【課題】薬液処理後の雰囲気の置換効率を向上させることができる液処理装置を提供する。
【解決手段】本発明による液処理装置１０は、基板Ｗを水平に保持する基板保持部２１と、基板保持部２１に保持された基板Ｗを上方から覆い、基板保持部２１に保持された基板を覆う処理空間３０を形成する天板３２と、を備えている。処理空間３０においては、薬液ノズル８２ａにより、基板保持部２１に保持された基板Ｗに対して薬液が供給され、置換ノズル８２ｃにより、処理空間３０の雰囲気を置換するための置換ガスが処理空間３０に供給されるようになっている。また、置換ノズル８２ｃは、処理空間３０内に進出した進出位置と処理空間３０から外方に退避した退避位置との間で水平方向に移動する置換ノズル支持アーム８２ｒによって支持されると共に、置換ガスを上方に吐出するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンを所望の寸法に制御すると共に、欠陥の低減をはかり得る現像処理方法及び現像処理装置を提供することである。
【解決手段】所望のパターンが露光されたレジストを現像処理するための現像処理方法であって、レジスト膜１１にデバイスパターンと共にモニタパターン３０を露光しておき、モニタパターン３０を第１の現像条件で現像し、現像されたモニタパターン３０を検査して得られる検査画像から欠陥出現リスクを定量化する。これと共に、予め取得された欠陥出現リスク情報と欠陥数、及び欠陥数と現像条件の関係から、定量化された欠陥出現リスクの際に欠陥数が許容値以下となる第２の現像条件の許容範囲を決定する。そして、第２の現像条件の中でパターン寸法が所望の値となる第３の現像条件を決定し、該決定した第３の現像条件で前記デバイスパターンの現像を行う。 （もっと読む）

【課題】基板上のレジスト膜を高精度で現像しつつ、当該レジスト膜にレジストパターンを適切に形成する。
【解決手段】現像処理装置３０は、ウェハＷを収容して処理する処理容器１１０と、ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック１４０と、ウェハＷ上に有機溶剤を含有する現像液を供給する現像液ノズル１６０と、ウェハＷ上にリンス液を供給するリンス液ノズル１６４と、処理容器１１０内に酢酸ブチルガスを供給する処理ガス供給部１２２と、処理容器１１０内に窒素ガスを供給するパージガス供給部１２６と、処理容器１１０内の酢酸ブチルガスの濃度を測定する濃度測定器１３０と、処理容器１１０内のガス濃度を所定の濃度に制御する濃度制御部１３１と、処理容器１１０から流出した酢酸ブチルガスを再度処理容器１１０内に供給して循環させるガス循環部１５１と、を有する。 （もっと読む）

【課題】精密な現像処理を基板面内の各ショットに対して個別に行う。
【解決手段】現像処理装置は、ウェハＷを保持する基板保持部と、現像液を吐出する現像液吐出口が設けられ且つウェハの直径より短い複数の供給ノズル９０を、ウェハＷの一端側からウェハＷの他端側に向けてウェハの直径以上の長さにわたって隙間なく並べて形成された集合ノズルと、集合ノズルの長さ方向と直交する方向に、各供給ノズル９０を個別に水平移動させるシャフト８４を有している。供給ノズル９０がシャフトを移動する速度は、変速可能である。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理において、処理時間の短縮化を可能にして、処理能力を向上させることができる現像処理方法及び現像処理装置を提供すること。
【解決手段】表面にレジストが塗布され、露光された後の基板に有機溶剤を含有する現像液を供給して現像を行う現像処理方法において、基板を回転させながら（ステップＳ１）、現像液供給ノズルから基板の中心部に現像液を供給して液膜を形成する液膜形成工程（ステップＡ）と、現像液供給ノズルから基板への現像液の供給を停止すると共に、現像液の液膜を乾燥させない状態で基板を回転させながら、基板上のレジスト膜を現像する現像工程（ステップＢ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】レジストが塗布され、露光された後の基板を現像するにあたり、安定して基板に現像液を供給すること。
【解決手段】基板保持部を各々備えた複数の現像処理部と、これら複数の現像処理部に共通に設けられ、前記基板保持部に保持された基板の表面に現像液を帯状に供給するための第１の現像液ノズルと、各現像処理部にて第１の現像液ノズルから吐出された現像液の帯状領域の一端側が基板の中央に向いた状態で、基板の表面全体に現像液の液膜を形成するため、現像液の供給位置を基板の表面における中央部及び周縁部の一方から他方に移動するように第１の現像液ノズルを移動させる駆動機構と、第１の現像液ノズルにより現像液の液膜が形成された基板の中心部に、円形状または前記帯状領域よりも長さが短い帯状に現像液を供給する第２の現像液ノズルと、を備える現像装置を構成し、工程に応じてノズルを使い分ける。 （もっと読む）

