【課題】 パネル内に配置された柱状スペーサによって一対の基板を離間して液晶層を狭持しており、またパネル内に突起が形成されている液晶表示装置において、該柱状スペーサによる液晶配向への影響を緩和し、またスイッチング素子による液晶配向の乱れを緩和する。
【解決手段】 柱状スペーサが設けられている画素領域以外の画素領域において、該柱状スペーサが設けられている同じレイアウトに突起を形成する。また該柱状スペーサと該突起を平面視略同一形状とし、さらに該柱状スペーサと該突起をそれぞれが配置されている画素領域のスイッチング素子上に設ける。これにより該柱状スペーサが液晶配向に及ぼす影響と該突起が及ぼす影響を近らしめ、画素領域間での液晶配向の差異を軽減し、またスイッチング素子が液晶配向に及ぼす影響を軽減することができる。さらには押し圧等の外圧からスイッチング素子を保護することができる。 （もっと読む）

屋内，屋外何れの照明環境下においても明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低コストの半透過反射型液晶表示装置を提供する。基板１０上に複数のゲート配線１１と、該ゲート配線と直行するように配置された複数のソース配線１５とによって包囲される複数の画素と、この画素内に配置したゲート配線とソース配線の交差点付近に設けられたスイッチング素子１９と、このスイッチング素子に接続された画素電極１６を有し、透過型表示と反射型表示とを行う液晶表示装置で、画素電極は、透明な導電層と、この透明な導電層に電気的に接続した光反射機能を有する導電材１７とを有して構成されるというものである。
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【課題】 照明光の分光特性が不均一であっても、これに起因した色再現性の低下を抑えることができ、反射モード時にも透過モード時にも、発色がよく、視認性の高い表示ができるカラーの半透過反射型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶表示装置は、各々が異なる色に対応する複数のサブ画素５５１からなる画素６１５を有する液晶表示パネルと、照明装置とを具備し、液晶表示パネルは、半透過反射層と、各サブ画素５１１に対応する色のカラーフィルタ５２２とを具備し、半透過反射層は照明光を透過させる透光部を有し、複数のサブ画素５１１のうち少なくとも1つのサブ画素における透光部に対応する光透過領域の面積と、他のサブ画素における透光部に対応する光透過領域の面積とが異なるように、前記透光部が形成されている。
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【課題】本発明は、保護膜なしに薄膜トランジスタを保護すると共に、製造コストを低減できる薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る薄膜トランジスタアレイ基板は、ゲートラインに接続されたゲート電極と、前記ゲートラインと交差して画素領域を定義するデータラインに接続されたソース電極と、前記ソース電極間に介在されたチャンネルに対向するドレーン電極と、前記チャンネルの半導体層と、前記画素領域に位置し、前記ドレーン電極と接触するように実際に全ての画素電極が前記ドレーン電極に重畳される画素電極と、前記チャンネルに対応する前記半導体層上に形成され、前記チャンネルの半導体層を保護するためのチャンネル保護膜とを備える。 （もっと読む）

【課題】 良好な素子特性を有する非線形素子を備え、もって高画質表示を可能にした電気光学装置を歩留まりよく製造する方法を提供する。
【解決手段】 基板上に、第１導電層と絶縁層と第２導電層とを積層してなる非線形素子と、該非線形素子から延出されたコンタクト部と、前記非線形素子およびコンタクト部を覆う層間絶縁膜と、前記コンタクト部と電気的に接続された画素電極とを具備した電気光学装置の製造方法であって、本線部１０６ｂとコンタクト部３６を迂回する支線部１０６ａとを有する金属膜１０６をパターン形成する工程と、前記金属膜１０６を陽極酸化処理することにより前記金属膜１０６上に酸化膜からなる絶縁層を形成する工程と、前記支線部１０６ａの先端部を残して前記金属膜１０６を除去し、前記第１導電層および導電層を形成する工程と、前記絶縁層上に前記第２導電層およびコンタクト部３６を形成する工程とを含む製造方法とした。 （もっと読む）

【課題】 アクティブマトリクス型の液晶表示装置において、画素に設けられる補助容量の構成に関する。
【解決手段】 透明導電性被膜よりなる画素電極24の周辺部を覆うように、ブラックマトリクスを兼ねた金属のコモン電極22を配置する。ここでコモン電極22は、画素の周辺部を覆うブラックマトリクスと機能し、かつ、一定の電位に保持される。したがって、画素電極24とコモン電極22とが重なった領域が補助容量25として機能する。この補助容量は、絶縁膜23を介して構成される。そこで、この補助容量25をより大きなものとするために、コモン電極22を平坦化された表面を有する絶縁層21上に形成する。かくすることにより、絶縁層23を1μm程度にまで薄くしても、コモン電極と画素電極の間のピンホール、リーク等を防止することができ、より大きな補助容量が得られる。 （もっと読む）

