【課題】透明導電膜の形成方法に依らずに、その表面に凹凸を形成することが可能な透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の製造方法は、酸化物からなる透明導電膜を形成し、透明導電膜を水素含有ガスの還元雰囲気に晒すことで、透明導電膜の表面に凹凸を形成する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の周囲が薄暗い環境であっても、表示された画像が良好に認識でき
る液晶表示装置を提供することを課題の一とする。また、外光を照明光源とする反射モー
ドと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とした液晶表示装
置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】液晶層を介して入射する光を反射する画素と、透光性を有する画素を対にし
て複数設け、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両
モードでの画像表示をすればよい。また、光を反射する画素と、透光性を有する画素をそ
れぞれ独立した信号線駆動回路と接続すればよい。 （もっと読む）

【課題】半導体装置でパシベーション膜として一般的に使用されている減圧ＣＶＤ法による窒化シリコン膜は、膜厚の１０％程度のばらつきが生じるので、これを反射型液晶パネルに用いると、パシベーション膜の膜厚のばらつきによって反射率が大きく変化したり、液晶の屈折率が変動したりするという不具合がある。
【解決手段】基板（１）上に反射電極（１４）がマトリックス状に形成されるとともに各反射電極に対応して各々トランジスタが形成され、前記トランジスタを介して前記反射電極に電圧が印加されるように構成された液晶パネル用基板において、パシベーション膜（１７）として、膜厚が５００〜２０００オングストロームの酸化シリコン膜を使用し、入射光の波長に応じて膜厚を適当な値に設定するようにした。 （もっと読む）

【課題】段差部にて、絶縁膜の両側に形成される電極同士が短絡する恐れのない液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１の基板は、アクティブ素子と、前記アクティブ素子よりも上層に形成された第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜よりも上層に設けられた第１の電極と、前記第１の電極よりも上層に設けられた第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜よりも上層に設けられた第２の電極とを有し、前記第１の絶縁膜は、第１のコンタクトホールを有し、前記第２の絶縁膜は、前記第１の電極と前記第２の電極との間と、前記第１のコンタクトホール内とに一体的に形成されており、前記第１のコンタクトホール内の前記第２の絶縁膜には、第２のコンタクトホールが形成されており、前記第２の絶縁膜は、第１の膜厚で形成した後、前記第２の電極を形成する前に前記第１の膜厚よりも薄い第２の膜厚まで薄膜化されて形成される。 （もっと読む）

【課題】半透過型液晶表示装置において、反射電極と透明電極とを構成する場合、２つの
レジストマスクを用いるため、コストが高い。
【解決手段】画素電極となる透明電極と反射電極を積層させる。反射電極上に半透部を有
する露光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジ
ストパターンを形成する。レジストパターンを用いて反射電極と透明電極とを形成する。
以上により、１つのレジストマスクを用いて、反射電極と透明電極を形成することが可能
となる。 （もっと読む）

【課題】横電界駆動方式の反射モードを含む液晶表示装置において、コントラスト比を向上できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１０は、反射領域２１を含む。ＴＦＴ基板１４上には、反射領域２１に対応して、断面形状が凹凸を有するように形成された反射板１６が形成される。反射板１６上の絶縁層４１上には、液晶層１３を駆動するための画素電極３５及び共通電極３７が形成される。反射板１６の画素電極３５及び共通電極３７の下に対応する領域における凹凸の傾斜角は、画素電極３５と共通電極３７との間に対応する領域における凹凸の傾斜角よりも小さく設定される。これにより、液晶が動かない電極上を反射し通過する光が、観察者側に出射せず、コントラスト比を向上できる。 （もっと読む）

