【課題】高解像度化が求められているプリント配線板等の回路基板の製造に適したフォトマスクを提供すること、及び、生分解性など分解性とすることが可能で、また、アルカリ処理により廃棄が可能な環境負荷が小さいフォトマスクを提供すること。
【解決手段】式−（Ｏ・ＣＨ_２・ＣＯ）−で表わされるグリコール酸繰り返し単位を７０モル％以上有するポリグリコール酸を含有するフィルムを少なくとも１層備えるフォトマスク、ポリグリコール酸を含有するフィルム及び他の熱可塑性樹脂を含有するフィルムとの積層フィルムを備えるフォトマスク、並びに、これらフォトマスクを使用する回路基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】好適なアルカリ性溶媒で迅速且つ効率的に除去することが可能な、プリントマスクに使用される固形インク組成物、該組成物から形成されるプリントマスク、及び該組成物を使用するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つの紫外線照射阻止剤とを含む組成物に由来するプリントマスクであって、アルカリ性溶液を用いて約３０秒以内に除去可能である、プリントマスク。 （もっと読む）

【課題】遮光材料を大量に含む場合であっても、保存安定性に優れ、且つ感度が高いフォトマスクブランクスを提供し、高解像度で画像形成可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）分子内に２個から４個のメルカプト基を有する多官能チオール化合物、（Ｄ）分子内に少なくとも２個以上のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、（Ｅ）バインダーポリマー、および（Ｆ）遮光材料、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。 （もっと読む）

【課題】高感度で、解像度に優れたパターンを形成しうるフォトマスクブランクスを提供し、細線等の微細パターンを有するものであっても、遮光膜の膜強度とマスク洗浄の溶剤に対する溶剤耐性に優れたフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内にビニルフェニル基を２個以上有する化合物、（Ｃ）重合開始剤、および（Ｄ）遮光材料、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。 （もっと読む）

【課題】膜の硬度および耐溶剤性が良好なフォトマスクブランクス、および、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（ｉ）側鎖に、下記一般式（ａ１）で表される部分構造を有するバインダーポリマー、（ｉｉ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、（ｉｉｉ）光重合開始剤、および（ｉｖ）遮光材料、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。
一般式（ａ１）中、Ｒ^ｌａ〜Ｒ^３ａはそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基等を表す。Ｘは酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ^１２ａ）−を表し、Ｒ^１２ａは、水素原子または一価の有機基を表す。
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【課題】高感度であり、保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、並びに、解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクの提供。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含有する感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。一般式（Ｉ）中、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−ＣＲ^１１Ｒ^１２−、又は−ＮＲ^１３−を表す。但し、Ｘ^１及びＸ^２の少なくとも一方は、酸素原子、硫黄原子、又は−ＮＲ^１３−である。Ｙは、酸素原子、硫黄原子又は＝ＮＲ^１４を表す。Ｒ^１〜Ｒ^１４は、それぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団を表す。Ｒ^１〜Ｒ^１４は、それぞれ互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成していてもよい。
【化１】
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【課題】遮光材料を大量に含む場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ、保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、該フォトマスクブランクスを用いて作製された高解像度で画像形成可能であり、耐溶剤性及び膜強度の高いフォトマスクを提供すること。
【解決手段】基板上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）２つ以上のエチレン性不飽和結合を有する複素環化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、及び（Ｅ）遮光材料を含有する感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス、及び該フォトマスクブランクスを用いて作製されたフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】高感度で硬化し、且つ、保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された高解像度で画像形成可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に、（Ａ）分子内に下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有する増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。式（１）中、Ｙは隣接する窒素原子および炭素原子と共に含窒素ヘテロ環を形成する非金属原子団を表す。Ｘは一価の非金属原子団を表す。
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【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。一般式（Ｉ）中、ＡはＳ原子又はＮＲ⁷を表し、Ｙは隣接するＡ及び炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶はそれぞれ独立に水素原子又は非金属原子からなる１価の基を表し、Ｒ⁷はアルキル基又はアリール基を表す。
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【課題】本発明は、高感度で、解像度に優れたパターンを形成しうるフォトマスクブランクス、及び前記本発明のフォトマスクブランクスを用いてなり、細線等の微細パターンを有するものであっても、遮光膜の膜強度とマスク洗浄の溶剤に対する溶剤耐性に優れたフォトマスクを提供する
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（ａ）で表される化合物と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクスである。


