【目的】高精度なフォトマスクを実現するフォトマスクの製造方法を提供する。
【構成】荷電粒子ビーム描画装置に、化学増幅型レジストが塗布されたフォトマスクブランクスを搬入し、化学増幅型レジストに荷電粒子ビームを照射してフォトマスクブランクス上の複数の領域にパターンを順次描画し、フォトマスクブランクスを荷電粒子ビーム描画装置から搬出し、複数の領域毎に、描画開始からポストエクスポージャーベークの開始までの経過時間を算出し、複数の領域毎に算出される経過時間に基づき、複数の領域毎のポストエクスポージャーベークのプロセス条件を決定し、プロセス条件を複数の区画毎に変更可能なポストエクスポージャーベーク装置を用い、複数の領域毎に決定されたプロセス条件でポストエクスポージャーベークを行い、化学増幅型レジストを現像することを特徴とするフォトマスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】黒欠陥の発生を抑制できる転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜は、ドライエッチングが可能な材料からなり、前記薄膜上にレジスト膜が形成されたマスクブランクを準備する準備工程と、前記レジスト膜に転写パターンを露光処理する露光工程と、前記露光処理されたレジスト膜に対し、エッチング阻害要因物質の濃度が０．３ｐｐｂよりも高く、ｐＨが８以上である現像液を用いて現像処理を行う現像工程と、前記現像処理されたマスクブランクに対し、エッチング阻害要因物質の濃度が０．３ｐｐｂ以下であり、ｐＨが８以上である第１のリンス液を用いて処理を行う第１リンス工程と、前記第１リンス工程後、エッチング阻害要因物質の濃度が０．３ｐｐｂ以下であり、ｐＨが６より大きく８未満である第２のリンス液を用いて処理を行う第２リンス工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】低インパクトでの現像を可能にすると共に、現像時間の短縮及び現像精度の向上が図れ、かつ、回路パターン部に残渣するスカムの除去効果の向上が図れるようにした超音波現像処理方法及びその装置を提供する。
【解決手段】露光処理された基板Ｇの回路パターンＰ表面に現像液を接触例えば液盛りさせて、現像処理を行う現像処理において、現像液が接触した状態にある基板の回路パターンの近傍の該基板側面に発振面７ｂが当接される超音波振動子７Ｂと、該超音波振動子の高周波駆動電源３１とを具備する。基板表面に現像液を液盛りした後、基板の回路パターンの近傍の該基板側面に超音波振動子の発振面を当接した状態で、超音波振動子より発生する超音波振動が回路パターン上の現像液に伝播しながら現像処理を行う。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクにおいて、現像によるレジストパターン寸法の面内バラツキの抑制、且つ現像ローディング効果を抑制することができる現像ノズルおよび現像方法を提供する。
【解決手段】フォトマスク作製におけるレジスト現像工程で使用する平面状の現像ノズルであって、現像液の単位ノズルが被現像物であるフォトマスク基板側の平面に２次元配列されている現像ノズルとする。また、平面状の現像ノズルの大きさが、被現像物の大きさより大きい現像ノズルとする。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク製造における、現像工程のレジストパターン形成時に発生する現像ローディングを低減するための現像方法および現像装置を提供する。
【解決手段】実パターン１０５を形成したレジスト３１に現像液６１を塗布して現像処理するマスク基板１０１の現像方法において、マスク基板１０１に現像液濃度補正基板１００を対向させて、両者間に配置した現像液６１に、マスク基板１０１の実パターン１０５と現像液濃度補正基板１００のレジスト３１に形成した反転パターン１０６とをそれぞれ接触させ、現像液６１が現像処理するパターン１０５，１０６の密度分布を実パターン１０５及び反転パターン１０６により、マスク基板１０１及び現像液濃度補正基板１００のレジスト面延在方向において均一化させた状態で、それら実パターン１０５及び反転パターン１０６を同時に現像処理するようにした。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク石英基板の現像においてパターン線幅の面内均一性を改善する手段として、現像液の液盛りを形成した初期工程で液の攪拌を行うものであり、円形状の液盛りを保持しながら、スピンチャックが回転する現像装置及びそれを用いた現像方法を提供する。
【解決手段】フォトマスク石英基板のスピンチャックに円形状ガイドを有し、独立して昇降する基板保持プレートとスピンチャックが回転する構造を特徴とし、現像液の液盛りを円形状ガイド上に形成させた後、パドル状態を維持したままスピンチャックが基板を保持して、回転と停止を繰り返す動作を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜をスタティックな現像方式で現像したときに発生する異物付着を解決し、スタティックな現像方式の利点を活かしつつ、異物の少ないフォトマスク製造方法を提供する。
【解決手段】基板１に形成したレジスト膜３に露光処理を施した後、レジスト膜３に静置状態で現像液を付与することで露光部分を現像液中に溶解させるレジスト膜の現像方法において、現像のための溶解中に、基板１、異物７を帯電させることにより、電気的な反発作用によって異物７を脱離、付着を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】ＨＳＱレジストを用いた微細構造物の製造において、高い歩留まりで製品を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の微細構造物の製造方法は、（工程１）基板と、ハイドロシルセスキオキサンを含むレジスト層と、水溶性導電性高分子化合物を含む層とがこの順序で積層されてなる積層体を準備し、前記積層体に対して荷電粒子線の照射および現像を施してレジストパターンを備えた基板からなるレジストパターン付き基板を準備する工程、（工程２）走査型顕微鏡による前記レジストパターンの観察を行い、観察されたレジストパターン付き基板を、観察結果に基づいて良品または不良品に判別する工程、および（工程３）前記良品を用いて微細構造物を製造する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ＳＷＰにおいて、側壁部の形状の対称性を高め、被エッチング膜をエッチングするときの加工精度を向上させることができるマスクパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板上の被エッチング膜の上に形成されたシリコン膜よりなる第１のライン部が配列したシリコン膜パターンの表面を等方的に被覆するように、カーボン膜を成膜する成膜工程Ｓ１８と、カーボン膜を第１のライン部の上部から除去すると共に、第１のライン部の側壁部として残存するように、カーボン膜をエッチバックするエッチバック工程Ｓ１９と、第１のライン部を除去し、側壁部が配列したマスクパターンを形成するシリコン膜除去工程Ｓ２０とを有する。 （もっと読む）