【課題】ブルージング現象、プーリング現象などを防止して映像の品質を向上させて改善された視野角を確保することのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は第１基板、第１基板の第１面上に配置される第１電極、第１基板に対向する第２基板、第１電極に対向して第２基板の第１面上に配置される第２電極、及び第１基板と第２基板との間に介在して液晶カプセルを含む液晶構造物を備える前記液晶表示装置は、ブルージング現象及びプーリング現象などを防止して向上された画像品質を有することができ、カラーフィルタまたは補償フィルムなしにフルカラー画像を具現することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、階調変化時の応答速度を低下させずに光透過率を向上させた液晶表示装置用基板及びそれを用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】対向配置される対向基板とともに液晶を挟持するアレイ基板上に形成されたドレインバスライン６と、ドレインバスライン６に接続されたＴＦＴ１６と、ＴＦＴ１６に接続され、ドレインバスライン６に平行に連設されたストライプ状電極８及びスペース１０とを備え、ドレインバスライン６近傍のストライプ状電極８の電極幅がそれより内方の内方電極１２の幅より狭く形成された画素電極３とを有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】作製工程を増やすことなく、凹凸形状の画素電極を作製することを目的とする。
【解決手段】凸部は、フォトマスクを用いて作製すると再現性の高いものが得られるため、画素ＴＦＴ１２０３の作製工程にしたがって作製すればよい。画素ＴＦＴ１２０３の作製と同様に積層される半導体層、ゲート絶縁膜および導電膜を積層して凸部を形成する。こうして形成された凸部および同一工程で形成された画素ＴＦＴ、駆動回路に含まれるＴＦＴを覆うように層間絶縁膜を形成する。凹凸を有する層間絶縁膜が形成されたら、その上に画素電極を形成する。画素電極の表面も絶縁膜の凹凸の影響を受け表面が凹凸化する。 （もっと読む）

【課題】 シール材の内側と外側とで基板間の距離を均一化することによって、セル厚ムラが生じず、表示領域全体で表示の均質化を図ることができる液晶表示用パネル及びそれを備える液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 薄膜トランジスタ基板とそれに対向する対向基板がシール材で貼り合わされ、該シール材で囲まれた領域の内側に液晶層が挟持された液晶表示用パネルであって、
該液晶表示用パネルは、シール材で囲まれた領域の内側及び外側にスペーサーが配置され、該薄膜トランジスタ基板は、スペーサーと重畳する領域に配置されたパネル構成部材の厚みが、シール材で囲まれた領域の内側と外側とで実質的に等しい液晶表示用パネル。 （もっと読む）

【課題】入射した外光を反射させて表示を行う液晶表示装置において、反射光の反射効率を向上させ、効率よく白表示を行うことを課題の一とする。より視認性の良好で高画質な液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】凹凸表面を有する画素電極層を用い、効率よく散乱させた反射光で白表示を行うことにより、反射光の反射効率を向上させ、効率よく白表示を行うことができる。また、より視認性の良好で高画質な液晶表示装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】表示された画像が良好に認識できる表示装置を提供することを課題の一とする。また、その表示装置を生産性良く作製する方法を提供することを課題の一とする。
【解決手段】基板上に液晶層を介して入射する光を反射する画素電極と、透光性を有する画素電極と、透光性を有する画素電極と重なる位置に側面が反射層で覆われた構造体を設ける。構造体は、透光性を有するエッチングストップ層上に形成され、エッチングストップ層は、構造体の下に透光層として残存する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アクティブマトリクス基板の作製工程を増やすことなく、反射電極の鏡面反射を防ぐ凸凹を形成する手段を提供することを課題とする。
【解決手段】
本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極（反射電極）の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部７０１、７０２の形成をＴＦＴの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極１６９の表面に凸凹を形成する。 （もっと読む）

【課題】液晶による光の散乱光を利用して表示を行う液晶表示装置において、使用者の目に優しい紙面に近い表示が実現できることを課題の一とする。より視認性の良好で高画質な液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）又は高分子ネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ）を液晶層に用いて、液晶による光の散乱光を利用して白表示（明表示）を行う。画素電極層が形成される画素領域に凹凸の構造体を設け、凸表面には可視光の光を反射する画素電極層（反射層）を設け、凹部には黒色層を設ける。白表示は液晶による光の散乱光を利用して行い、黒表示は、電界により透光性となった液晶層を介して凹部に設けられた黒色層による行う。 （もっと読む）

