【課題】 電気光学装置において、高品質な画像表示を行う。
【解決手段】 素子基板上の画像表示領域に、画素毎に形成された画素電極と、該画素を駆動するための駆動素子又は配線の少なくとも一部を構成し、画素毎に開口領域を少なくとも部分的に規定するように形成され、素子基板上で平面的に見て開口領域から分離されて開口部が形成された第１の上側遮光膜と、該第１の上側遮光膜と同一層に、第１の上側遮光膜と電気的に分離されて、素子基板上で平面的に見て前記開口部内に島状に形成され、画素電極と駆動素子との電気的接続を中継する第２の上側遮光膜と、駆動素子又は配線の少なくとも一部を構成し、第１の上側遮光膜の下層側に、素子基板上で平面的に見て開口部を覆うように且つ第１の上側遮光膜の幅より小さい幅を持つように形成された下側遮光膜とを備える。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタの製造に使用されるマスクの数を減少させた液晶表示素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１基板及び第２基板を提供する段階と、第１基板上にソース領域、ドレイン領域、チャネル領域及びストレージ領域を含むアクティブ層を形成する段階と、第１絶縁膜を形成する段階と、ゲート電極、ゲートライン、画素電極及びストレージラインを形成する段階と、第２絶縁膜を形成する段階と、第１絶縁膜と第２絶縁膜を介してソース領域とドレイン領域の一部をそれぞれ露出させる第１、第２コンタクトホールを形成する段階と、第２絶縁膜を介して画素電極を露出させる画素ホールを形成する段階と、第１コンタクトホールを介してソース領域と電気的に接続されるソース電極、及び前記第２コンタクトホールを介してドレイン領域と電気的に接続されるドレイン電極を形成する段階と、第１基板と第２基板の間に液晶層を形成する段階とを含む。 （もっと読む）

【解決課題】 薄膜トランジスタ基板の製造方法を開示する。
【解決手段】 本発明の製造方法は、基板100上にトランジスタ薄膜パターン120を形成する段階、保護膜140を形成する段階、フォトレジスト層を形成する段階、画素領域150aを形成する段階、互いに分離された画素電極170及び導電膜160を形成する段階、ストリッピング組成物184を利用してフォトレジストパターン150をストリッピングして、フォトレジスト表面に形成された導電膜160を基板100から分離するストリッピング段階、及び貯蔵タンク186内で分離した導電膜を溶解させる段階を含む。本発明の製造方法によると、薄膜トランジスタ基板の製造時に製造工程の効率を向上させることができ、ストリッピング組成物を再利用することができる。 （もっと読む）

【課題】 反射モードで表示した情報を判読しやすくした電気光学装置、およびこの電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】 電気光学装置において、マトリクス状に配置された画素５０は、カラー表示用のサブ画素５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）と、これらのカラー表示用のサブ画素とは異なる画像信号が供給されるモノクロ表示用のサブ画素５１（Ｍ）を備えている。カラー表示用のサブ画素５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）は透過モードで画像を表示し、モノクロ表示用のサブ画素５１（Ｍ）は反射モードで画像を表示する。 （もっと読む）

【課題】 工程数を増大させることなく、遮光性の優れた遮光層を形成可能な電気光学装置、この電気光学装置を備えた電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 電気光学装置において、異なる色に対応する画素５の境界領域において、遮光層２９は、下地層２２の溝状の凹部２２０の内部に形成された反射層２３の一部２３０と、異なる色に対応する反射表示用カラーフィルタ層２５１Ｒ、２５１Ｇ、２５１Ｂのうちの２つの重なり部分２５０とから構成されている。また、同一の色に対応する画素５同士の境界領域において、遮光層２９は、下地層２２の溝状の凹部２２０の内部に形成された反射層２３の一部２３０と、３色の反射表示用カラーフィルタ層２５１Ｒ、２５１Ｇ、２５１Ｂの重なり部分とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】 ＭＶＡ方式の利点と半透過型液晶方式の利点を兼ね備えた液晶表示装置を低コストで提供する。
【解決手段】 一対の基板間に挟持された液晶層４を有するとともに、透過表示部と反射表示部とを備え、液晶層４を構成する液晶分子が、電圧無印加状態で基板に対して略垂直方向に配向される液晶表示装置である。一対の基板のうちのいずれか一方の基板(例えば対向基板３)の対向面に、透過表示部に対応して配向分割用の誘電層１３が設けられるとともに、反射表示部に対応して液晶層４の厚さを制御する誘電層１４が設けられる。配向分割用の誘電層１３と液晶層４の厚さを制御する誘電層１４は、同一プロセスにより同時形成されている （もっと読む）

