配向制御用突起とスペーサー柱を簡便に形成する方法及びそれに用いるフォトマスクを提供する。
【解決手段】対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置を構成する、少なくとも配向制御用突起とスペーサー柱を有する液晶表示装置用基板の製造方法において、基板上に感光性樹脂組成物層を設ける工程、前記感光性樹脂組成物層を1種類のフォトマスクを介して露光、現像して配向制御用突起とスペーサー柱を同時に形成する工程、を含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法とする。このとき、フォトマスクは少なくとも2種類の透過性パターンを有するものであり、該透過性パターンのうち少なくとも1種は365nmにおける透過率が40〜80%以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 光透過度の低下を防止することができる非接着式無機垂直配向膜を有する液晶表示パネル及びそれを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 下部基板と、該下部基板上に形成され、ポリマー状炭素(PLC)薄膜で構成された第1バッファ層と、該第1バッファ層上に形成され、フッ素含有ダイヤモンド状炭素(F−DLC)薄膜で構成された第1配向膜とを有する第1基板と、前記第1基板に対向して配置され、上部基板と、該上部基板の下に形成されたポリマー状炭素薄膜で構成された第2バッファ層と、該第2バッファ層の下に形成され、フッ素含有ダイヤモンド状炭素薄膜で構成された第2配向膜とを有する第2基板と、前記第1基板と第2基板との間に介在し、前記第1配向膜及び第2配向膜に対する垂直方向と液晶分子の長軸との間にプレチルト角を形成する液晶層とを有する。 (もっと読む)


本発明は、膜(1,11;2,12)の間の接着により膜(1,11;2,12)が曲面形状に保持されるように、少なくとも第1の膜(1,11)を第2の膜(2,12)の表面に接着するステップを含む、曲面フラットパネルディスプレイ装置の製造方法に関する。本発明は、また、第1の膜及び第2の膜を備え、第1の膜及び第2の膜が互いに接着され、これにより、上記膜の間の接着がディスプレイ装置を曲面形状に保持するように配置されていることを特徴とする曲面フラットパネルディスプレイ装置に関する。
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【課題】
光配向を行う際、偏光光の二重照射に起因する配向不良を解消する。
【解決手段】
少なくとも一方が透明な一対の基板と、液晶層と、液晶層に電界を印加するための電極群からなり、電極群端部のテーパー角度が45度より大きく90度未満であり、電極群の厚さをx、端部のテーパー角度をθ、配向制御膜の膜厚をyとすると次式の関係y>x/2sin2θが成り立ち、配向制御膜がほぼ直線に偏光した光照射により配向制御能を付与可能な材料からなることを特徴とする液晶表示装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】 バフラビングによる配向性向上を図ることができる対向基板及びその製造方法、並びに液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 液晶5を挟んでTFT基板3と対向する対向基板4の製造方法において、石英ガラス基板13上に所定の開口部を有する遮光膜10を形成し、遮光膜上にSiO膜12を形成し、このSiO膜にCMP法で平坦化処理を施し、SiO膜上に透明電極11を形成し、透明電極上に有機性配向膜9を形成した後にバフラビングにより配向処理を施す。 (もっと読む)


【課題】 安価に表示特性を向上させた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】 表示領域19外の額縁領域20に、青色の着色層22および遮光層23を2層に積層する。遮光層23に抵抗値の低いものを用いることができるとともに、青色の着色層22には光学濃度の大きいものを用いることができる。遮光層23および対向電極32をトランスファ36で電気的に接続することにより、遮光層23および対向電極32が同電位となり、信号線間や走査線間および駆動回路配線間でのカップリングや電流のリークが起こり、駆動電圧が不安定になることも防止できる。液晶層13の駆動を電圧を印加していない状態で黒くなるノーマリブラック状態として、コントラストが非常に高く、額縁領域20からの光漏れもなく、画質品位を高くして表示できる。 (もっと読む)


【課題】 配向不良に起因するコントラスト低下を抑制する。
【解決手段】 単純マトリクス型の液晶表示素子1において、第1配向膜7のラビング方向DR1は、第1配向膜7下にある第1電極5の長さ方向DXと45度以下の角度を成す。格子状の遮光膜6の縦横の組子部分のうちの第1電極間間隙25を覆う第1組子部分23は、第1配向膜7のラビング方向DR1とは逆方向側に大きくなっており、第1電極間間隙25の該逆方向側にある第1電極5の側縁部を覆う。遮光膜9の第1組子部分23の幅WYが、第1電極間間隙25の幅WZ以上であり、かつ、第1組子部分23の前記逆方向側にある端から第1電極間間隙25の該逆方向側にある端までの距離WY2が、第1電極間間隙幅WZ以上である。これによって、転写に起因する配向不良に基く光漏れが防止される。 (もっと読む)


【課題】液晶材料中に溶解する水分量の低減により、比抵抗値向上と比抵抗値低下に付随して発生する表示不良率を低減した液晶表示装置の提供。
【解決手段】配向制御膜を形成した一対の基板と、該配向制御膜が液晶層に接して相対向し液晶層を挟持して成る液晶表示装置において、少なくとも一方の基板とその基板上に形成された配向制御膜との間に、吸水性有機物質を含む層構造を有することを特徴とする液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】 入射した光を適正に開口領域に導く構成を追加することにより、光透過率の向上を図ることができるとともに、TFTの誤動作を防止することのできる電気光学装置、この電気光学装置を用いた投射型表示装置並びに電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 電気光学装置100のアクティブマトリクス基板10には、この基板に入射した光のうち、画素100aの開口領域100bから外れてデータ線6a、走査線3a、容量線3bやTFT30に向かおうとする光を開口領域100bに導く光学面81が形成されている。このため、入射した光の利用効率が高く、かつ、光に起因してTFT30が誤動作するのを防止できる。 (もっと読む)


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