【課題】低抵抗の導電物質からなる信号線を用いることにより、良好な接触特性を備える接触構造およびその製造方法を提供する。
【解決手段】接触部形成方法は、基板上に第１配線を形成する段階と、第１配線を覆い、第１配線の一部分を露出させるコンタクトホールを有する絶縁膜を形成する段階と、コンタクトホールによって露出する第１配線の表面に接触層を形成する段階と、接触層を介して第１配線と接続される第２配線を形成する段階とを含み、第１配線は、アルミニウムまたはアルミニウム合金で形成し、第２配線は、ＩＴＯまたはＩＺＯで形成する。 （もっと読む）

【構成】アクティブマトリクスディスプレイ装置を製造する方法は、硬質ガラス基板とその上に位置するプラスチック基板とを含む第１基板構造の製造を含む。プラスチック基板上に画素回路が形成される。ディスプレイのアクティブプレート及びパッシブプレートが実装された後のプラスチック基板から硬質ガラス基板（１２）のみが除去され、ディスプレイモジュール（１０）となる。この方法により、例えば標準的なＡＭＬＣＤ工場において最小の設備を追加するだけで、略従来の基板の取扱、処理、及びセルの作製を使用することが可能となる。
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アクティブマトリックス型表示装置は電気光学材料及びポリマー前駆体の混合物を有する光学層（7、9、11）を備える。アクティブプレートの上表面が、当該上表面が高部位及び低部位を備えるようにウェル（70）の配列を有し、光学層の混合物がアクティブプレート上に設けられる。光学層が、ポリマー前駆体を上表面（9）及び側壁（11）で構成されるポリマー層へと重合させるための刺激に曝される。それによって、表示画素を規定するために電気光学材料を重合物質とアクティブプレートとの間に閉じ込める。こうして、表示画素を規定する閉じ込められた電気光学材料の集まりが前記低部位上に設けられる。この方法は、アクティブプレートを処理する工程を用いてウェル（70）を規定する。このウェルは、閉じ込められた表示画素セルの位置合わせを実現するために用いられる高低差をもたらす。これにより、光学層の堆積及び露光の際の位置合わせマスクが不要となる。本発明の一実施形態において、光学層を刺激に曝す前のスタンピング工程にて、ポリマー前駆体に親和性を有する層（74）が前記高部位に設けられる。
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本発明は、薄膜トランジスタ表示板とこれを含む液晶表示装置及びその製造方法に関し、薄膜トランジスタ表示板は液晶表示装置や有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏ ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置などで、各画素を独立的に駆動するための回路基板において、画素電極またはゲート線及びデータ線の拡張部を外部回路と接続させるコンタクト補助部材を、ＩＺＯ及びＩＴＯの２重層で形成することに対する発明であって、ＩＺＯで形成された下部層とＩＴＯで形成された上部層を有するように形成する。前記のように画素電極またはコンタクト補助部材を二重層で形成することによって、エッチング過程で下部配線が損傷されることを防止し、グロステストの際に探針とコンタクト補助部材とのコンタクト抵抗の均一性を良好に確保することができる。また、コンタクト補助部材のみをＩＺＯとＩＴＯ二重層で形成することによって、グロステストの際に探針とコンタクト補助部材とのコンタクト抵抗の均一性を確保することができ、ＩＴＯの使用を減らすことによって製造単価を下げることができる。
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本発明は、基板と、少なくとも一つのUV硬化性導電性層と、画像形成性層とを含んでなる、ディスプレイ・デバイスに関する。また本発明は、基板と、第1の透明導電性層と、光変調層と、第2の導電性層とを含んでなるディスプレイ・デバイスであって、前記第2の導電性層がUV硬化性である、ディスプレイ・デバイスに関する。
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【課題】 画素電極近傍の光り抜けを防止できるアクティブマトリックス型液晶表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 アレイ基板に対して略平行な電界を発生させることにより、液晶分子の配列を変化させる、アクティブマトリックス型液晶表示装置において、アレイ基板１０上に、配線を形成した後透明な絶縁膜２０を成膜する工程と、該配線側面に、該配線の膜厚に対する比が０．５以上１．０以下の膜厚の前記絶縁膜を残すように、該絶縁膜をドライエッチングする工程と、前記配線の膜厚に対する比が０．２以下の膜厚の前記配線のみ、ウェットエッチングする工程とを含むようにした。 （もっと読む）

【課題】 反射面の凸凹形状を反射のし易い形状とすること。
【解決手段】 基板上に感光性を有する絶縁性樹脂を形成する工程と、前記樹脂表面に凸凹を形成するためのパターンが形成されたフォトマスクを用いて前記絶縁性樹脂を露光する工程と、露光された前記樹脂を現像する工程と、前記凸凹が形成された樹脂上に反射用の表示電極を形成する工程を備える表示用基板の製造方法において、露光工程は、前記フォトマスクの樹脂残存用パターンの周囲に樹脂の周囲に傾斜面を形成するための樹脂残存用補助パターン５３を形成したフォトマスク５を用いることを特徴とする。 （もっと読む）