【課題】反射膜とカラーフィルタを備えた液晶装置等の反射特性の向上を図り、高品位な表示画像を得る。
【解決手段】ＴＦＤ素子基板の少なくとも反射表示領域には表面に微細な凹凸を有する樹脂散乱層が所定厚さにて形成され、表面に凹凸が反映された反射層が形成されており、その上には、所定厚さのオーバーコート層が形成されている。一方、カラーフィルタ基板には、画素電極と対向する位置に着色層が形成されている。素子基板とカラーフィルタ基板とは、カラーフィルタ基板側で反射表示領域に対応する位置に形成されたフォトスペーサにて規定の間隔に保持されている。これにより、透過表示領域に対応する液晶層の厚さが反射表示領域に対応する液晶層の厚さより大きく設定され、液晶表示装置はマルチギャップ構造を有している。以上の構成を有する液晶表示装置では、反射層と着色層とが分離して構成されるため、反射特性等の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】 ビデオ（映像）信号等の負荷、遅延ばらつきによる表示品位の低下を防止することができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 対向する１組の基板を必須として備え、一方の基板上に配線群を有し、他方の基板上に複数のマルチギャップ形成層及び対向電極を有する液晶表示装置であって、上記液晶表示装置は、配線群を構成する個々の配線同士でマルチギャップ形成層上の対向電極との重なり面積が略同一である液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】透過型液晶表示装置用のＴＦＴ基板２１におけるＴＦＴの動作周波数を飛躍的に高める。
【解決手段】ＴＦＴ基板２１は、シリコン酸化膜１と、シリコン酸化膜１の前面側表面に設けられた複数のＴＦＴとを備え、透過表示を行う液晶表示装置に用いられる。シリコン酸化膜１の背面側表面が露出することにより形成された透過領域を備え、ＴＦＴは、単結晶シリコン層２ａを備えている。 （もっと読む）

【課題】 製膜後の透明導電膜について、煩雑な工程を経ることなく、表面改質を行うことが可能であり、かつ、表面改質処理後の廃液を簡便な方法で処理し得る透明導電膜の製造方法を提供する。また、透明導電膜と異方導電性フィルム接着剤との間で、高い接着強度及び低い接触抵抗を長期間維持することが可能であり、かつ耐久性に優れた透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に設けられ、酸化亜鉛を含む透明導電膜について、酸性水溶液を用いて、その表層部を除去することを特徴とする透明導電膜の製造方法、及びその製造方法で製造された透明導電膜を含む透明導電基板である。酸性水溶液を用いて、透明導電膜の表面改質処理を行うことにより、全体として均一な化学組成を有し、かつ、その表面が粗面化された透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 塗膜に大気中にてプラズマを照射することにより、加熱処理や減圧雰囲気を必要とすることなく、低抵抗かつ可視光透過率の高い透明導電膜を形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜の形成方法は、導電性塗料を基材６上に塗布して塗膜７を形成し、この塗膜７上に大気圧下にて反応ガスを導入して該反応ガスをプラズマＰ化させ、このプラズマＰを塗膜７に照射して塗膜７を改質することにより、基材６上に透明導電膜９を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 アルミを含んだ上層と下層金属層との積層から加工されるドレイン電極は反射電極を兼ねており、しかも、ドレイン電極と画素電極とのコンタクト抵抗が低い薄膜トランジスタを備えた薄膜トランジスタアレイ基板をマスク枚数を追加することなく提供する。
【解決手段】 下層の金属膜と上層のアルミ膜の積層構造をなすドレイン電極の露光時に一部領域のみ露光量を変えることによりレジスト厚が他よりも薄い領域を形成した後に、通常どおりのパターニングを行う。その後、該領域のレジストを完全に除去し、露出したアルミ膜のみ選択エッチング除去する。ドレイン電極上の層間絶縁膜に形成するコンタクトホールを該領域に設け、該コンタクトホールを介して画素電極と電気的に接続させる。 （もっと読む）