【課題】高速動作が可能な絶縁ゲート型ＦＥＴによる駆動回路で表示装置を形成し、さらに、単位画素当たりの画素電極の面積を小さくしても十分な保持容量が得られるアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】単結晶半導体を活性層とした絶縁ゲート型電界効果トランジスタによるアクティブマトリクス回路を備えた半導体装置において、前記絶縁ゲート型電界効果トランジスタ上に有機樹脂絶縁層を形成し、該有機樹脂絶縁層上に形成された遮光層と、該遮光層に密接して形成された誘電体層と、前記絶縁ゲート型電界効果トランジスタに接続された光反射性電極とから保持容量を形成する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の周囲が薄暗い環境でも画像表示が認識できる液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】１つの画素において、液晶層を介して入射する光を反射する領域と、透過領域とを両方有する画素電極を設け、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とする。外光はあるが、その明るさが不十分であり薄暗い場合は、バックライトを弱く点灯し反射モードで表示を行うことによって、画像表示を可能とする。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の周囲が薄暗い環境であっても、表示された画像が良好に認識できる液晶表示装置を提供することを課題の一とする。また、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とした液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】液晶層を介して入射する光を反射する画素と、透光性を有する画素を対にして複数設け、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示をすればよい。また、光を反射する画素と、透光性を有する画素をそれぞれ独立した信号線駆動回路と接続すればよい。 （もっと読む）

【課題】工程を単純化することのできる半透過型薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】第１及び第２基板を提供し、第１マスク工程で第１基板上にゲートラインを形成し、第２マスク工程で第１基板上のゲート絶縁膜とゲート絶縁膜上の半導体パターンと半導体パターン上の画素領域を定義するようにゲートラインと交差するデータラインとソース電極及びドレイン電極を形成し、第３マスク工程でデータライン上の有機絶縁膜とソース電極及びドレイン電極を形成し有機絶縁膜を貫通する透過ホールを形成し、第４マスク工程で有機絶縁膜を貫通してドレイン電極と接続された画素電極及び透過ホールを形成し、透過ホールの画素電極を露出させる反射電極を画素電極上に形成する液晶表示装置の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】凹凸形状を有する光反射部やフォトスペーサなどの立体構造物をＴＦＴ基板の絶縁膜における所定位置に好適な形状で形成した表示装置を提供する。
【解決手段】本液晶表示装置には、無段階に光透過率が変化する半透明部を有するハーフトーンマスクを使用したフォトリソグラフィ処理により、良好な散乱反射特性を有する所定の曲面形状を有するマルチギャップ部１７０上に形成される反射電極１７や、表示部において目立ちにくい立体形状を有するフォトスペーサ５１、ステップカバレッジ性を向上させることができるテーパ面を有するコンタクトホール１６を層間絶縁膜１９に形成することができる。このことから液晶表示装置の表示品質を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、配向規制用構造物を備えた反射型又は半透過型の液晶表示装置に関し、セル厚むらによる表示むらが視認されず、良好な表示品質の得られる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板２、４と、基板２、４間に封止された液晶層６と、基板２に形成され基板４側から入射する光を反射する反射板５０を有する反射領域を備えた画素領域と、反射板５０と同一の形成材料で形成されたソース／ドレイン電極を備え、基板２に形成されたＴＦＴと、ＴＦＴ上に形成された保護膜３１と、ゲートバスライン１２とドレインバスライン１４と保護膜３１とが積層された領域に形成され、基板２、４の双方に接触してセルギャップを維持する柱状スペーサ４４と、基板４の反射領域に柱状スペーサ４４と同一の形成材料で形成され、液晶分子の配向を規制する突起状構造物４３とを有するように構成する。 （もっと読む）