【課題】透光性基板に形成した溝の開口部を高い生産性をもって塞ぐことのできる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０には、画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する中空の溝２６０が形成されており、かかる溝２６０の開口部２６５は透光性絶縁膜２７によって塞がれている。このため、中空の溝２６０の側面２６１、２６２は、溝２６０内の媒質（真空）と第２基板２０の媒質との屈折率の差に起因する反射面となる。透光性絶縁膜２７は、シランガスを用いてＣＶＤ法により成膜したシリコン酸化膜であり、溝２６０の奥まで透光性絶縁膜２７が形成されることはない。それ故、溝２６０において反射面として機能する側面２６１、２６２の面積が広い。 （もっと読む）

【課題】入射する光を効率よく利用可能な電気光学装置、およびこれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置は、一対の基板と、一対の基板のうち素子基板１０に設けられた画素電極１５と、画素電極１５に対応して設けられた薄膜トランジスター（ＴＦＴ）３０と、一対の基板のうち対向基板２０に設けられた対向電極としての共通電極２３と、画素電極１５、共通電極２３、画素電極１５と共通電極２３との間に挟持された液晶層５０およびＴＦＴ３０を含む画素と、入射した光を画素に向けて集光させる集光素子としてのマイクロレンズ２６と、液晶層５０に対してマイクロレンズ２６と反対側に設けられると共に、ＴＦＴ３０と平面的に重なって配置され、液晶層５０を透過した光の一部を射出側に反射させる光反射部としてのプリズム１１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高い光利用効率を実現するとともに容易に製造可能な液晶装置及びプロジェクターを提供する。
【解決手段】第１基板２００と第２基板２０８との間に液晶層２０５を挟持してなる液晶装置１２０Ｒであって、格子状に形成された遮光層２０７ａと、第１基板２００の側から入射した光を遮光部の開口部２０７ｂの内側に集光させる集光レンズ２０１と、を含み、第２基板２０８には、遮光層２０７ａと平面視で重なる位置に、第１基板２００の側から入射して集光レンズ２０１、液晶層２０５、及び開口部２０７ｂを通過して拡がった光を集光させるプリズム素子２１１が配置され、プリズム素子２１１は、第２基板２０８に形成された溝２１１ａを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】使用者の状況（例えば背丈）に応じた視認性のよい表示画像を実現する。
【解決手段】出射光が偏光した画像表示装置１と組み合わせて用いられる画像制御装置１００であって、画像表示装置１の前面側に配置される光学素子５と、画像表示装置１００の使用者の高さを検出するセンサ７と、センサ７によって検出された使用者の高さに応じた電圧で光学素子５を駆動する光学素子駆動部６を備える。光学素子５は、第１基板及び第２基板と、第１基板上に設けられ、光学素子駆動部６と接続された第１電極と、第１基板上に設けられたプリズムアレイと、第１電極及びプリズムアレイの上側に設けられた第１配向膜と、第２基板上に設けられ、光学素子駆動部６と接続された第２電極と、第２電極の上側に設けられた第２配向膜と、第１基板と第２基板の間に設けられた液晶層を有する。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜が基板間導通用電極部の表面を覆っている場合でも、簡素な構成で、基板間導通用電極部と導電粒子とを導通させることのできる液晶装置、液晶装置の製造方法、および当該液晶装置をライトバルブとして用いた投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において、素子基板１０および対向基板２０からなる一対の基板のうち、対向基板２０では、配向膜２６が基板間導通用電極部２５ｔの表面を覆う無機配向膜である。但し、基板間導通用電極部２５ｔが導電粒子２０９ｂより低硬度のアルミニウム合金膜により形成されていることから、導電粒子１０９ｂが配向膜２６を突き破って基板間導通用電極部２５ｔに食い込み、基板間導通用電極部２５ｔと導通している。このため、対向基板２０では、全面に配向膜２６を形成することができ、マスク蒸着を行う必要がない。 （もっと読む）

【課題】表面凹凸を有するプリズム上において均一な液晶配向を有する液晶光学素子を提供する。
【解決手段】 液晶光学素子は、相互に対向する一対の第１及び第２の透明基板と、前記第１及び第２の透明基板上に形成され、前記第１及び第２の透明基板間に電圧を印加する一対の第１及び第２の透明電極と、前記第１及び第２の透明基板の一方の上方に形成されるプリズムを有するプリズム層と、前記プリズム層上に形成され、光配向により配向処理が施された配向膜と、前記第１及び第２の透明基板間に挟まれ、液晶分子を有する液晶層とを有し、前記第１及び第２の透明電極に印加する電圧を変化させることにより、前記液晶層の屈折率を変化させて前記プリズムの斜面と前記液晶層の界面を通過する光の屈折角が変化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】幅広い調光範囲を有する液晶調光素子を提供する。
【解決手段】液晶調光素子２６は、液晶層２６０ａ，２６０ｂにより構成される液晶層２６０を有する。液晶層２６０ａ，２６０ｂが配置された領域を配向領域２６８ａ，２６８ｂとする。液晶層２６０ａ，２６０ｂに含まれる分子Ｍａ，Ｍｂの配向方向は互いに異なる。液晶層２６０の一方の面側から入射した光は、配向領域２６８ａを通過し、液晶層２６０の他方の面側に設けられた反射膜２６４により反射されて配向領域２６８ｂを通過する。 （もっと読む）