【課題】 エッチング耐性および解像性に優れ、基板界面においても良好なパターン形状を与えるネガ型レジスト組成物、これを用いたパターン形成方法、ネガ型レジスト組成物の検査方法及び調整方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 （Ａ）アルカリ可溶性であり、酸の作用によりアルカリ不溶性となるベース樹脂、及び／又は、アルカリ可溶性であり、酸の作用により架橋剤と反応してアルカリ不溶性になるベース樹脂と架橋剤の組み合わせ、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有し、５０〜１００ｎｍの膜厚Ｘ（ｎｍ）を有するレジスト膜を成膜するためのネガ型レジスト組成物であって、アルカリ現像液に対する溶解速度が、０．０３３３Ｘ−１．０（ｎｍ／ｓｅｃ）以上０．０６６７Ｘ−１．６（ｎｍ／ｓｅｃ）以下の値となるものであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト等のデバイスにレジストパターンを形成する際、レジスト層の厚さを均一化して露光を行なうことで、良好なレジストパターンを得る。
【解決手段】基板９１に感光性のレジストを塗布してレジスト層９３を形成する（レジスト塗布工程）。次に、アッシング用処理ガスを、大気圧近傍の放電空間１３に通して吹出し、レジスト層９３に接触させる（大気圧リモートプラズマアッシング工程）。次に、レジスト層９３に部分的に光を照射する（露光工程）。次に、レジスト層９３に現像液５を接触させる（現像工程）。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト等のデバイスにレジストパターンを形成する際、レジスト層の表面の濡れ性を高め、現像の均一性を高める。
【解決手段】基板９１に感光性のレジストを塗布してレジスト層９３を形成する（レジスト塗布工程）。次に、レジスト層９３に部分的に光を照射する（露光工程）。次に、親液化用処理ガスを、大気圧近傍の放電空間２３に通して吹出し、レジスト層９３に接触させる（大気圧リモートプラズマ親液化工程）。次に、レジスト層９３に現像液５を接触させる（現像工程）。 （もっと読む）

【解決手段】透明基板上に１又は２以上の層で構成された膜が形成され、該膜の最表層がクロム系材料からなり、更に、該最表層上にドライエッチング用のエッチングマスク膜が設けられたフォトマスクブランクであって、上記エッチングマスク膜が、加水分解性シラン化合物の加水分解・縮合物、架橋促進剤化合物、及び有機溶剤を含む酸化ケイ素系材料膜形成用組成物を用いて成膜した膜厚１〜１０ｎｍの酸化ケイ素系材料膜であるフォトマスクブランク。
【効果】本発明のフォトマスクブランクのエッチングマスク膜は、塩素系ドライエッチングに対して高いエッチング耐性をもち、このエッチングマスク膜を用いてフォトマスクブランクを加工することにより、塩素系ドライエッチングであっても、薄いエッチングマスク膜で高精度の加工が可能である。 （もっと読む）