【課題】横方向に一列に配置された基板保持部を備えた複数の液処理部と、これら液処理部に対して共用化された処理液ノズルと、を備えた液処理装置において、前記処理液ノズルからの基板への処理液の落下を抑え、歩留りの低下を防ぐこと。
【解決手段】横方向に一列に配列された複数のカップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に、移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部が設けられている。従って、処理液ノズルが基板に処理を行うために待機部と各液処理部とを移動するにあたって、基板上への処理液ノズルからの前記液滴の落下を防ぐことができる。その結果として歩留りの低下を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】液処理装置において、前記処理液ノズルに付着した処理液からの析出物により基板が汚染されることを防ぎ、歩留りの低下を防ぐこと。
【解決手段】カップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成される液処理部と、処理液ノズルと、前記カップ体の外側に設けられ、前記処理液ノズルを待機させるための待機部と、前記液処理部の各々の上方領域と、待機部との間で処理液ノズルを移動させるための移動手段と、前記待機部に設けられ、処理液ノズルに洗浄液を供給して洗浄する洗浄液供給手段と、前記待機部に設けられ、当該待機部で待機する処理液ノズルから垂れた前記洗浄液の液滴に接触して、当該液滴を処理液ノズルから除去する液取り部と、を備えるように装置を構成し、析出物を洗い流し、さらに使用した洗浄液の液滴を除去する。 （もっと読む）

【課題】基板上のレジスト膜を高精度で現像し、当該レジスト膜に形成されるレジストパターンの寸法精度を向上させる。
【解決手段】現像処理装置３０の現像液ノズル１３３には、当該現像液ノズル１３３に現像液を供給する現像液供給ブロック１３６が接続されている。現像液供給ブロック１３６は、内部に現像原液を貯留する現像原液供給源１５０と、内部に有機溶剤を貯留する有機溶剤供給源１６０と、現像原液と有機溶剤を混合して現像液を生成する現像液供給源１７０とを有している。有機溶剤には、現像原液に可溶であり、且つ現像原液と中和反応しないものが用いられる。現像液は、現像原液に対する有機溶剤の濃度が５質量％以下になるように、現像原液と有機溶剤が混合されて生成される。 （もっと読む）

【課題】基板の処理を行う処理部を複数備えた基板処理装置において、複数の基板処理を効率よく行う。
【解決手段】現像装置３０は、ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック２１０と、ウェハＷの側方を囲むように設けられたカップ体２２０とを備えた処理部１３０と、ウェハＷ上に第１の現像液を吐出する第１の現像液ノズル１５１と、ウェハＷ上に第２の現像液を吐出する第２の現像液ノズル１５２と、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２を共に支持する共有アーム１５０とを有している。第１の現像液ノズル１６１から斜め下方に吐出される第１の現像液の吐出方向と第２の現像液ノズル１６２から斜め下方に吐出される第２の現像液の吐出方向は、平面視において、それぞれウェハＷの回転方向と同一方向である。 （もっと読む）