【課題】光の利用効率を高めることができると共に比較的容易に製造可能な電気光学装置を提供する。
【解決手段】電気光学装置は、第１基板（１０）及び第２基板（２０）と、第１及び第２基板のうち入射光が入射される側の一方の基板上における画素領域の非開口領域に、互いに絶縁膜を介して積層された複数の反射部（２１０）とを備え、複数の反射部は、一方の基板の入射光が入射される基板面から遠いものほど、一方の基板上における平面的な幅が広い。 （もっと読む）

【課題】所定の視角範囲において外光反射の影響を受け難く、且つ最適なコントラストで画像を視認可能な表示装置、電子機器、投射型映像装置を提供すること。
【解決手段】表示装置１００は、表示パネル１２０と、表示パネル１２０の表示面１２０ａ側に設けられ、表示面１２０ａに対して傾斜した傾斜面１１０ｂを有するプリズム１１０と、を備え、表示面１２０ａに対するプリズム１１０の傾斜面１１０ｂの傾斜角度θｗは、表示面１２０ａの法線１２０ｖを基準とした傾斜面１１０ｂにおける外光の入射角度θ１と反射角度θ２のうち小さい方の角度に対して、表示面１２０ａから射出されプリズム１１０を透過した表示光Ｌの射出角度θｄが同等以上となるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】薄型化が促進されると共に、一枚板部と二枚板部との境界に沿って透明基板が割れることが抑制された表示パネル及びそれを用いた高品位の表示モジュールを提供する。
【解決手段】液晶表示パネル１の後ガラス基板１２の裏面における一枚板部１ａと二枚板部１ｂとの境界線Ｌbに対応する領域に、基板強度を増強するための補強プレート１７が貼着されている。この液晶表示パネル１は、後ガラス基板１２の裏面に設けられた後偏光板１６の上記境界線Ｌbに臨む縁辺を除く３方の縁辺を、フレーム３の側板３１に設けた段差面３２により支持されており、これにより、液晶表示パネル１の後ガラス基板１２の一枚板部１ａとこれを支持する段差面３２とが離間し、その間に、支持空間Ｓが確保されている。 （もっと読む）

【課題】凸部を有する表面に、斜め蒸着により無機材料からなる無機配向膜を形成すると、凸部の影となる部分に液晶分子の配列方向が異なるドメインが発生して、表示のむらの発生やコントラストが低下するなどの原因となった。
【解決手段】凸部６を有する基板表面に、無機材料を斜め方向から蒸着形成した第１無機配向膜７と、上記斜め方向と平面視反対方向の斜め方向から蒸着形成した第２無機配向膜８とを設けて、上記第１無機配向膜７が蒸着形成された方向の凸部６の側壁Ｗ１に接する基板表面の近接領域Ｒ１を、液晶層４と接するように露出させて、上記ドメインの発生を抑制した。 （もっと読む）

【課題】一方向に曲率を持つシリンドリカルな画面を有する液晶表示装置の画面輝度を均一にする。
【解決手段】一方向に曲率を持つシリンドリカルな画面を有する液晶表示装置において、バックライトの蛍光管３０のピッチを中央において、大きく、周辺において小さくすることによって、液晶表示装置の画面を中央から見た場合の輝度を均一にする。より好ましくは、中央の蛍光管のピッチＰ１を周辺の蛍光管のピッチＰ４よりも１０％以上大きくする。 （もっと読む）

【課題】ＶＡモード液晶表示装置の階調性の改善に寄与する光学補償フィルム、及び視野角特性、コントラスト及び階調性のいずれについても良好なバランスのよい表示特性のＶＡモード液晶表示装置の提供。
【解決手段】波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が２０〜１００ｎｍ、及び波長５５０ｎｍにおける厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）が６０〜１２０ｎｍであることを特徴とするＶＡモード液晶表示装置用光学補償フィルム：並びに一対の偏光子（１４ａ、１４ｂ）、該一対の偏光子の間に配置された液晶セル（ＬＣ）、及び該一対の偏光子のそれぞれと前記液晶セルとの間に配置された前記光学補償フィルム（１８ａ、１８ｂ）を有することを特徴とするＶＡモード液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】例えば、液晶装置等の電気光学装置の外形精度を高めることによってその歩留まりを向上させることができ、且つ電気光学装置の表示性能も向上させる。
【解決手段】第２基板（２２０）の両面のうち液晶層（５０）に面しない側の切り込み面（２２０ａ）から、第１外形線（２５０Ｘ）に沿って第１切り込み部（２２１）を形成する（第１工程）。したがって、第１切り込み部（２２１）は、切り込み面（２２０ａ）において、第１外形線（２５０Ｘ）に沿って不連続に、或いは部分的に形成されるのではなく、第１外形線（２５０Ｘ）に沿って連続的に延びるように形成される。より具体的には、第１切り込み部（２２１）は、シール材（５２）の複数の縁のうちＹ方向に沿って外部回路接続用端子（１０２）に近い側でＸ方向に延びる縁の近い位置に形成される。第１切り込み部（２２１）は、液晶装置（１）が完成した際には、面取り部（２７ａ）となる。 （もっと読む）