前記一般式（ａ）中、Ｒ^１〜Ｒ^６は、各々独立に、水素原子または１価の置換基を表す。
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【課題】高感度であり且つ保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクを提供すること。
【解決手段】基板上に（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）エチレン性不飽和化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、及び（Ｅ）遮光材料を含有する感光性組成物層と、ポリオキシアルキレン基を側鎖に含むポリビニルアルコール誘導体を含有する酸素遮断性層と、をこの順に有することを特徴とするフォトマスクブランクス、及び該フォトマスクブランクスを用いて作製されたフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材の変形又は破損を抑制でき、膜強度が高く且つガラス基材との密着性に優れた遮光層を形成できるフォトマスクの製造方法の提供。
【解決手段】透明ガラス基材上に、遮光材料、重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、及びバインダーポリマーを含む感光性層と、酸素遮断性層と、を順次備えるフォトマスブランクスを画像露光する露光工程と、透明基材上の未露光領域を現像液を用いて除去して、透明ガラス基材上に画像様の遮光層を形成する現像工程と、遮光層を３μｍ〜７μｍに極大波長を有する赤外線を放射する赤外線ヒーターで加熱する加熱工程と、を有するフォトマスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】凹凸の大きい遮光性レリーフ層を有するフォトマスクに適用する場合であっても、表面平滑性に優れた透明保護膜を形成しうるフォトマスク用ハードコート組成物、該組成物を用いてなるハードコート層を有するフォトマスクを提供すること。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）と、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）と、を含有し、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）の含有量が組成物の総量に対して０．１質量％〜３．０質量％である、紫外線硬化型或いは熱硬化型のフォトマスク用ハードコート組成物、並びに、パターニングしてなる遮光性レリーフ層上に、前記フォトマスク用ハードコート組成物を塗設してなるハードコート層と、を有するフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、高感度で、且つ保存安定性に優れたフォトマスクブランクスを提供することにあり、また、該フォトマスクブランクスを用いて作製された解像度、及び画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供することにある。
【解決手段】透明基材上に、増感色素、重合開始剤、エチレン性不飽和基を有する化合物、バインダーポリマー、遮光材料を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクスであって、前記増感色素が一般式（Ｓ１）〜（Ｓ５）で表される特定の化合物群より選ばれる少なくとも１種である。
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【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）等で表される少なくとも１つの光学増白剤、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、および、（Ｅ）遮光材料を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）等で表される化合物は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基等により置換されていてもよい。
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【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。一般式（Ｉ）中、Ｘは、窒素原子又は−Ｃ（Ｒ^６）−を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子又は一価の置換基を表す。但し、Ｒ^１〜Ｒ^８のうち隣接する２つ、Ｒ^８とＲ^５、Ｒ^７とＲ^６のうちの１又は２以上の組み合せで結合して環を形成していてもよい。
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【課題】遮光材料を大量に含む場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び該フォトマスクブランクスを用いて作製された高解像度で画像形成可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（A-1）ジアルキルアミノベンゼン系化合物または(A-2)一般式（Ｖ）、(VI)、および(VII）で表される化合物から選択される少なくとも１種の増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。
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【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。下記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子又は一価の置換基を表し、Ｒ^３は一価の置換基を表す。
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【課題】高感度であり且つセーフライト性、保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）分子内に下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有する増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。一般式（Ｉ）中、Ｒ^１はアルキル基を示し、Ｒ^２は水素原子又は１価の置換基を示す。
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【課題】高感度であり且つ保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクを提供すること。
【解決手段】透明基材上に、遮光材料、増感色素、光重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、及びバインダーポリマーを含有する感光性層と、２５℃における酸素透過性が５０ｍｌ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以上５００ｍｌ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下である酸素遮断性層と、をこの順に有することを特徴とするフォトマスクブランクス、及び該フォトマスクブランクスを用いて作製されたフォトマスク。 （もっと読む）