【課題】例えば、強く結合する化合物の脱着は、比較的高いレーザー出力のフルエンスでのみ可能であるという公知技術水準の提示された欠点の少なくとも１つを凌駕する、公知技術水準と比較して改善された方法を提供する。
【解決手段】再印刷画像形成可能な印刷版の処理方法において非画像領域内での分子の除去（１１０ｂ、２２０ａ、２３０ｃ）が本質的に印刷用インキの塗工（１３０ｂ、２３０ｂ）とは異なる少なくとも１つの一次処理によって行なう。
【効果】被覆のための両親媒性分子としては、第１の２つの実施例において、アミン、カルボン酸またはスルホン酸（またはこれらのそれぞれのエステル）の化学的物質種が適しており、この化学的物質種の吸着特性は、僅かであり、この化学的物質種の表面に対する結合状態は、本発明による固定によって改善される。 （もっと読む）

【課題】ピックアップロール塗布装置を用いて長尺帯状支持体に、塗布欠陥もなく、表面形状も均一な安定且つ塗布性の良好な塗布面が得られ、性能も良好な平版印刷版原版の塗布・製造方法、及び平版印刷版原版を用いた印刷方法を提供する。
【解決手段】ピックアップロールにより塗布液をピックアップし、支持体に転写し塗布する平版印刷版原版の塗布方法において、該塗布液が磁性を有する金属粒子を含有し、該ピックアップロールの表面材質が非磁性材質であることを特徴とする平版印刷版原版の塗布方法。 （もっと読む）

【課題】現像不良、印刷時における表面、裏面からの異物による版面の傷、印刷物の汚れ防止性を有し、従来と同等の作業性を有する平版印刷版材料および印刷方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくとも親水性層と画像形成層をこの順に積層して有してなる平版印刷版材料において、該親水性層に遷移元素からなる平均粒径が０．０１μｍ以上、０．１０μｍ未満である金属酸化物粒子Ａ、平均粒径が０．１０μｍ以上、０．５０μｍ未満である金属酸化物粒子Ｂの２種類と、陽イオン交換容量が５０〜１５０ｍｅｑ／１００ｇである層状鉱物Ｃを含有し、該親水性層中の金属酸化物粒子Ａ及び金属酸化物粒子Ｂの質量比（Ａ：Ｂ）が１：１０から２：１の範囲であり、且つ、金属酸化物粒子の総量（Ａ＋Ｂ）と層状鉱物Ｃとの質量比（（Ａ＋Ｂ）：Ｃ）が、５０：１から５：１の範囲であることを特徴とする平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】水現像可能な合成ゴム系感光性樹脂層に対して感光性樹脂層と基材の両方と優れた接着力を示し、またコート液作成作業工程が簡便で製造時のコート膜の外観品位に優れた接着層を提供することである。
【解決手段】
（１）寸法安定性に優れる基材上に接着層を介して合成ゴム系感光性樹脂層を設けてなる感光性樹脂版材であって、該接着層が次の成分を含有することを特徴とする水現像可能な感光性樹脂版材。
（Ａ）有機溶剤に可溶な共重合ポリエステル樹脂
（Ｂ）多官能イソシアネート
（Ｃ）分子内に少なくとも一つ以上の水酸基を有する合成ゴム
（２）分子内に少なくとも一つ以上の水酸基を有する合成ゴムが数平均分子量５００〜１００００の液状ゴムであることを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂版材。
（３）分子内に少なくとも一つ以上の水酸基を有する合成ゴムが、ブタジエンゴムまたはイソプレンゴムであることを特徴とする請求項1〜２に記載の感光性樹脂版材。 （もっと読む）

【課題】明室で取り扱うことができ、現像や拭き取り操作が不要で、感度、解像度および種々の印刷特性に優れたＣＴＰ用の版に用いられる印刷用原版、およびそれを用いた印刷版、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】基板に、親水性ポリマー、架橋剤および光吸収剤、または、親水性ポリマー、架橋剤、光吸収剤および疎水性ポリマーを含有する架橋樹脂からなる感光層を設ける。光の照射により感光層の撥インク性が親インク性に変化する。 （もっと読む）