【課題】現像液塗布時の衝撃によるレジストパターンの崩壊を防止し、且つ現像ローディング効果を抑制することが可能な現像方法および現像装置を提供する。
【解決手段】フォトマスク作製におけるレジスト現像工程において、フォトマスク基板１１の一辺以上の長さを有し、且つその長さ方向に複数の現像液噴出口１３がフォトマスク基板１１側に配列形成されている現像ノズル１２を用い、この現像ノズル１２をフォトマスク基板１１上で上記ノズル１２の長さ方向と直角な方向にスキャン（矢印Ａ方向）を行いながらフォトマスク基板１１を低速回転（矢印Ｂ方向）させ、前記現像液噴出口１３から現像液を噴出して現像を行なう。 （もっと読む）

【課題】液浸保護膜、又は撥水性レジストを含め、広範な種類の膜が成膜された基板を露光し、現像する場合にも、基板表面内でのＣＤ値の均一性を向上させることができ、処理時間を短縮することができる現像処理方法を提供する。
【解決手段】表面にレジストが塗布され露光された後の基板を回転させながら現像処理する現像処理方法において、基板Ｗの上方に配置された現像液ノズル４ｂを基板Ｗの中心側から外周側へ移動させ、現像液ノズル４ｂから基板Ｗの表面に現像液Ｄを供給する現像液供給ステップと、基板Ｗの上方に配置された第１のリンス液ノズル４ｃを基板Ｗの中心側から外周側へ移動させ、第１のリンス液ノズル４ｃから基板Ｗの表面に第１のリンス液Ｒを供給する第１のリンス液供給ステップとを有し、第１のリンス液ノズル４ｃが現像液ノズル４ｂよりも基板Ｗの中心側に配置された状態を保ったまま、第１のリンス液供給ステップを現像液供給ステップと同時に行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】現像時に、処理液をミスト状に発生させてレジスト膜の現像を行うために、スプレー現像のような現像液の液滴によるレジストへのインパクト（衝撃）や、パドル現像のような基板に盛った現像液を振り切る際の現像液との摩擦によるパターン倒壊がなく、良好なレジスト膜のパターンを形成するパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。
【解決手段】フォトマスクまたは半導体製造の微細加工におけるレジストのパターン形成方法において、現像液及び処理液をミスト状に発生させてレジストのパターン形成を行うことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥を抑制する被処理体の処理方法及び被処理体の処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の被処理体の処理方法は、被処理体１０のパターン転写膜２にパターン潜像を転写する工程と、パターン転写膜２上に現像液４１を供給してパターン転写膜２の選択的除去を行いパターン転写膜２にパターンを形成する工程と、パターンの形成後、被処理体１０上に洗浄液４２を供給する工程と、洗浄液４２が供給された被処理体１０に対してブローノズルヘッド１９に形成されたブローノズル３１からガスを吹き付けながら、パターンレイアウトに応じて設定された方向Ａにブローノズル３１を移動させ、その方向Ａに洗浄液４２を流動させる工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の現像処理を基板面内で均一に行い、レジストパターンの寸法の基板面内における均一性を向上させる。
【解決手段】現像液ノズル３３と純水ノズル４０からウェハＷの中心部に現像液Ｄと純水Ｐをそれぞれ供給し、現像液Ｄと純水Ｐの混合液ＣをウェハＷ全面に拡散させる（図４（ａ））。純水ノズル４０からウェハＷの中心部に純水Ｐを供給し（図４（ｂ））、純水ＰをウェハＷ全面に拡散させる（図４（ｃ））。現像液ノズル３３からウェハＷの外周部に現像液Ｄを供給した後（図４（ｄ））、現像液ノズル３３をウェハＷの中心部に移動させながら、ウェハＷに現像液Ｄを供給する。そして、ウェハＷ全面に現像液Ｄを拡散させ、ウェハＷの現像処理を行う（図４（ｅ））。 （もっと読む）