【課題】 位相遅延素子とその製造方法、これを有する基板及びその製造方法、これを用いた光供給方法及び液晶表示装置が開示される。
【解決手段】 位相遅延素子は、底部と、底部に一体で形成され、反射層に対向する対向部を含み、底部に入射される第１光の波長を１／４位相遅延させた第２光を対向部を通じて反射層に供給し、反射層によって反射され対向部に入射される第３光の波長を１／４位相遅延させた第４光を底部を通じて出射する。これによって、背面光のうち、透過窓に印加されない光、特に、反射層によって反射されながら損失される光を効率的に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置において広視野角、高コントラスト、高透過率又は高反射率の両立を図る。
【解決手段】画素電極２００を備える第１基板１００と共通電極３２０を備える第２基板３００との間に、液晶層４００が封入された液晶表示装置であって、１画素領域内で液晶の配向を複数領域に分割するための配向制御部５００が、各画素領域内に設けられており、この配向制御部５００は、少なくとも、電極不在部５１２と、液晶層４００に向かって突出する斜面を有する突起部５１４とが、第１又は第２基板１００，３００の少なくとも一方において同一位置に重ねて形成され構成の配向制御部５１０を持つ。電極不在部５１２による電界の制御による液晶の配向制御と突起部５１４の斜面に対する液晶の配向制御の両方で液晶を確実にかつ小さい面積で配向分割する。 （もっと読む）

本発明は、コア軸線を有する細長状のコアの形態に基部（１１）を形成することにより、ファイバ又はフィラメント（１０）を得る方法に関するものである。電気的に変調しうる少なくとも１つの光学特性を有する物質（１３）で前記基部を直接又は間接的に被覆し、前記基部及び前記物質の双方又はいずれか一方と関連させて、前記コア軸線に対しほぼ平行な方向、又は前記コア軸線を中心とするほぼ円周的に延在する方向の電界を生じるように電気鼓舞手段（１２）を構成し、前記電界により前記物質の光学特性を電気的に変化させ、これによりファイバ又はフィラメントの外観を変化させるようにする。
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本発明は、回転炉または舟形炉（boat furnace）中で還元剤として水素を使用することにより、モリブデン酸アンモニウムまたは三酸化モリブデンを還元することによる高純度なＭｏＯ_２粉末に関する。加圧／焼結、ホットプレスおよび／またはＨＩＰによる粉末の圧密は、スパッタリングターゲットとして使用されるディスク、スラブまたは板を製造するために使用される。ＭｏＯ_２のディスク、スラブまたは板の形状物は、適当なスパッタリング方法または他の物理的手段を用いて支持体上にスパッタリングされ、望ましい膜厚を有する薄膜を提供する。薄膜は、透明度、導電率、仕事関数、均一性および表面粗さに関連してインジウム−酸化錫（ＩＴＯ）および亜鉛がドープされたＩＴＯの性質と比較可能かまたは前記性質よりも優れている性質、例えば電気的性質、光学的性質、表面粗さおよび均一性を有する。ＭｏＯ_２およびＭｏＯ_２を含有する薄膜は、有機発光ダイオード（OLED）、液晶ディスプレイ（LCD）、プラズマディスプレイパネル（PDP）、電界放出ディスプレイ（FED）、薄膜ソーラーセル、低抵抗オーミック接触ならびに他の電子デバイスおよび半導体デバイスに使用されてよい。 （もっと読む）

本発明は、基板と、少なくとも一つのUV硬化性導電性層と、画像形成性層とを含んでなる、ディスプレイ・デバイスに関する。また本発明は、基板と、第1の透明導電性層と、光変調層と、第2の導電性層とを含んでなるディスプレイ・デバイスであって、前記第2の導電性層がUV硬化性である、ディスプレイ・デバイスに関する。
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【課題】 銀を利用する低抵抗配線構造を提供する。
【解決手段】
絶縁基板上に、ゲート配線が形成され、ゲート絶縁膜がゲート配線を覆っており、ゲート絶縁膜上に半導体パターン半導体が形成されている。半導体パターン半導体及びゲート絶縁膜の上には、ソース電極及びドレーン電極とデータ線を含むデータ配線が形成されており、データ配線上には、保護膜が形成されている。保護膜上には、接触孔を通じてドレーン電極と連結されている画素電極が形成されている。この時、ゲート配線及びデータ配線は、接着層、Ａｇ層、及び保護層の３重層からなっており、接着層はクロムやクロム合金、チタニウムやチタニウム合金、モリブデンやモリブデン合金、タリウムやタリウム合金のうちのいずれか一つからなり、Ａｇ層は銀や銀合金からなり、保護層はＩＺＯ、モリブデンやモリブデン合金、クロムやクロム合金のうちのいずれか一つからなっている。 （もっと読む）