【解決手段】フォトレジスト材料を基板上に塗布する工程と、加熱処理後、ウエハーと投影レンズの間に屈折率１．４以上の液体を挿入して１８０〜２５０ｎｍの波長で露光する工程と、加熱処理後現像液を用いて現像する工程と、現像後のリンスを炭素数１〜４のアルコールを０．１〜５０質量％含む純水で行う工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によって、液浸リソグラフィーにおいてホールパターンの閉塞欠陥やブロッブ欠陥を削減できる。 （もっと読む）

【課題】 リフロー耐性及び耐薬品性に優れるポジ型感光性樹脂組成物及び半導体装置及び表示素子を提供することである。
【解決手段】 リフロー耐性及び耐薬品性に優れる半導体素子や表示素子の絶縁膜として使用されるポジ型感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）ジアゾキノン化合物、（Ｃ）一分子中にオキセタニル基を２個以上含有する化合物、（Ｄ）前記（Ｃ）のオキセタニル基の開環反応を促進する触媒を含む構成とする。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、良好なマスク忠実性、特にＬＥＲの小さいパターンを与えるレジスト材料。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物であり、かつ酸を発生する化合物（Ｂ）がフッ素含有スルホネートよりなるスルホニウム塩化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹はＨ又はメチル基。Ｒ²は含フッ素置換基。ｎは１又は２。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０．０１以上１未満であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１である。） （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮特性、ラビング耐性、耐熱性などの諸性能に優れたパターン状薄膜を形成することができ、焼成時の昇華物の発生およびＬＣＤ表示における焼き付きが抑制され、負荷荷重に対し塑性変形を起こしにくく、配向膜剥離液などの薬液に対する十分な耐性を備えたスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に２つ以上の重合性不飽和基を含む化合物に由来する重合単位を少なくとも１種含む共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物および（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有するスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】３５０〜４５０ｎｍの波長を有する露光光源に対する感度、解像度、密着性、及びサンドブラスト耐性に優れ、スカム発生量の少ない、アルカリ現像性感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５０００〜５０００００の熱可塑性共重合体：２０〜７０質量％、（ｂ）末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマーと、ポリイソシアネートと、活性水素を有する官能基とエチレン性不飽和基を分子内に共に有する化合物より得られるポリウレタンプレポリマー：２０〜７０質量％、（ｃ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：３〜７０質量％、（ｄ）ヘキサアリールビスイミダゾールを含む光重合開始剤：０．０１〜３０質量％、及び（ｅ）特定のピラゾリン化合物：０．００１〜１０質量％、を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】非露光部における溶解抑止効果が高く、高感度で現像性に優れるとともに、支持体への塗工性に優れるポジ型感光性樹脂組成物、半導体レーザーやＹＡＧレーザー等を用いた直接製版に好適なポジ型感光性平版印刷版及び該ポジ型感光性平版印刷版を用いた製版方法を提供する。
【解決手段】光吸収色素、アルカリ可溶性樹脂及び溶解抑制剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、前記溶解抑制剤は、カルボン酸及び／又はスルホン酸により変性された変性ポリビニルアセタールであるポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの上に保護膜を用いて保護膜と投影レンズの間に水を挿入する液浸リソグラフィー工程において、（１）保護膜層とフォトレジスト膜層とのインターミキシングを防止し、及び、（２）現像後のレジスト表面をより親水性化させることによって欠陥の発生を防止する。
【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてスルホン酸アミン塩を有する繰り返し単位と少なくとも１個のフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むことを特徴とするレジスト材料。 （もっと読む）