【課題】入射光を画素開口領域に導く反射性斜面を備えた断面Ｖ字形状の偏向溝が形成された偏向用基板において、偏向溝の交差部分で発生する画素開口領域内への大きなはみ出しを防止することのできる電気光学装置、この電気光学装置の製造方法、および当該電気光学装置を備えた投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において、対向基板２０に用いた透光性基板２０ｂは、断面Ｖ字形状の偏向溝２６を備えた偏向用基板であり、入射光を画素開口領域１００ｄに効率よく導くため、入射光の利用効率を高めることができる。偏向溝２６は第１方向に延びた第１延在部２６ｘと第２方向に延びた第２延在部２６ｙとを備えているが、第１延在部２６ｘには、第１延在部２６ｘと第２延在部２６ｙとのＸ字状交差を避けるための途切れ部分２６ｚが設けられている。 （もっと読む）

【課題】曲面状の液晶表示装置において、輝度のばらつきを抑制する。
【解決手段】複数の画素がマトリクス状に設けられ、一方向に湾曲した液晶表示パネル２０ａと、液晶表示パネル２０ａに対向するように一方向に湾曲したエッジライト方式のバックライト１０ａとを備えた液晶表示装置３０ａであって、バックライト１０ａは、各画素に対応する領域毎に光源からの光が出射面の法線方向に出射するための出射角調整部を有し、液晶表示パネル２０ａの周方向に沿った断面が形成する円弧の中心角は、バックライト１０ａの周面上の測定点における出射光の輝度を所要角度に亘って予め測定した輝度分布に基づいて、出射光の輝度が所定範囲に入る角度範囲の１／２以下に設定されている。 （もっと読む）

【課題】液晶装置において容易にコントラストを向上させる。
【解決手段】一対のＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０と、これらの基板１０及び２０間に挟持された液晶層５０とを備えており、対向基板２０は、平面的に見て画像表示領域１０ａが分割されてなると共に夫々が一つ以上の画素を含んでなる複数の部分領域Ｐｘ若しくはＰｘｇについて、該部分領域Ｐｘ若しくはＰｘｇ毎に、液晶層５０へ向かう入射光の光路の方向を液晶層５０の明視方向に近付ける側に曲げるように、液晶層５０に対して傾斜する傾斜界面２２０を構成する第１及び第２層２１０及び２３０が積層されてなる積層体部分２０ａを含む。 （もっと読む）

【課題】基板に対する膜厚分布補正を容易に実現し、膜厚均一性及び液晶配向性に優れた配向膜を得ることのできる成膜装置、成膜方法、液晶装置、並びにプロジェクタを提供する。
【解決手段】基板１５とターゲット１１との間に、基板１５に対する粒子の入射領域を規制する遮蔽板１２０と、基板１５に対する粒子の入射量を規制するコリメータ１１０とを有し、コリメータ１１０はターゲット１１の中心と基板１５の中心とを結ぶ線分ＰｔＰｓに沿って延在し、被成膜面１５ａに対して略垂直であるとともに線分ＰｔＰｓに対して交差した姿勢で配置される規制板１１１を基板１５の搬送方向に複数並設させてなり、規制板１１１はターゲット１１から見て基板１５の被成膜面１５ａと重なるように設けられ、基板１５のターゲット１１に遠い側よりも近い側に入射する粒子の密度を低減させる。 （もっと読む）

【課題】光学素子を有する基板を所定の位置で分割できる基板の分割方法、当該基板を備えた電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の基板の分割方法は、基板としてのマザー基板Ｗ２の切断予定ライン上に位置するマイクロレンズ３の位置を計測する計測工程と、計測結果に基づいてレーザ光１１３のマイクロレンズ３に対する照射間隔を求める演算工程と、演算結果に基づいてマザー基板Ｗ２にレーザ光１１３を照射する照射工程と、レーザ光１１３が照射されたマザー基板Ｗ２を分割する分割工程とを備えた。照射工程では、マイクロレンズ３の内部に集光点を結ぶように所定の間隔Ｌｍでレーザ光１１３を照射し、集光点において多光子吸収を発生させ、改質領域２１を形成する。 （もっと読む）