【課題】角部を有する開口部が形成されたパターニング層を有し、上記角部の解像性に優れたパターン形成体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１と、上記基板上に形成されたパターニング層２と、を有するパターン形成用積層体１０を用い（Ａ）上記パターニング層に、少なくとも一辺が直線である第１パターン形状の開口部を形成する第１パターニング工程と（Ｂ）、上記開口部が形成されたパターニング層に、少なくとも１辺が直線である第２パターン形状の開口部を形成する第２パターニング工程と（Ｃ）、を有するパターン形成体の製造方法であって、上記第２パターニング工程が、上記第１パターニング工程において上記パターニング層に形成された第１パターン形状の開口部における直線部位と、上記第２パターン形状における直線部位とが互いに交差するように、上記パターニング層に第２パターン形状の開口部を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材の変形又は破損を抑制でき、膜強度が高く且つガラス基材との密着性に優れた遮光層を形成できるフォトマスクの製造方法の提供。
【解決手段】透明ガラス基材上に、遮光材料、重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、及びバインダーポリマーを含む感光性層と、酸素遮断性層と、を順次備えるフォトマスブランクスを画像露光する露光工程と、透明基材上の未露光領域を現像液を用いて除去して、透明ガラス基材上に画像様の遮光層を形成する現像工程と、遮光層を３μｍ〜７μｍに極大波長を有する赤外線を放射する赤外線ヒーターで加熱する加熱工程と、を有するフォトマスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板の全面にわたって均一な品質の処理を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板を回転可能に保持する回転保持機構と、基板に処理液を吐出する吐出口を有する洗浄液ノズルと、前記洗浄液ノズルを平面視で基板Ｗの略中心と周縁との間で移動する洗浄液ノズル用移動機構と、回転保持機構と洗浄液ノズル用移動機構を制御して、基板を回転させ、かつ、処理液供給部を移動させて、処理液供給部から吐出された処理液を基板Ｗの全面に対して直接着液させる制御部と、を備えている。そして、処理液を基板Ｗの全面に対して直接着液させることで、基板Ｗの全面にわたって均一な処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】感光膜の感度にばらつきがあったとしても、所望のリソグラフィ尤度を確保し、パターンカテゴリ間の寸法差を抑えるとともに、パターン寸法を高精度に制御可能な現像方法、及びフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】この現像方法は、基板上に形成され、露光された感光膜を所定の膜厚まで現像する第１の現像処理を行う工程と、前記第１の現像処理によって現像された前記感光膜の前記所定の膜厚と前記感光膜の露光量から前記感光膜の感度情報を取得する工程と、前記感度情報から第２の現像処理を行った後のパターン寸法を予測し、前記第２の現像処理における現像条件の第１の許容範囲を決定する工程と、前記第１の許容範囲と、複数種のパターン間における現像処理後のパターン寸法のばらつき量から決定される前記第２の現像処理における現像条件の第２の許容範囲とを共に満たすように前記第２の現像処理における現像条件を決定する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】処理室内部の雰囲気が外部に漏洩することを確実に防止することができるとともに、処理室内のメンテナンスを外部から容易に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布処理室２１は、縦フレームＦａを含むフレームにより形成された開口部２１ｚを有する。フレームには開口部２１ｚを開閉可能にメンテナンス用扉Ｄが設けられる。開口部２１ｚを取り囲むように、フレームに溝付きトリム５０１が設けられる。溝付きトリム５０１は、開口部２１ｚがメンテナンス用扉Ｄにより閉塞された状態でメンテナンス用扉Ｄに接触することによりメンテナンス用扉Ｄに対向する溝５０１ｇを有する。開口部２１ｚがメンテナンス用扉Ｄにより閉塞された状態で、溝付きトリム５０１の溝５０１ｇとメンテナンス用扉Ｄとにより形成された空間の雰囲気が吸引ユニットにより吸引される。溝５０１ｇの内側の空間が外部に対して陰圧に保たれる。 （もっと読む）

【課題】シュリンク処理によるパターンの変形量を高精度で効率よく評価して、シュリンク処理の条件評価を行うこと。
【解決手段】本発明は、第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２とが所定の間隔で配置された評価用パターンＰを複数備えており、各評価用パターンＰとして、第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２との特定方向に沿った間隔が異なるよう設けられている露光用マスクである。また、この露光用マスクを用いて感光材料を露光、現像する工程と、感光材料の現像後の評価用パターンにおける第１のパターンと第２のパターンとの相対位置を計測して第１の計測結果を得る工程と、感光材料にシュリンク処理を施す工程と、シュリンク処理後の感光材料の評価用パターンにおける第１のパターンと第２のパターンとの相対位置を計測して第２の計測結果を得る工程と、第１の計測結果と第２の計測結果との差を得る工程とを有するプロセス評価方法である。 （もっと読む）

【課題】凹凸の大きい遮光性レリーフ層を有するフォトマスクに適用する場合であっても、表面平滑性に優れた透明保護膜を形成しうるフォトマスク用ハードコート組成物、該組成物を用いてなるハードコート層を有するフォトマスクを提供すること。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）と、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）と、を含有し、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）の含有量が組成物の総量に対して０．１質量％〜３．０質量％である、紫外線硬化型或いは熱硬化型のフォトマスク用ハードコート組成物、並びに、パターニングしてなる遮光性レリーフ層上に、前記フォトマスク用ハードコート組成物を塗設してなるハードコート層と、を有するフォトマスク。 （もっと読む）