【課題】液処理装置の総排気量の増大を抑えながら、基板保持部の配列数を増加すること。
【解決手段】ｎ個（ｎは３以上の整数）のカップ体４を、夫々第１のダンパ７２が設けられた複数の個別排気路７と、これら複数の個別排気路７の下流側に共通に接続される共通排気路７３を介して排気量Ｅで吸引排気するにあたり、薬液ノズル５がウエハＷと対向する設定位置にある一のカップ体においては、当該カップ体側から外気を第１の取り込み量Ｅ１で取り込み、他の残りのカップ体においては、当該カップ体側から第１の取り込み量Ｅ１よりも小さい第２の取り込み量Ｅ２で取り込み、かつカップ体４側及び分岐路７６側の両方の外気の取り込み量が（Ｅ−Ｅ１）／（ｎ−１）となるように第１のダンパ７２を構成する。 （もっと読む）

【課題】疎水化した基板上のレジスト膜表面の濡れ性を改善し、効率的な現像液膜の形成を可能にすると共に、現像処理の安定化を図れるようにした現像処理方法及び現像処理装置を提供する。
【解決手段】スピンチャック４０によって水平保持されたウエハＷを回転させ、該ウエハ表面に現像液を供給して現像処理を施す現像処理方法において、現像処理工程の前に、回転する基板表面の中心近傍に位置する現像ノズル５２から現像液１００を供給すると同時に、現像ノズルよりもウエハ外周側に位置する純水ノズル５３から第２の液である純水２００を供給し、ウエハの回転に伴ってウエハの外周側に流れる純水によって形成される壁３００によって現像液をウエハの回転方向に広げるプリウェット処理を行う。これにより、疎水化したウエハ上のレジスト膜表面の濡れ性を改善することができ、効率的な現像液膜の形成を可能にすると共に、現像処理の安定化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】現像後のリンス処理における現像液濃度の偏りに起因するムラを防止する現像装置及び現像方法の提供。
【解決手段】基板上に現像液を供給する現像液供給機構と、基板上にリンス液を吐出するリンスノズル２とリンスノズルにリンス液を供給するバッファタンク３とバッファタンクに純水を供給する純水配管７及びエアオペレートバルブ６とバッファタンクに現像液を供給する現像液配管４及びエアオペレートバルブ５とバッファタンク内のリンス液の現像液濃度を測定し、現像液濃度が所望の値になるようにエアオペレートバルブ５、６の開閉を制御する現像液濃度測定部８とを少なくとも備えるリンス液供給機構とを少なくとも備え、現像液濃度測定部８は、基板上に現像液が供給された後、リンス液を吐出する際に、リンス液の現像液濃度をリンス処理の時間経過に伴って徐々に低下させる。 （もっと読む）

【課題】処理液噴射ノズルで基板全体に処理液をかけて、基板を効率的に処理する。
【解決手段】基板支持台に支持された基板の表面に処理液をかけて当該基板の表面の処理を行う液処理装置である。この液処理装置に、前記基板支持台に支持された前記基板の上方に当該基板と一定間隔を空けて臨まされる処理液噴射ノズルと、当該処理液噴射ノズルを支持して、少なくとも前記基板支持台上の前記基板の上側を避けた近傍の退避位置と前記基板支持台上の前記基板の上側位置との間で回動する回動アームと、当該回動アームに設けられ前記処理液噴射ノズルを前記基板に臨ませた状態で支持するノズル支持機構とを備えた。 （もっと読む）

【課題】吐出供給および噴霧供給のいずれによっても基板に現像液を供給することができる現像装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに現像液を吐出する吐出供給が可能で、かつ、現像液の液滴を窒素ガスとともに基板Ｗに噴射する噴霧供給が可能なノズル５と、ノズル５に現像液を供給する現像液配管１１と、ノズル５に窒素ガスを供給するガス配管２１と、各配管１１、２１に設けられる開閉弁１５、２５と、各開閉弁１５、２５を開閉させる制御部４１を備えている。制御部４１は各開閉弁１５、２５を開閉させることで、吐出供給と噴霧供給を切り換えて基板Ｗに現像液を供給できる。これにより、、多様なバリエーションで基板を現像することができので、種々の基板に対してそれぞれ適切に現像することができる。 （もっと読む）