【課題】高アクリロニトリル含有率のポリマーラテックスの製造方法、ならびに該ポリマーラテックス、それを用いたフィルム、多層構造体、パターン形成材料、及び平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】全重合性モノマーのうちアクリロニトリルを７０質量％以上含有する重合性モノマーと、水と、重合開始剤と、を混合して乳化重合したのち、残存モノマーの留去を行うポリマーラテックスの製造方法。該ポリマーラテックス、及び該ポリマーラテックスを用いたフィルム、多層構造体及びパターン形成材料。繰り返し単位としてアクリロニトリルを含有するポリマーを主成分として含有する保護層を有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】パターン露光のみで基板表面に化学活性基パターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に、疎水性の光分解性基で保護され、光照射によりアミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基またはスルホ基から選ばれる親水性基を生起する感光性有機材料を付与して感光性有機材料層を形成する工程、前記感光性有機材料層に選択的にパターンの露光を行ない、露光部に前記親水性基を生起させる工程、前記露光後の感光性有機材料層上に親水性セグメントと疎水性セグメントとを有するブロックポリマーを付与し、前記露光により生起した親水性基の有る部分と無い部分に前記ブロックポリマー中の親水性セグメントと疎水性セグメントとを分離する工程、及び分離されたセグメントの一方を除去し、他方のセグメントからなるパターンを形成する工程を有するパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】レーザー光による描画に適し、スクリーン線数２００線以上の高精細ＡＭスクリーン印刷やＦＭスクリーン印刷、特にＦＭスクリーンを使用した中間調の平網ムラの均一性が良好な光重合型感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、光重合性の感光性層を少なくとも１層有し、さらに該感光性層上に保護層を有し、レーザで露光するネガ型の光重合型感光性平版印刷版原版において、該保護層がレーザ発光波長±５０ｎｍの光を吸収可能な染料または顔料を含有することを特徴とするネガ型の光重合型感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】半導体フォトレジスト並みのリソグラフィー性能を有し、低温キュアで機械物性に優れた硬化レリーフパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いる硬化レリーフパターンの製造方法、および該製造方法により得られた硬化レリーフパターンを含む半導体装置を提供すること。
【解決手段】（１）水酸基の一部が保護基によって保護された特定のポリマー、（２）感光剤、（３）分子内にメタクリロイル基もしくはアクリロイル基を含む化合物、及び（４）溶剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いる硬化レリーフパターンの製造方法、および該硬化レリーフパターンを含む半導体装置。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光に対して優れた反射防止効果を有し、またエッチング選択比が十分に高く、上層のフォトレジスト膜に形成するレジストパターン形状をほぼ垂直形状にできるフォトレジスト下層膜材料。
【解決手段】アルコキシシランの縮合物と、式（２）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物とを添加してなるフォトレジスト下層膜材料。
（もっと読む）

【課題】ｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で非画像部が良好に除去され、かつ画像部に優れた耐刷性を付与することのできる画像形成方法を提供すること。ｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液での現像工程を経て作製されるとともに、耐刷性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】 酸基の少なくとも一部を塩の形で含有するバインダーポリマーを含む感光層を有する画像記録材料を露光した後、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、非画像部の感光層を除去し、続いて、さらに該現像液よりも酸性の処理液で画像部の感光層を処理することを特徴とする画像形成方法および平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高感度であり、かつ、印刷性能に優れるＣＴＰ方式用の印刷版材料を提供することにある。
【解決手段】基材上に親水性層と感熱画像形成層とを該基材側からこの順に有する印刷版材料において、該親水性層が、（Ａ）粒子径が１μｍ以上、１０μｍ未満の範囲にあり、かつ、金属酸化物からなるコア粒子の表面を、光熱変換能を有する金属酸化物で被覆した複合粒子を含有することを特徴とする印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】高解像性のレジストパターンを形成できる新規なレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明は、支持体１上に、ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成する工程と、前記第一のレジスト膜２を、第一のマスクパターンを介して選択的に露光し、現像して第一のレジストパターン３を形成する工程と、前記第一のレジストパターン３が形成された前記支持体１上に、アルコール系有機溶剤を含む有機溶剤（Ｓ”）を含有するネガ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成する工程と、前記第二のレジスト膜６を、第二のマスクパターンを介して選択的に露光し、現像して前記第一のレジストパターン３よりも密なレジストパターンを形成する工程とを含むことを特徴とするレジストパターン形成方法である。 （もっと読む）